技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)一種635納米的窄帶濾光片及其制作方法，其特征為以玻璃為基板，表面光潔度優(yōu)于60/40，鍍膜的材料選擇SiO2和TiO2，基板兩個(gè)表面上分別沉積多層薄膜，第一膜系為多個(gè)沉積的SiO2層和TiO2層交替而成，共計(jì)24層；第二膜系也是為多個(gè)沉積的SiO2層和TiO2層交替而成，共計(jì)68層。本發(fā)明提供成本低、特性良好、截止區(qū)域內(nèi)截止深度小于3OD，透過(guò)率大于90%，具有良好信噪比，滿足高精度的激光測(cè)距儀的苛刻需要。

技術(shù)研發(fā)人員：王衛(wèi)國(guó);其他發(fā)明人請(qǐng)求不公開(kāi)姓名
受保護(hù)的技術(shù)使用者：王衛(wèi)國(guó)
文檔號(hào)碼：201510448787
技術(shù)研發(fā)日：2015.07.28
技術(shù)公布日：2017.05.24