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      光刻設(shè)備、對象定位系統(tǒng)和器件制造方法與流程

      文檔序號:12287430閱讀:來源:國知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及提供一種用于光刻設(shè)備的溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)。對象中的溫度變化引起對象變形,這阻礙了對象被精確定位。溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)使用對象中或上的設(shè)置有流體的導(dǎo)管系統(tǒng)以控制對象的溫度,從而減小對象變形。以這種方式,可以更精確地定位對象的部分。然而,對象的加速和溫度調(diào)節(jié)系統(tǒng)引發(fā)對象上或中的導(dǎo)管系統(tǒng)內(nèi)的流體的壓力變化,這也會引起對象變形。為了提供改進的導(dǎo)管系統(tǒng),光刻設(shè)備還包括控制系統(tǒng),其用于基于表示導(dǎo)管中的壓力變化的測量值來控制對象的移動。

      技術(shù)研發(fā)人員:P·德維特;Y·德沃斯;P·赫姆佩紐斯;N·科姆珀;R·M·G·里杰斯;F·范德梅尤倫;S·博伊瑞
      受保護的技術(shù)使用者:ASML荷蘭有限公司
      文檔號碼:201580032779
      技術(shù)研發(fā)日:2015.05.21
      技術(shù)公布日:2017.02.22

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