本發(fā)明涉及一種復(fù)合式反射片及其制作方法。
背景技術(shù)：
：在背光模組中，光源位置相對(duì)固定，光線照射方向相對(duì)固定，光線經(jīng)反射片反射后的傳播方向單一，必須通過(guò)導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使光線在導(dǎo)光板中改變前進(jìn)的方向，使整體導(dǎo)光板照射出的光源能更均勻。隨著電子產(chǎn)品日益輕薄化，背光模組也日益變得輕薄，背光模組中的導(dǎo)光板也勢(shì)必會(huì)越來(lái)越薄。然而，導(dǎo)光板的薄化會(huì)減少光線前進(jìn)的路徑，增加光學(xué)設(shè)計(jì)的困難度，使得背光模組的光學(xué)均勻度更不易拉高。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：有鑒于此，有必要提供一種能夠提升背光模組出光均勻性的復(fù)合式反射片以及復(fù)合式反射片的制作方法。一種復(fù)合式反射片包括金屬基板及覆蓋所述金屬基板上的反射膜。所述金屬基板具有一個(gè)光滑的反射面。所述反射膜覆蓋在所述反射面上。所述反射膜為膠狀透明基材、反光粉末及擴(kuò)散粒子的混合物。所述反射膜背離所述金屬基板的表面為凹凸不平的不規(guī)則曲面。所述混合物中所述擴(kuò)散粒子的質(zhì)量與所述膠狀透明基材及所述反光粉末的質(zhì)量和的比值范圍為：0.05~0.07。所述反光粉末與所述膠狀透明基材的質(zhì)量比值范圍為0.25~0.54。一種復(fù)合式反射片的制作方法，包括步驟：提供膠狀透明基材、反光粉末及擴(kuò)散粒子；將所述反光粉末與所述膠狀透明基材按質(zhì)量比值范圍為0.25~0.54的比例混合；將所述擴(kuò)散粒子與所述反光粉末及所述膠狀透明基材的混合物按質(zhì)量比值范圍為0.05~0.07的比例均勻混合形成混合物；提供一個(gè)金屬基板，并將由固化劑和反光粉末混合形成的混合物均勻涂抹在所述金屬基板的表面；及使所述涂抹在金屬基板表面的混合物硬化形成附著在金屬基板表面的反射膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的復(fù)合式反射片及復(fù)合式反射片的制作方法，對(duì)反射片進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)，在具有所述復(fù)合式反射片的背光模組中可省去導(dǎo)光板，從而降低背光模組的厚度；由于在形成反射膜的材料中加入反光粉末及擴(kuò)散粒子，可以破壞光線在反射膜內(nèi)的全反射，使反射膜具有較佳的反射效果；又，由于擴(kuò)散粒子在硬化過(guò)程中發(fā)生堆積，使得反射膜遠(yuǎn)離金屬基板的表面呈凹凸不平的不規(guī)則曲面，從而使得從所述反射膜出射的光線更加均勻。附圖說(shuō)明圖1為本發(fā)明實(shí)施方式提供的復(fù)合式反射片的剖面示意圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明復(fù)合式反射片100反射膜20金屬基板10頂面11底面12膠狀透明基材21反光粉末22擴(kuò)散粒子23下表面24上表面25如下具體實(shí)施方式將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明。具體實(shí)施方式下面結(jié)合具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明提供的復(fù)合式反射片及復(fù)合式反射片制作方法進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明具體實(shí)施方式提供的復(fù)合式反射片100包括金屬基板10及覆蓋在所述金屬基板上的反射膜20。所述金屬基板10呈平板狀，其可采用銅、鋁等金屬材料制成。所述金屬基板10主要起到支撐作用。所述金屬基板10包括平行且相背的頂面11及底面12。所述頂面11為一個(gè)平整且光滑的反射面。所述反射膜20形成于所述頂面11上，且所述反射膜20完全覆蓋所述頂面11。所述反射膜20采用包括膠狀透明基材21，反光粉末22及擴(kuò)散粒子23的混合物制成。所述反射膜20包括相背的下表面24及上表面25。所述下表面24與所述頂面11接觸。所述上表面25為凹凸不平的不規(guī)則曲面。所述膠狀透明基材21可為熱固化劑或紫外光固化劑。本實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為熱固化劑。具體地，所述膠狀透明基材21為聚酯多元醇、異氰酸及乙酸正丁酯組成的混合物。所述膠狀透明基材21中所述聚酯多元醇與異氰酸的質(zhì)量和與所述乙酸正丁酯的質(zhì)量比值范圍為：0.3~0.6。其他實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為紫外光固化劑。具體地，所述膠狀透明基材21為亞克力系列單體、聚氨酯亞克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物及光起始劑組成的混合物。