本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體集成電路的
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體而言，涉及一種光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)及光掩膜的缺陷檢測(cè)方法。
背景技術(shù)：
：在半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程中，其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個(gè)過(guò)程，即采用光掩膜(又稱為光罩)進(jìn)行光刻的過(guò)程，即通過(guò)一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓表面薄膜的特定部分除去，以在晶圓表面上形成帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜(特征圖形)的過(guò)程。在采用光掩膜進(jìn)行光刻的過(guò)程中，光掩膜的表面缺陷(例如表面顆粒(PIP)等)會(huì)嚴(yán)重影響曝光過(guò)程，甚至?xí)?dǎo)致曝光過(guò)程失效。目前，通常采用每隔數(shù)小時(shí)或數(shù)天進(jìn)行的光掩膜檢測(cè)(masksurfaceinspection)才能發(fā)現(xiàn)光掩膜的表面上的缺陷。申請(qǐng)人對(duì)光掩膜的表面缺陷進(jìn)行了大量研究之后發(fā)現(xiàn)，40％的表面缺陷是在手工操作過(guò)程中產(chǎn)生的(Type-1SC)，而60％的表面缺陷是由機(jī)器設(shè)備造成的(Type-2SC，即擦傷缺陷)，而且擦傷缺陷更難被發(fā)現(xiàn)。為了提高發(fā)現(xiàn)擦傷缺陷的幾率，申請(qǐng)人嘗試提高缺陷的粒徑預(yù)警值(由原先的50微米提高至10微米)，然而這樣會(huì)引起明顯增大缺陷的誤報(bào)率。針對(duì)上述問(wèn)題，本領(lǐng)域中還沒(méi)有解決上述問(wèn)題的有效辦法。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本申請(qǐng)旨在提供一種光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)及光掩膜的缺陷檢測(cè)方法，以提高光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)，該缺陷檢測(cè)系統(tǒng)包括：缺陷掃描單元，用于檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值；缺陷分析單元，用于計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷。進(jìn)一步地，缺陷分析單元還用于：將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于缺陷相鄰距離設(shè)定值的各缺陷作為一個(gè)整體缺陷。進(jìn)一步地，缺陷檢測(cè)系統(tǒng)還包括報(bào)警單元，當(dāng)檢測(cè)出擦傷缺陷時(shí)報(bào)警單元發(fā)出報(bào)警。進(jìn)一步地，報(bào)警單元通過(guò)電話或郵件的方式發(fā)出報(bào)警。本申請(qǐng)還提供了一種光掩膜的缺陷檢測(cè)方法，該缺陷檢測(cè)方法包括以下步驟：檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值；計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將 沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷。進(jìn)一步地，擦傷缺陷寬度容忍值為0.15～0.2mm。進(jìn)一步地，缺陷檢測(cè)方法還包括：將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于缺陷相鄰距離設(shè)定值的各缺陷作為一個(gè)整體缺陷。進(jìn)一步地，缺陷相鄰距離設(shè)定值為0.1～0.14mm。進(jìn)一步地，缺陷檢測(cè)方法還包括：檢測(cè)出擦傷缺陷后發(fā)出報(bào)警，以通知操作人對(duì)擦傷缺陷進(jìn)行人工確定。進(jìn)一步地，每隔一小時(shí)；或者每隔一天；或者不定時(shí)執(zhí)行缺陷檢測(cè)方法。應(yīng)用本申請(qǐng)的技術(shù)方案，本申請(qǐng)通過(guò)提供一種光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)和缺陷檢測(cè)方法，并通過(guò)檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值，以及計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷，從而提高了光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率。附圖說(shuō)明構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的說(shuō)明書(shū)附圖用來(lái)提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解，本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本申請(qǐng)，并不構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。