本發(fā)明涉及在復(fù)印機、打印機等中使用的電子照相感光體及圖像形成裝置。詳細來說，涉及電特性良好、且用于形成感光層的涂布液的穩(wěn)定性優(yōu)異的單層型電子照相感光體、及具備該感光體的圖像形成裝置。

背景技術(shù)：

電子照相技術(shù)由于即時性、可得到高品質(zhì)的圖像等而被廣泛用于復(fù)印機、各種打印機等領(lǐng)域。關(guān)于成為電子照相技術(shù)核心的電子照相感光體(以下，也簡稱為“感光體”)，被采用的是使用了具有無公害且容易成膜、容易制造等優(yōu)點的有機系光導(dǎo)電物質(zhì)的感光體。

在有機系電子照相感光體中，使不同的化合物各自承擔(dān)電荷的產(chǎn)生和遷移的功能的所謂的功能分離型感光體的材料選擇余地大、容易控制感光體的特性，因而成為了開發(fā)的主流。從層結(jié)構(gòu)的觀點考慮，已知有在同一層中具有電荷產(chǎn)生材料和電荷傳輸材料的單層型電子照相感光體(以下，稱為單層型感光體)、以及將電荷產(chǎn)生材料和電荷傳輸材料分離在不同的層(電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層)中并疊層的疊層型電子照相感光體(以下，稱為疊層型感光體)。

從感光體設(shè)計上來看，由于疊層型感光體容易使每一層都謀求功能的最優(yōu)化，特性的控制也容易，因此，現(xiàn)有的大部分感光體是該類型的感光體。這樣的疊層型感光體的絕大多數(shù)是在導(dǎo)電性支撐體上按照電荷產(chǎn)生層及電荷傳輸層的順序進行疊層的。在該電荷傳輸層中，合適的電子傳輸材料極少，與此相對，空穴傳輸材料已知有大量特性良好的材料。因此，在使用了這樣的空穴傳輸材料的疊層型感光體重，采用帶負電方式。由于伴隨著近年來打印機、復(fù)印機等的高速化、高畫質(zhì)化的上述空穴傳輸材料的改良，在帶負電方式中實現(xiàn)了將殘留電位降低至極低(專利文獻1)。

與此相對，在單層型感光體中，即可以利用帶負電方式，也可以利用帶正電方式，如果利用帶正電方式，則能夠?qū)⑸鲜霪B層型感光體中成為問題的臭氧產(chǎn)生抑制為較低。因此，與帶負電的疊層型感光體相比雖然多數(shù)情況下電特性方面較差，但作為帶正電用單層型電子照相感光體已經(jīng)部分被實用化(專利文獻2)。

在帶正電方式的圖像形成裝置中，伴隨著現(xiàn)代的要求，研究了裝置的小型化、高靈敏度化及高耐久化。例如，關(guān)于小型化，已知以下的技術(shù)：作為在不具有除電工序的圖像形成裝置中也不產(chǎn)生記憶圖像的單層型電子照相感光體，感光層在粘合劑樹脂中含有作為電荷產(chǎn)生材料的酞菁系化合物、以及空穴傳輸劑、電子傳輸材料，且含有特定量的酞菁系化合物，感光層的膜厚為10～35μm，在一定條件下測定的正極性與負極性的靈敏度的絕對值差為500v以下(專利文獻3)。

另外，關(guān)于高靈敏度化，公開了設(shè)置以下的感光層的技術(shù)，所述感光層帶正電時的半衰曝光量為0.18μj/cm²以下、帶負電時的半衰曝光量為所述帶正電時的半衰曝光量的2倍以上且12倍以下(專利文獻4)。此外，公開了以下的技術(shù)：為了減小在具備接觸帶電方式的帶電部的圖像形成裝置中使用時的帶電部與感光體表面的摩擦，在感光層中含有體積平均粒徑為5nm以上且5μm以下的填料(專利文獻5)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2014-081621號公報

專利文獻2：日本特開平2-228670號公報

專利文獻3：日本專利第3748452號公報

專利文獻4：日本特開2013-231866號公報

專利文獻5：日本特開2014-130236號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

在這樣的背景下，對于近年來的高性能、高速機器，要求更高靈敏度的感光體的情況增多。特別是，可以通過使殘留電位極度降低來擴展高性能、高速機器的設(shè)計余地。但是，在帶正電方式中，為了使殘留電位降低，需要大量使用電荷產(chǎn)生材料，在該情況下，由于電荷產(chǎn)生材料的性質(zhì)而使帶電性變差，并且，感光層中電荷產(chǎn)生材料的分散狀態(tài)惡化，由此存在產(chǎn)生霧翳、無法得到合適的圖像濃度、出現(xiàn)濃度不均這樣的問題。

另外，帶正電型電子照相感光體的感光層由于必須含有電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂等多種材料，因此多數(shù)情況下必須要考慮材料間的相互作用、涂布性等，以低殘留電位為目標(biāo)的帶正電型電子照相感光體的開發(fā)極為困難。

本發(fā)明是為了解決這些問題而進行的。即，本發(fā)明的目的在于，提供可保持帶電性、同時殘留電位極低、能夠?qū)崿F(xiàn)高靈敏度、且能夠抑制濃度不均的帶正電用單層型電子照相感光體、以及具備該感光體的圖像濃度良好的圖像形成裝置。