所述壓克力系列單體為異冰片烯甲基丙酰酸酯（IsobornylMethacrylate），所述聚氨酯壓克力低聚物為脂肪族胺酯丙酰酸酯（AliphaticurethaneAcrylate），所述聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物為羧基化聚酯丙酰酸酯（Carboxylatedpolyesteracrylate），所述光起始劑為羥基環(huán)已基-苯基-酮（Hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone）。所述膠狀透明基材21中所述壓克力系列單體、所述聚氨酯壓克力低聚物、所述聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物以及光起始劑的間的質(zhì)量比例為：10：6：3：1。所述反光粉末22可為硫酸鋇或二氧化鈦等白色反光粉末。本實(shí)施方式中，所述反光粉末22的粒徑均相等，且所述反光粉末22的粒徑范圍為：0.2μm~0.3μm。所述反光粉末22與所述膠狀透明基材21的質(zhì)量比值范圍為：0.25~0.54。其他實(shí)施方式中，所述反射膜20中可包含多種具有不同粒徑的所述反光粉末22。所述擴(kuò)散粒子23可由聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯與聚苯乙烯的共聚物、二氧化硅等材料中任一種或任幾種材料制成。所述擴(kuò)散粒子23可為中空或?qū)嵭慕Y(jié)構(gòu)。本實(shí)施方式中，所述擴(kuò)散粒子23的粒徑均相等，且所述擴(kuò)散粒子23的粒徑范圍為：0.5μm~300μm。所述擴(kuò)散粒子23的質(zhì)量與所述膠狀透明基材21及反光粉末22的質(zhì)量和的比值范圍為：0.05~0.07。其他實(shí)施方式中，所述反射膜20中可包含多種具有不同粒徑的所述擴(kuò)散粒子23。本發(fā)明還涉及一種制作如上所述的復(fù)合式反射片100的方法，所述復(fù)合式反射片100的制作方法包括如下步驟。第一步，提供膠狀透明基材21及反光粉末22。本實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為熱固化劑。具體地，所述膠狀透明基材21為聚酯多元醇、異氰酸及乙酸正丁酯組成的混合物。所述膠狀透明基材21中所述聚酯多元醇與異氰酸的質(zhì)量和與所述乙酸正丁酯的質(zhì)量的比值范圍為：0.3~0.6。所述膠狀透明基材21可通過(guò)如下方式獲得：首先，提供聚酯多元醇與異氰酸的混合物，以及乙酸正丁酯；接著，將聚酯多元醇與異氰酸的混合物與乙酸正丁酯按照質(zhì)量比值范圍為0.3~0.6的比例均勻混合，得到所述膠狀透明基材21。其他實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為紫外光固化劑。具體地，所述膠狀透明基材21為亞克力系列單體、聚氨酯亞克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物及光起始劑組成的混合物。所述壓克力系列單體為異冰片烯甲基丙酰酸酯（IsobornylMethacrylate），所述聚氨酯壓克力低聚物為脂肪族胺酯丙酰酸酯（AliphaticurethaneAcrylate），所述聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物為羧基化聚酯丙酰酸酯（Carboxylatedpolyesteracrylate），所述光起始劑為羥基環(huán)已基-苯基-酮（Hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone）。所述膠狀透明基材21中所述壓克力系列單體、所述聚氨酯壓克力低聚物、所述聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物以及光起始劑的間的質(zhì)量比例為：10：6：3：1。此時(shí)，所述膠狀透明基材21可通過(guò)如下方式獲得：首先，提供亞克力系列單體、聚氨酯亞克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物及光起始劑；接著，將所述亞克力系列單體、聚氨酯亞克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物及光起始劑按質(zhì)量比例為10：6：3：1的方式均勻混合，得到所述膠狀透明基材21。所述反光粉末22可為硫酸鋇或二氧化鈦等白色反光粉末。本實(shí)施方式中，所述反光粉末22為二氧化鈦粉末。所述反光粉末22的粒徑均相等，且所述反光粉末22的粒徑范圍為：0.2μm~0.3μm。第二步，將所述反光粉末22與所述膠狀透明基材21按照質(zhì)量比值范圍為0.25~0.54的比例均勻混合。第三步，提供擴(kuò)散粒子23，并將所述擴(kuò)散粒子23與所述反光粉末22及所述膠狀透明基材21的混合物按照質(zhì)量比值范圍為0.05~0.07的比例均勻混合形成混合物。所述擴(kuò)散粒子23可由聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯與聚苯乙烯的共聚物、二氧化硅等材料中任一種或任幾種材料制成。所述擴(kuò)散粒子23可為中空或?qū)嵭慕Y(jié)構(gòu)。本實(shí)施方式中，所述擴(kuò)散粒子23的粒徑均相等，且所述擴(kuò)散粒子23的粒徑范圍為：0.5μm~300μm。第四步，提供一個(gè)金屬基板10，并將由膠狀透明基材21、反光粉末22及擴(kuò)散粒子23混合形成的混合物均勻涂抹至金屬基板10的表面。