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      液晶顯示裝置及其制造方法與流程

      文檔序號(hào):11160627閱讀:來源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種液晶顯示裝置,其特征在于:

      從背面?zhèn)绕鹨来尉哂邪l(fā)出包含可見光的光的背光源、直線偏振片、第一基板、取向膜、含有液晶分子的液晶層和第二基板,

      所述取向膜對(duì)可見光具有吸收各向異性,且包含具有因可見光的吸收而發(fā)生異構(gòu)反應(yīng)的偶氮苯構(gòu)造的材料,

      所述直線偏振片的偏振光透射軸位于與所述取向膜的吸收各向異性大的方向交叉的方向上。

      2.如權(quán)利要求1所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      由所述取向膜賦予的所述液晶分子的預(yù)傾角實(shí)質(zhì)上為0°。

      3.如權(quán)利要求1或2所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      顯示模式是IPS模式或者FFS模式。

      4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      所述液晶分子具有負(fù)的介電常數(shù)各向異性。

      5.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      所述取向膜的吸收各向異性大的方向與所述液晶層的在閾值電壓以下的液晶分子的取向方向平行。

      6.如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      所述液晶層包含散射指數(shù)為9.0×109N-1以下的液晶材料。

      7.如權(quán)利要求1~6中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,其特征在于:

      所述第一基板具有厚度為150nm以下的像素電極,所述取向膜覆蓋所述像素電極。

      8.一種液晶顯示裝置的制造方法,其用于制造權(quán)利要求1~7中任一項(xiàng)所述的液晶顯示裝置,所述液晶顯示裝置的制造方法的特征在于:

      對(duì)所述取向膜進(jìn)行的取向處理使用偏振度30︰1以上的直線偏振紫外線進(jìn)行。

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