解決課題的方法

本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)了一種殘留電位極低、能夠?qū)崿F(xiàn)高靈敏度的感光體，該感光體是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，從而完成了本發(fā)明。

即，本發(fā)明的要點在于以下的1.～27.。

1.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為0.3μj/cm²這點的殘留電位vl1為130v以下。

2.上述1所述的電子照相感光體，其中，所述殘留電位vl1為110v以下。

3.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為0.5μj/cm²這點的殘留電位vl2為100v以下。

4.上述3所述的電子照相感光體，其中，所述殘留電位vl2為80v以下。

5.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為0.8μj/cm²這點的殘留電位vl3為90v以下。

6.上述5所述的電子照相感光體，其中，所述殘留電位vl3為70v以下。

7.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為1.0μj/cm²這點的殘留電位vl4為80v以下。

8.上述7所述的電子照相感光體，其中，所述殘留電位vl4為70v以下。

9.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為1.5μj/cm²這點的殘留電位vl5為70v以下。

10.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為0.3μj/cm²這點的殘留電位vl1為130v以下、在用于形成潛像的曝光量為0.5μj/cm²這點的殘留電位vl2為100v以下、在用于形成潛像的曝光量為0.8μj/cm²這點的殘留電位vl3為90v以下、在用于形成潛像的曝光量為1.0μj/cm²這點的殘留電位vl4為80v以下、在用于形成潛像的曝光量為1.5μj/cm²這點的殘留電位vl5為70v以下。

11.上述10所述的電子照相感光體，其中，所述殘留電位vl1為110v以下、所述殘留電位vl2為80v以下、所述殘留電位vl3為70v以下、所述殘留電位vl4為70v以下。

12.上述1～11中任一項所述的電子照相感光體，其中，在所述電子照相感光體中，在導(dǎo)電性支撐體上具備在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料、填料、及粘結(jié)樹脂的感光層。

13.上述12所述的電子照相感光體，其中，所述填料為二氧化硅。

14.上述12或13所述的電子照相感光體，其中，所述填料的平均初級粒徑小于所述電荷產(chǎn)生材料的平均初級粒徑。

15.上述1～14中任一項所述的電子照相感光體，其具備在同一層中包含聚碳酸酯樹脂及聚乙烯醇縮醛樹脂的感光層。

16.上述1～15中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產(chǎn)生材料為氧鈦酞菁。

17.上述16所述的電子照相感光體，其中，所述氧鈦酞菁在使用了cukα特性x射線的粉末x射線衍射中于布拉格角2θ±0.2°為27.2°顯示主要的明確的峰。

18.根據(jù)權(quán)利要求1～17中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述空穴傳輸材料的由基于密度泛函計算b3lyp/6-31g(d,p)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化計算結(jié)果得到的homo的能級e_homo滿足下式：

e_homo＞-4.65(ev)。

19.上述1～18中任一項所述的電子照相感光體，其中，在所述導(dǎo)電性支撐體和所述感光層之間具備底襯層。

20.一種圖像形成裝置，其裝載有上述1～19中任一項所述的電子照相感光體。

21.一種電子照相感光體，其是在導(dǎo)電性支撐體上具備單層型感光層的帶正電用電子照相感光體，所述單層型感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，其中，

所述單層型感光層含有填料、聚乙烯醇縮醛樹脂、及作為所述電荷產(chǎn)生材料的氧鈦酞菁，所述氧鈦酞菁在使用了cukα特性x射線的粉末x射線衍射中于布拉格角2θ±0.2°為27.2°顯示主要的明確的峰。

22.上述21所述的電子照相感光體，其中，所述聚乙烯醇縮醛樹脂為聚乙烯醇縮丁醛樹脂。

23.上述21或22所述的電子照相感光體，其中，所述粘結(jié)樹脂為聚碳酸酯樹脂或聚芳酯樹脂，相對于所述粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，含有0.1～50質(zhì)量份的所述聚乙烯醇縮醛樹脂。

24.上述21～23中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述空穴傳輸材料的由基于密度泛函計算b3lyp/6-31g(d,p)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化計算結(jié)果得到的homo能級e_homo滿足下式：

e_homo＞-4.65(ev)。

25.一種帶正電用單層型電子照相感光體感光層形成用涂布液，其是含有粘結(jié)樹脂、電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及溶劑的帶正電用單層型電子照相感光體感光層形成用涂布液，其中，

作為所述電荷產(chǎn)生材料，含有氧鈦酞菁，所述氧鈦酞菁在基于cukα射線的x射線衍射中于布拉格角(2θ±0.2)為27.2°顯示強衍射峰，將該涂布液在溫度55℃、相對濕度10％的條件下保管96小時時，作為感光體的半衰曝光量e1/2的變化率為75％以下。

26.上述25所述的帶正電用單層型電子照相感光體感光層形成用涂布液，其中，所述溶劑為有機溶劑，且所述有機溶劑中的至少一者為四氫呋喃。

27.上述25或26所述的帶正電用單層型電子照相感光體感光層形成用涂布液，其中，所述電子傳輸材料為下述式(1)所示的化合物，

[化學(xué)式1]

式(1)