所述金屬基板10呈平板狀，其可采用銅、鋁等金屬材料制成。所述金屬基板10主要起到支撐作用。所述金屬基板10包括平行且相背的頂面11及底面12。所述頂面11為一個(gè)平整且光滑的反射面。本實(shí)施方式中，由所述膠狀透明基材21、反光粉末22及擴(kuò)散粒子23混合形成的混合物被均勻地涂抹至所述金屬基板10的頂面11，并完全覆蓋所述頂面11。第五步，請(qǐng)?jiān)僖淮螀㈤唸D1，使所述涂抹至金屬基板10表面的混合物硬化形成附著在所述金屬基板10的頂面11的反射膜20。所述反射膜20包括相背的下表面24及上表面25。所述下表面24與所述頂面11接觸。硬化過(guò)程中，所述涂抹至金屬基板10表面的混合物內(nèi)部的擴(kuò)散粒子23發(fā)生堆積，使得最終形成的反射膜20遠(yuǎn)離所述金屬基板10的表面呈凹凸不平的不規(guī)則曲面，即，使得上表面25呈凹凸不平的不規(guī)則曲面，從而使從所述反射膜20出射的光線更為均勻。本實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為熱固化劑。使所述涂抹至金屬基板10表面的混合物硬化形成附著在金屬基板10表面的反射膜20是通過(guò)加熱方式。其他實(shí)施方式中，所述膠狀透明基材21為紫外光固化劑。使所述涂抹至金屬基板10表面的混合物硬化形成附著在金屬基板10表面的反射膜20是通過(guò)紫外光照射方式。本發(fā)明提供的復(fù)合式反射片及復(fù)合式反射片的制作方法，對(duì)反射片進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)，在具有所述復(fù)合式反射片100的背光模組中可省去導(dǎo)光板，從而降低所述背光模組的厚度；由于在形成反射膜20的材料中加入反光粉末22及擴(kuò)散粒子23，可以破壞光線在反射膜20內(nèi)的全反射，使反射膜20具有較佳的反射效果；由于擴(kuò)散粒子23在硬化過(guò)程中發(fā)生堆積，使得反射膜20遠(yuǎn)離金屬基板10的表面呈凹凸不平的不規(guī)則曲面，從而使得從所述反射膜20出射的光線更加均勻。而且，本發(fā)明提供的復(fù)合式反射片100及復(fù)合式反射片的制作方法，將反射膜20與金屬基板10整合在一起，反射膜20可通過(guò)金屬基板10支撐，其厚度得以降低，進(jìn)而使背光模組的厚度進(jìn)一步降低。以下為當(dāng)所述膠狀透明基材21及所述反光粉末22各自在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物所占質(zhì)量比，以及所述膠狀透明基材21中各組分在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物所占質(zhì)量比一定時(shí)，在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物中加入不同質(zhì)量比的擴(kuò)散粒子23對(duì)反射膜20反光效果影響的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。當(dāng)所述膠狀透明基材21為聚酯多元醇、異氰酸及乙酸正丁酯組成的混合物；所述膠狀透明基材21各組分在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物所占質(zhì)量比分別為：聚酯多元醇及異氰酸：22%；乙酸乙酸正丁酯：50%；反光粉末：28%時(shí)，在在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物加入不同質(zhì)量比（擴(kuò)散粒子23的質(zhì)量與膠狀透明基材21與反光粉末22的混合物的質(zhì)量的比值）的擴(kuò)散粒子23對(duì)反射膜反光效果影響的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如表1：表1所加入的擴(kuò)散粒子反射率095%5%96.5%6%98.43%7%99.64%當(dāng)所述膠狀透明基材21為亞克力系列單體、聚氨酯亞克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物及光起始劑組成的混合物；所述膠狀透明基材21各組分在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物所占質(zhì)量比分別為：亞克力系列單體36%；聚氨酯亞克力低聚物21.6%；聚酯壓克力修飾聚酯寡聚物10.8%；光起始劑3.6%時(shí)，在所述膠狀透明基材21與所述反光粉末22的混合物加入不同質(zhì)量比（擴(kuò)散粒子23的質(zhì)量與膠狀透明基材21與反光粉末22的混合物的質(zhì)量的比值）的擴(kuò)散粒子23對(duì)反射膜反光效果影響的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如表2：表2所加入的擴(kuò)散粒子反射率095.89%5%96.76%6%98.78%7%99.89%由表1和表2可知，在所述反射膜20中加入所述擴(kuò)散粒子23后較未在所述反射膜20中加入擴(kuò)散粒子23，所述反射膜20的反射效果有顯著的提升?？梢岳斫獾氖?，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3