在附圖中：圖1示出了本申請(qǐng)實(shí)施方式所提供的光掩膜的缺陷檢測(cè)方法的流程示意圖；以及圖2示出了本申請(qǐng)實(shí)施方式所提供的光掩膜的缺陷檢測(cè)方法中，光掩膜的表面上的缺陷的位置關(guān)系示意圖。具體實(shí)施方式需要說(shuō)明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本申請(qǐng)。需要注意的是，這里所使用的術(shù)語(yǔ)僅是為了描述具體實(shí)施方式，而非意圖限制根據(jù)本申請(qǐng)的示例性實(shí)施方式。如在這里所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式也意圖包括復(fù)數(shù)形式，此外，還應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)在本說(shuō)明書(shū)中使用術(shù)語(yǔ)“包含”和/或“包括”時(shí)，其指明存在特征、步驟、操作、器件、組件和/或它們的組合。為了便于描述，在這里可以使用空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用來(lái)描述如在圖中所示的一個(gè)器件或特征與其他器件或特征的空間位置關(guān)系。應(yīng)當(dāng)理解的是，空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)旨在包含除了器件在圖中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附圖中的器件被倒置，則描述為“在其他器件或構(gòu)造上方”或“在其他器件或構(gòu)造之上”的器件之后將被定位為“在其他器件或構(gòu)造下 方”或“在其他器件或構(gòu)造之下”。因而，示例性術(shù)語(yǔ)“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”兩種方位。該器件也可以其他不同方式定位(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位)，并且對(duì)這里所使用的空間相對(duì)描述作出相應(yīng)解釋。正如
背景技術(shù)：
中所介紹的，在光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷難以被發(fā)現(xiàn)。本申請(qǐng)的發(fā)明人針對(duì)上述問(wèn)題進(jìn)行研究，提出了一種光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)。該缺陷檢測(cè)系統(tǒng)包括：缺陷掃描單元，用于檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值；缺陷分析單元，用于計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷。上述光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)通過(guò)檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值，以及計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷，從而提高了光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率。上述缺陷檢測(cè)系統(tǒng)中，優(yōu)選地，缺陷分析單元還用于：將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于缺陷相鄰距離設(shè)定值的各缺陷作為一個(gè)整體缺陷。此時(shí)，光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率會(huì)得到進(jìn)一步提高。在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，上述缺陷檢測(cè)系統(tǒng)還包括報(bào)警單元，且當(dāng)檢測(cè)出擦傷缺陷時(shí)報(bào)警單元發(fā)出報(bào)警。優(yōu)選地，報(bào)警單元通過(guò)電話或郵件的方式發(fā)出報(bào)警。當(dāng)操作人收到報(bào)警信息后對(duì)擦傷缺陷進(jìn)行人工確定。同時(shí)，本申請(qǐng)還提供了一種光掩膜的缺陷檢測(cè)方法。如圖1所示，該缺陷檢測(cè)方法包括以下步驟：檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值；計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷。上述光掩膜的缺陷檢測(cè)方法通過(guò)檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值，以及計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷，從而提高了光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率。下面將更詳細(xì)地描述本申請(qǐng)?zhí)峁┑墓庋谀さ娜毕輽z測(cè)方法的示例性實(shí)施方式。然而，這些示例性實(shí)施方式可以由多種不同的形式來(lái)實(shí)施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的實(shí)施方式。