[式(1)中，r¹～r⁴各自獨立地表示氫原子、任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烷基、或任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烯基，r¹和r²彼此間、或者r³和r⁴彼此間任選相互鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)，x表示分子量120以上且250以下的有機殘基。]發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，可以提供可保持帶電性、同時殘留電位極低、能夠?qū)崿F(xiàn)高靈敏度、且能夠抑制濃度不均的帶正電用單層型電子照相感光體、以及具備該感光體的圖像濃度良好的圖像形成裝置。

附圖說明

[圖1]圖1是示出本發(fā)明的圖像形成裝置的一個實施方式的主要部分構(gòu)成的示意圖。

[圖2]圖2是本發(fā)明的實施例所使用的氧鈦酞菁的x射線衍射圖案。

[圖3]圖3是本發(fā)明的比較例所使用的氧鈦酞菁的x射線衍射圖案。

[圖4]圖4是本發(fā)明的比較例所使用的氧鈦酞菁的x射線衍射圖案。

符號說明

1感光體(電子照相感光體)

2帶電裝置(帶電輥；帶電部)

3曝光裝置(曝光部)

4顯影裝置(顯影部)

5轉(zhuǎn)印裝置

6清潔裝置(清潔部)

7定影裝置

41顯影槽

42攪拌器

43供給輥

44顯影輥

45控制構(gòu)件(規(guī)制部材)

71上部定影構(gòu)件(加壓輥)

72下部定影構(gòu)件(定影輥)

73加熱裝置

t調(diào)色劑

p記錄紙(紙張、介質(zhì))

具體實施方式

以下，對本發(fā)明的實施方式詳細地進行說明，但以下記載的構(gòu)成要件的說明是本發(fā)明的實施方式的代表例，可以在不脫離本發(fā)明主旨的范圍適宜變形后實施。需要說明的是，在本說明書中，me表示甲基、et表示乙基、nbu表示正丁基、tbu表示叔丁基。

＜電子照相感光體＞

本發(fā)明的電子照相感光體是在導(dǎo)電性支撐體上具備感光層的帶正電型電子照相感光體，所述感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，將初期表面電位v0設(shè)定為+700v、曝光780nm的單色光以動態(tài)方式進行測定時，在用于形成潛像的曝光量為0.3μj/cm²這點的殘留電位vl1為130v以下、在用于形成潛像的曝光量為0.5μj/cm²這點的殘留電位vl2為100v以下、在用于形成潛像的曝光量為0.8μj/cm²這點的殘留電位vl3為90v以下、在用于形成潛像的曝光量為1.0μj/cm²這點的殘留電位vl4為80v以下、或者在用于形成潛像的曝光量為1.5μj/cm²這點的殘留電位vl5為70v以下。

從高速化的觀點考慮，殘留電位vl1優(yōu)選為110v以下、更優(yōu)選為100v以下，另一方面，其下限通常為50v。從高速化的觀點考慮，上述殘留電位vl2優(yōu)選為80v以下、更優(yōu)選為70v以下，另一方面，其下限通常為30v。從高速化的觀點考慮，上述殘留電位vl3優(yōu)選為70v以下、更優(yōu)選為60v以下，另一方面，其下限通常為5v。從高速化的觀點考慮，上述殘留電位vl4優(yōu)選為70v以下、更優(yōu)選為60v以下，另一方面，其下限通常為5v。從高速化的觀點考慮，上述殘留電位vl5優(yōu)選為60v以下，另一方面，其下限通常為5v。從高速化的觀點考慮，優(yōu)選vl1～vl5同時滿足上述規(guī)定。

上述殘留電位可以通過電特性評價試驗來進行測定，所述電特性評價試驗使用按照電子照相學(xué)會測定標(biāo)準(zhǔn)制造的電子照相特性評價裝置(電子照相學(xué)會編、《續(xù)電子照相技術(shù)的基礎(chǔ)和應(yīng)用》(続電子寫真技術(shù)の基礎(chǔ)と応用)、電子照相學(xué)會編、coronapublishingco.ltd、1996年發(fā)行，404-405頁)、使上述感光體鼓以恒定轉(zhuǎn)速100rpm旋轉(zhuǎn)，進行帶電、曝光、電位測定、除電的循環(huán)。將這樣的一邊使感光體鼓旋轉(zhuǎn)一邊進行評價的方式稱為動態(tài)方式。

為了實現(xiàn)上述殘留電位，可以舉出例如電子照相感光體的感光層使用(a)將分散有粘結(jié)樹脂、金屬酞菁系化合物這樣的高靈敏度的電荷產(chǎn)生材料和填料等的涂布液與分散有二烯胺系化合物這樣的低殘留電位的空穴傳輸材料及電子傳輸材料等的涂布液混合而得到的涂布液的方法。另外，可以舉出例如以下方法：(b)制成含有粘結(jié)樹脂、金屬酞菁系化合物這樣的高靈敏度的電荷產(chǎn)生材料、二烯胺系化合物這樣的低殘留電位的空穴傳輸材料、電子傳輸材料、填料、粘結(jié)樹脂及聚乙烯醇縮醛樹脂的材料的方法；以及(c)大量使用酞菁系化合物這樣的高靈敏度的電荷產(chǎn)生材料、同時含有高性能的電子傳輸材料；等等。

[導(dǎo)電性支撐體]

對于導(dǎo)電性支撐體沒有特別限制，主要使用例如：鋁、鋁合金、不銹鋼、銅及鎳等金屬材料；添加金屬、碳或氧化錫等導(dǎo)電性粉體而賦予了導(dǎo)電性的樹脂材料；在表面蒸鍍或涂布有鋁、鎳或ito(氧化銦錫)等導(dǎo)電性材料的樹脂、玻璃及紙等。這些材料可以單獨使用一種，也可以以任意的組合及比率組合2種以上使用。作為導(dǎo)電性支撐體的形態(tài)，可以舉出例如鼓狀、片狀及帶狀等的導(dǎo)電性支撐體。進而，為了控制導(dǎo)電性、表面性等及覆蓋缺陷，可以舉出例如在金屬材料的導(dǎo)電性支撐體上涂布了具有適當(dāng)電阻值的導(dǎo)電性材料而得到的導(dǎo)電性支撐體。

另外，使用了鋁合金等金屬材料作為導(dǎo)電性支撐體的情況下，可以施以陽極氧化被膜后使用。在施以陽極氧化被膜的情況下，優(yōu)選利用公知的方法實施封孔處理。支撐體表面既可以為平滑表面，也可以通過使用特別的切削方法、或?qū)嵤┍砻娲植诨瘉磉M行表面粗糙化。另外，還可以通過在構(gòu)成支撐體的材料中混合適當(dāng)粒徑的粒子來進行表面粗糙化。另外，為了廉價化，也可以不實施切削處理而直接使用拉制管。

[底襯層]

為了改善粘接性、粘連性等，可以在導(dǎo)電性支撐體和感光層之間設(shè)置底襯層。作為底襯層，可以舉出例如單獨的樹脂、或者在樹脂中分散有金屬氧化物等粒子或有機顏料等的物質(zhì)等。作為底襯層中使用的金屬氧化物粒子，可以舉出例如：氧化鈦、氧化鋁、氧化硅、氧化鋯、氧化鋅及氧化鐵等含有一種金屬元素的金屬氧化物粒子、以及鈦酸鈣、鈦酸鍶及鈦酸鋇等含有多種金屬元素的金屬氧化物粒子。因此，可以僅使用一種粒子，也可以混合多種粒子使用。這些金屬氧化物粒子中，優(yōu)選氧化鈦及氧化鋁，特別優(yōu)選氧化鈦。

氧化鈦粒子可以在其表面實施利用氧化錫、氧化鋁、氧化銻、氧化鋯、氧化硅等無機物、或硬脂酸、多元醇、有機硅等有機物的處理。作為氧化鈦粒子的晶形，可以使用金紅石、銳鈦礦、板鈦礦或無定形中的任一種。也可以是含有多個結(jié)晶狀態(tài)的氧化鈦粒子。

另外，作為金屬氧化物粒子的粒徑，可以利用各種粒徑的金屬氧化物，其中，從特性及涂布穩(wěn)定性方面考慮，作為平均初級粒徑，優(yōu)選為1nm以上且100nm以下、特別優(yōu)選為10nm以上且50nm以下。

底襯層優(yōu)選以金屬氧化物粒子分散在粘結(jié)樹脂中的形式形成。作為襯底層中使用的粘結(jié)樹脂，可列舉例如：苯氧基、環(huán)氧、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙烯醇、酪蛋白、聚丙烯酸、纖維素類、明膠、淀粉、聚氨酯、聚酰亞胺及聚酰胺等單獨、以及與固化劑一起發(fā)生了固化的形態(tài)。其中，醇可溶性的共聚聚酰胺或改性聚酰胺等由于顯示良好的分散性、涂布性而優(yōu)選。

另外，也可以將相當(dāng)于構(gòu)成疊層型感光體的電荷產(chǎn)生層的層作為底襯層。該情況下，優(yōu)選使用在粘結(jié)樹脂中分散酞菁顏料、偶氮顏料或苝顏料并涂布而得到的層等。該情況下，特別是有時粘接性、電特性優(yōu)異，因而優(yōu)選。作為粘結(jié)樹脂，優(yōu)選使用聚乙烯醇縮醛樹脂類，特別優(yōu)選使用聚乙烯醇縮丁醛樹脂。

粒子、顏料等分散劑相對于粘結(jié)樹脂的添加比可任意選擇，但從分散液的穩(wěn)定性及涂布性方面考慮，優(yōu)選以10質(zhì)量％以上、500質(zhì)量％以下的范圍使用。底襯層的膜厚可以任意選擇，但從感光體特性及涂布性考慮，優(yōu)選為0.1μm至25μm。另外，可以在底襯層中添加公知的抗氧劑等。作為底襯層，也可以設(shè)置若干結(jié)構(gòu)不同的層。

[感光層]

在導(dǎo)電性支撐體上形成感光層(以下，有時稱為單層型感光層)，該感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂。從長壽命及圖像穩(wěn)定性的觀點考慮，單層型感光層的膜厚優(yōu)選為45μm以下，從高分辨率的觀點考慮，更優(yōu)選為40μm以下。從圖像穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選為15μm以上，從長壽命的觀點考慮，更優(yōu)選為20μm以上。