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實(shí)施方式是為了使得本申請(qǐng)的公開(kāi)徹底且完整，并且將這些示例性實(shí)施方式的構(gòu)思充分傳達(dá)給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。首先，檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值。其中，坐標(biāo)值包括X軸坐標(biāo)值和Y軸坐標(biāo)值。檢測(cè)缺陷的坐標(biāo)值的方法有很多種，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際需求選擇檢測(cè)缺陷的坐標(biāo)值的方法。例如，先檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷，然后根據(jù)光掩膜的表面上的坐標(biāo)體系確定缺陷的坐標(biāo)值。然后，計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷。其中，可以采用計(jì)算機(jī)(加載有計(jì)算軟件)計(jì)算坐標(biāo)值的差值。該步驟中，擦傷缺陷寬度容忍值的大小可以根據(jù)實(shí)際需求(例如常見(jiàn)的擦傷缺陷寬度等)進(jìn)行設(shè)定。為了進(jìn)一步提高光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率，在一種優(yōu)選地實(shí)施方式中，擦傷缺陷寬度容忍值為0.15～0.2mm。優(yōu)選地，該步驟中，在計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值之后，本申請(qǐng)?zhí)峁┑娜毕輽z測(cè)方法還包括：將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于缺陷相鄰距離設(shè)定值的各缺陷作為一個(gè)整體缺陷。上述缺陷相鄰距離設(shè)定值的大小可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行設(shè)定。為了進(jìn)一步提高光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率，在一種優(yōu)選地實(shí)施方式中，缺陷相鄰距離設(shè)定值為0.1～0.14mm。在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，缺陷檢測(cè)方法還包括：檢測(cè)出擦傷缺陷后發(fā)出報(bào)警，以通知操作人對(duì)擦傷缺陷進(jìn)行人工確定。另外，本申請(qǐng)?zhí)峁┑娜毕輽z測(cè)方法的進(jìn)行時(shí)機(jī)可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行設(shè)定。優(yōu)選地，每隔一小時(shí)；或者每隔一天；或者不定時(shí)執(zhí)行缺陷檢測(cè)方法。下面將結(jié)合圖2更進(jìn)一步說(shuō)明本申請(qǐng)所提供的缺陷檢測(cè)方法。圖2示出了本申請(qǐng)實(shí)施方式所提供的光掩膜的缺陷檢測(cè)方法中，光掩膜的表面上的缺陷的位置關(guān)系示意圖。在圖2中，1至6為缺陷標(biāo)號(hào)，即1代表缺陷1，2代表缺陷2，3代表缺陷3，4代表缺陷4，5代表缺陷5，6代表缺陷6，d1為缺陷1、缺陷2和缺陷3在沿X軸上的最大差值，d2為缺陷4和缺陷5在沿X軸上的差值。表1示出了光掩膜的表面上的缺陷的粒徑和坐標(biāo)值缺陷標(biāo)號(hào)缺陷的粒徑/μmX軸坐標(biāo)值/mmY軸坐標(biāo)值/mm11911.635.1922415.345.2931725.765.1441210.110.1951210.250.261421.891.17表1示出了光掩膜的表面上的缺陷的粒徑和坐標(biāo)值。為了說(shuō)明本申請(qǐng)所提供的缺陷檢測(cè)方法，作為示例，擦傷缺陷寬度容忍值為0.15mm，缺陷相鄰距離設(shè)定值為0.1mm。此時(shí)，從表1可以看出，d1＜擦傷缺陷寬度容忍值，因此缺陷1、缺陷2和缺陷3即為擦傷缺陷；d2＜缺陷相鄰距離設(shè)定值，因此缺陷4和缺陷5即可作為一個(gè)整體缺陷。從以上的描述中，可以看出，本申請(qǐng)上述的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)了如下技術(shù)效果：本申請(qǐng)通過(guò)提供一種光掩膜的缺陷檢測(cè)系統(tǒng)和缺陷檢測(cè)方法，并通過(guò)檢測(cè)出光掩膜的表面上的缺陷的坐標(biāo)值，以及計(jì)算出任意兩個(gè)或兩個(gè)以上缺陷之間的坐標(biāo)值的差值，并將沿同一坐標(biāo)軸方向上的差值小于擦傷缺陷寬度容忍值的各缺陷作為擦傷缺陷，從而提高了光掩膜的缺陷檢測(cè)過(guò)程中擦傷缺陷的發(fā)現(xiàn)幾率。以上所述僅為本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本申請(qǐng)，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本申請(qǐng)可以有各種更改和變化。凡在本申請(qǐng)的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本申請(qǐng)的保護(hù)范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3