優(yōu)選帶正電用電子照相感光體，其在導(dǎo)電性支撐體上具備單層型感光層，該單層型感光層在同一層中至少包含電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及粘結(jié)樹脂，作為具體的結(jié)構(gòu)，上述單層型感光層含有填料、聚乙烯醇縮醛樹脂、及作為上述電荷產(chǎn)生材料的氧鈦酞菁，所述氧鈦酞菁在使用了cukα特性x射線的粉末x射線衍射中于布拉格角2θ±0.2°為27.2°顯示主要的明確的峰。

這是由于，利用聚乙烯醇縮醛樹脂對雖然顯示高靈敏度但容易發(fā)生結(jié)晶轉(zhuǎn)換的在布拉格角2θ±0.2°為27.2°顯示主要的明確的峰的氧鈦酞菁金星保護，并利用填料能夠使上述被保護的酞菁相對于粘結(jié)樹脂均勻地分散。

[電荷產(chǎn)生材料]

作為電荷產(chǎn)生材料，可以舉出例如硒及其合金、硫化鎘等無機系光導(dǎo)電材料和有機顏料等有機系光導(dǎo)電材料，優(yōu)選有機系光導(dǎo)電材料，特別優(yōu)選有機顏料。作為有機顏料，可以舉出例如：酞菁顏料、偶氮顏料、二硫代酮基吡咯并吡咯顏料、角鯊烯(方酸菁)顏料、喹吖啶酮顏料、靛藍顏料、苝顏料、多環(huán)醌顏料、蒽垛蒽酮顏料及苯并咪唑顏料等。其中，特別優(yōu)選酞菁顏料或偶氮顏料。使用有機顏料作為電荷產(chǎn)生物質(zhì)的情況下，通常以用各種粘結(jié)樹脂粘結(jié)這些有機顏料的微粒而形成分散層的形態(tài)使用。

使用酞菁顏料作為電荷產(chǎn)生材料的情況下，具體可以舉出例如：無金屬酞菁、配位有銅、銦、鎵、錫、鈦、鋅、釩、硅、鍺及鋁等金屬或其氧化物、鹵化物、氫氧化物及醇鹽等的酞菁類等的具有各晶形的物質(zhì)；以及使用氧原子等作為交聯(lián)原子的酞菁二聚體類等。從高靈敏度化的觀點考慮，優(yōu)選金屬酞菁。

特別優(yōu)選作為靈敏度高的晶形的x型、τ型無金屬酞菁、a型(別名β型)、b型(別名α型)或d型(別名y型)等氧鈦酞菁(別名：氧化鈦酞菁)、氧釩酞菁、氯銦酞菁、羥基銦酞菁、ii型等氯鎵酞菁、v型等羥基鎵酞菁、g型或i型等μ-氧代-鎵酞菁二聚體、或者ii型等μ-氧代-鋁酞菁二聚體。

另外，在這些酞菁中，特別優(yōu)選a型(別名β型)、b型(別名α型)、及在粉末x射線衍射的衍射角2θ(±0.2°)為27.1°或27.3°處顯示明確的峰的d型(y型)氧鈦酞菁；ii型氯鎵酞菁；羥基鎵酞菁，其是在28.1°具有最強峰的v型羥基鎵酞菁，且在26.2°不具有峰而在28.1°具有明確的峰，并且在25.9°的半峰寬w為1°≤w≤0.4°；g型μ-氧代-鎵酞菁二聚體等。

其中，從實現(xiàn)低殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選使用在cukα特性x射線的粉末x射線衍射光譜中于布拉格角(2θ±0.2°)27.2°處顯示主要的明確的峰的氧鈦酞菁。所謂“主要的明確的峰”表示的是峰強度最強的峰或者峰形最尖銳的峰(參照日本特開平2-289658號公報、日本特開2007-122076號公報)。也可以是含有具有取代基的氧鈦酞菁等各種氧鈦酞菁衍生物的組合物。

優(yōu)選上述氧鈦酞菁在基于cukα特性x射線的粉末x射線衍射光譜中于布拉格角(2θ±0.2°)9.0°～9.7°具有主要的衍射峰，從電子照相感光體特性方面考慮，優(yōu)選在9.6°、24.1°、27.2°具有主要的衍射峰、或者在9.5°、9.7°、24.1°、27.2°具有主要的衍射峰，從分散時的穩(wěn)定性方面考慮，優(yōu)選在26.2°附近不具有峰。上述的氧鈦酞菁中，更優(yōu)選在7.3°、9.6°、11.6°、14.2°、18.0°、24.1°及27.2°具有主要的衍射峰、或者在7.3°、9.5°、9.7°、11.6°、14.2°、18.0°、24.2°及27.2°具有主要的衍射峰。

這些晶形主要通過由無定形或低結(jié)晶性氧鈦酞菁進行結(jié)晶轉(zhuǎn)換而制造。已知這些晶形是準(zhǔn)穩(wěn)定型的晶形，根據(jù)制造方法的不同而顯示各種晶形或粒子形狀，且電荷產(chǎn)生能力、帶電性或暗衰減等作為電子照相感光體的特性也依賴于制造方法。

作為能夠用于結(jié)晶轉(zhuǎn)換的溶劑，可以是與水具有相溶性的溶劑、以及與水不相溶的溶劑中的任意溶劑。作為與水具有相溶性的溶劑的優(yōu)選例子，可以舉出四氫呋喃、1,4-二氧雜環(huán)己烷及1,3-二氧雜戊環(huán)等環(huán)狀醚。

另外，作為與水不相溶的溶劑的優(yōu)選例子，可以舉出：甲苯、萘及甲基萘等芳香烴類溶劑、氯甲苯、鄰二氯甲苯、二氯氟苯及1,2-二氯乙烷等鹵類溶劑、以及硝基苯、1,2-亞甲二氧基苯(1,2-methylenedioxybenzene)及苯乙酮等取代芳香族類溶劑。其中，使用環(huán)狀醚、氯甲苯、鹵代烴溶劑或芳香烴類溶劑時，所得到的晶體的電子照相特性良好，故優(yōu)選，從所得到的晶體在分散時的穩(wěn)定性方面考慮，更優(yōu)選四氫呋喃、鄰二氯苯、1,2-二氯甲苯、二氯氟苯、甲苯或萘。

對結(jié)晶轉(zhuǎn)換后得到的晶體進行干燥工序，干燥方法可以通過送風(fēng)干燥、加熱干燥、真空干燥或凍干等公知方法來進行干燥。

酞菁化合物可以使用單一的化合物，也可以使用幾種的混合或混晶狀態(tài)的酞菁化合物。作為這里的酞菁化合物或處于結(jié)晶狀態(tài)的混合狀態(tài)，既可以使用將各自的構(gòu)成要素之后混合的物質(zhì)，也可以為在合成、顏料化或結(jié)晶化等酞菁化合物的制造、處理工序中產(chǎn)生混合狀態(tài)的物質(zhì)。作為這樣的處理，已知有酸糊處理、磨碎處理及溶劑處理等。為了產(chǎn)生混晶狀態(tài)，可列舉如日本特開平10-48859號公報記載的那樣的在將2種晶體混合后機械性地磨碎，進行無定形化后通過溶劑處理而轉(zhuǎn)換為特定的結(jié)晶狀態(tài)的方法。

對于粘結(jié)樹脂和上述氧鈦酞菁的配合比(質(zhì)量)而言，從電荷產(chǎn)生效率的觀點考慮，相對于感光層中的粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，上述氧鈦酞菁通常為0.1質(zhì)量份以上、優(yōu)選為1質(zhì)量份以上，另外，從分散性的觀點考慮，通常為20質(zhì)量份以下、優(yōu)選為10質(zhì)量份以下、更優(yōu)選為5質(zhì)量份以下的范圍。上述氧鈦酞菁的粒徑通常為1μm以下，從分散性的觀點考慮，優(yōu)選使用0.5μm以下。

[空穴傳輸材料]

對于本發(fā)明中的感光層而言，作為空穴傳輸材料，可以舉出例如：咔唑衍生物、吲哚衍生物、咪唑衍生物、唑衍生物、吡唑衍生物、噻二唑衍生物、苯并呋喃衍生物等雜環(huán)化合物、苯胺衍生物、腙衍生物、芳香族胺衍生物、芳基胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物、烯胺衍生物及這些化合物的多種鍵合而成的物質(zhì)、以及在主鏈或側(cè)鏈具有由這些化合物形成的基團的聚合物等供電子性物質(zhì)等。這些當(dāng)中，優(yōu)選咔唑衍生物、芳香族胺衍生物、芳基胺衍生物、茋衍生物、丁二烯衍生物及烯胺衍生物、以及這些化合物的多種鍵合而成的物質(zhì)。

從實現(xiàn)低殘留電位的觀點考慮，空穴傳輸材料的基于使用了b3lyp/6-31g(d,p)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化計算的homo能級e_homo優(yōu)選為e_homo＞-4.65(ev)，更優(yōu)選e_homo＞-4.63(ev)。這是由于，homo能級越高，曝光后電位越低，越是可得到優(yōu)異的電子照相感光體。

另一方面，從耐氣體性及鬼影的觀點考慮，通常為e_homo＜-4.20(ev)，優(yōu)選為e_homo＜-4.30(ev)。使用了b3lyp/6-31g(d,p)的結(jié)構(gòu)優(yōu)化計算后所得到的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)中，基于hf/6-31g(d,p)計算得到的極化率α的計算值αcal優(yōu)選為這是由于，包含αcal值大的電荷傳輸物質(zhì)的電荷傳輸膜顯示高的電荷遷移率，通過使用該電荷傳輸膜，可以得到帶電性、靈敏度等優(yōu)異的電子照相感光體。另一方面，從電荷傳輸物質(zhì)的溶解性的觀點考慮，通常為優(yōu)選為

需要說明的是，組合使用的上述空穴傳輸材料的數(shù)量沒有特別限制。下面示出的是作為空穴傳輸材料的優(yōu)選結(jié)構(gòu)的通式的例子。但是，這些通式是為了示例而示出的，只要不違反本發(fā)明的主旨，本發(fā)明中可以使用任意的公知的電子傳輸材料。

[化學(xué)式2]

[化學(xué)式3]

[化學(xué)式4]

[化學(xué)式5]

[化學(xué)式6]

[化學(xué)式7]

[化學(xué)式8]

[化學(xué)式9]

[化學(xué)式10]

[化學(xué)式11]

[化學(xué)式12]

上述空穴傳輸材料中，從殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選htm34、35、39、41或44結(jié)構(gòu)的化合物。

對于感光層中的粘結(jié)樹脂和空穴傳輸材料的比例而言，相對于同一層中的粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常使用20質(zhì)量份以上的空穴傳輸材料。從降低殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選30質(zhì)量份以上，從反復(fù)使用時的穩(wěn)定性及電荷遷移率的觀點考慮，更優(yōu)選40質(zhì)量份以上。另一方面，相對于同一層中的粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常使用100質(zhì)量份以下的電荷傳輸材料。從電子傳輸材料與粘結(jié)樹脂的相容性的觀點考慮，優(yōu)選為80質(zhì)量份以下。

[電子傳輸材料]

感光層中優(yōu)選含有下述式(1)所示的化合物作為電子傳輸材料。

[化學(xué)式13]

式(1)

式(1)中，r¹～r⁴各自獨立地表示氫原子、任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烷基、或任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烯基，r¹和r²彼此間、或者r³和r⁴彼此間任選相互鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。x表示分子量120以上且250以下的有機殘基。

r¹～r⁴各自獨立地表示氫原子、任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烷基、或碳原子數(shù)1～20的烯基。作為任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烷基的例子，可以舉出例如：甲基、乙基及己基等直鏈烷基、異丙基、叔丁基及叔戊基等支鏈烷基、以及環(huán)己基及環(huán)戊基等環(huán)狀烷基。這些當(dāng)中，從原料的通用性方面考慮，優(yōu)選碳原子數(shù)1～15的烷基，從制造時的操作性考慮，更優(yōu)選碳原子數(shù)1～10的烷基、進一步優(yōu)選碳原子數(shù)1～5的烷基。另外，從電子傳輸能力方面考慮，優(yōu)選直鏈烷基或支鏈烷基，其中更優(yōu)選甲基、叔丁基或叔戊基，從對于涂布液所使用的有機溶劑的溶解性方面考慮，更優(yōu)選叔丁基或叔戊基。

作為任選具有取代基的碳原子數(shù)1～20的烯基，可以舉出例如：乙烯基等直鏈烯基、2-甲基-1-丙烯基等支化烯基及環(huán)己烯基等環(huán)狀烯基等。這些當(dāng)中，從感光體的光衰減特性方面考慮，優(yōu)選碳原子數(shù)1～10的直鏈烯基。

對于上述取代基r¹～r⁴而言，r¹和r²彼此間、或者r³和r⁴彼此間可以相互鍵合而形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。從電子遷移率的觀點考慮，在r¹和r²均為烯基的情況下，優(yōu)選相互鍵合而形成芳香環(huán)，更優(yōu)選r¹和r²均為乙烯基、且相互鍵合而具有苯環(huán)結(jié)構(gòu)。

上述式(1)中，x表示分子量120以上且250以下的有機殘基，從感光體的光衰減特性的觀點考慮，優(yōu)選x為下述式(2)～(5)表示的任意一個有機殘基。

[化學(xué)式14]

式(2)

式(2)中，r⁵～r⁷各自獨立地表示氫原子、或碳原子數(shù)1～6的烷基。

[化學(xué)式15]

式(3)

式(3)中，r⁸～r¹¹各自獨立地表示氫原子、鹵原子、或碳原子數(shù)1～6的烷基。

[化學(xué)式16]

式(4)

式(4)中，r¹²表示氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、或鹵原子。

[化學(xué)式17]

式(5)

式(5)中，r¹³及r¹⁴各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)1～6的烷基、或碳原子6～12的芳基。

作為r⁵～r¹⁴中的碳原子數(shù)1～6的烷基，可以舉出例如：甲基、乙基及己基等直鏈烷基、異丙基、叔丁基及叔戊基等支鏈烷基、以及環(huán)己基等環(huán)狀烷基。從電子傳輸能力方面考慮，更優(yōu)選甲基、叔丁基或叔戊基。作為鹵原子，可以舉出例如：氟、氯、溴及碘，從電子傳輸能力方面考慮，優(yōu)選氯。作為碳原子6～12的芳基，可以舉出例如苯基及萘基等，從感光層的膜物性的觀點考慮，優(yōu)選為苯基或萘基，更優(yōu)選為苯基。在上述式(2)～(5)中，從反復(fù)形成圖像時的畫質(zhì)穩(wěn)定性的觀點考慮，x優(yōu)選為式(3)或式(4)，更優(yōu)選為式(3)。

另外，可以單獨使用式(1)所示的化合物，也可以將結(jié)構(gòu)不同的式(1)所示的化合物組合使用，還可以與其它電子傳輸材料組合使用。

以下示例出本發(fā)明中優(yōu)選的電子傳輸材料的結(jié)構(gòu)。以下的結(jié)構(gòu)是為了更具體地說明本發(fā)明而示例出的結(jié)構(gòu)，只要不脫離本發(fā)明的意圖，則并不限定于下述結(jié)構(gòu)。

[化學(xué)式18]

[化學(xué)式19]

對于感光層中的粘結(jié)樹脂和電子傳輸材料的比例而言，相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常使用5質(zhì)量份以上的電子傳輸材料。從降低殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選為10質(zhì)量份以上，從反復(fù)使用時的穩(wěn)定性及電荷遷移率的觀點考慮，更優(yōu)選為20質(zhì)量份以上。另一方面，從感光層的熱穩(wěn)定性的觀點考慮，通常使用100質(zhì)量份以下的電荷傳輸材料。從電子傳輸材料與粘結(jié)樹脂的相容性的觀點考慮，優(yōu)選為80質(zhì)量份以下、更優(yōu)選為60質(zhì)量份以下、進一步優(yōu)選為50質(zhì)量份以下。

構(gòu)成感光層的粘結(jié)樹脂和上述電荷傳輸材料(電子傳輸材料和/或空穴傳輸材料)的配合比例為任意比例，相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常以20質(zhì)量份以上的比率配合電荷傳輸材料。其中，從降低殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選以相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為30質(zhì)量份以上的比例配合電荷傳輸材料，今兒，從反復(fù)使用時的穩(wěn)定性及電荷遷移率的觀點考慮，更優(yōu)選以40質(zhì)量份以上的比例配合電荷傳輸材料。

另一方面，從感光層的熱穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選以相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為200質(zhì)量份以下的比例配合電荷傳輸材料，進而，從電荷傳輸材料與粘結(jié)樹脂的相容性的觀點考慮，更優(yōu)選以150質(zhì)量份以下的比例配合電荷傳輸材料，進一步優(yōu)選為125質(zhì)量份以下、特別優(yōu)選為100質(zhì)量份以下。需要說明的是，使用多種電荷傳輸材料的情況下，使這些電荷傳輸材料的總量為上述范圍內(nèi)。

[粘結(jié)樹脂]

作為粘結(jié)樹脂，可以舉出例如：丁二烯樹脂、苯乙烯樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯樹脂、丙烯酸酯樹脂、甲基丙烯酸酯樹脂、乙烯醇樹脂、乙基乙烯基醚等乙烯基化合物的聚合物及共聚物、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚乙烯醇縮醛樹脂、聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚芳酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚氨酯樹脂、纖維素酯樹脂、苯氧基樹脂、硅樹脂、硅-醇酸樹脂及聚n-乙烯基咔唑樹脂等。這些粘結(jié)樹脂也可以使用適當(dāng)?shù)墓袒瘎┎⒃跓?、光等作用下使其交?lián)后使用。另外，還可以以任意的組合使用2種以上的粘結(jié)樹脂。其中，從電特性及分散性的觀點考慮，優(yōu)選聚乙烯醇縮醛樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、或聚芳酯樹脂。

在優(yōu)選的樹脂中，從電特性及分散性的觀點考慮，優(yōu)選使用具有下述式(6)所示的單元結(jié)構(gòu)的樹脂。

[化學(xué)式20]

式(6)

式(6)中，x表示單鍵或連結(jié)基團，y¹～y⁸各自獨立地表示氫原子或烷基。

式(6)中，x優(yōu)選為單鍵或由以下的結(jié)構(gòu)表示的基團。所謂“單鍵”是指沒有形成“x”的原子、式(6)中左右2個苯環(huán)僅以單鍵鍵合的狀態(tài)。

[化學(xué)式21]

上述結(jié)構(gòu)式中，r^a及r^b各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)1～20的烷基、或芳基，r^a及r^b可以相互鍵合而形成碳原子數(shù)5～12的環(huán)狀烷基結(jié)構(gòu)。作為烷基，可以舉出例如：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基及正辛基等直鏈狀烷基、異丙基、乙基己基及叔丁基等支鏈烷基、以及環(huán)己基等環(huán)狀烷基。其中，從電特性的觀點考慮，優(yōu)選為甲基或乙基。作為芳基，可以舉出例如：苯基、萘基、聯(lián)苯基、蒽基、菲基、甲苯基及甲氧芐基等。作為y¹～y⁸的烷基，可以應(yīng)用作為r^a及r^b所列舉的基團。

特別是，作為具有上述式(6)所示的分子結(jié)構(gòu)的粘結(jié)樹脂，從感光層的成膜性、電子照相感光體特性方面考慮，優(yōu)選聚碳酸酯樹脂或聚芳酯樹脂。一下示例出能夠優(yōu)選用于聚碳酸酯樹脂或聚芳酯樹脂的雙酚或聯(lián)苯酚的結(jié)構(gòu)。本示例出的結(jié)構(gòu)是為了明確本發(fā)明的主旨而進行的列舉，只要不違反本發(fā)明的主旨，則并不限定于示例出的結(jié)構(gòu)。

[化學(xué)式22]

[化學(xué)式23]

[化學(xué)式24]

[化學(xué)式25]

[化學(xué)式26]

特別是，為了最大限度地發(fā)揮本發(fā)明的效果，優(yōu)選由示出以下結(jié)構(gòu)的雙酚、或聯(lián)苯酚衍生物合成的聚碳酸酯或聚芳酯樹脂。

[化學(xué)式27]

[化學(xué)式28]

[化學(xué)式29]

以下示出作為粘結(jié)樹脂的優(yōu)選結(jié)構(gòu)的通式的例子。但是，這些通式是為了列舉而示出的，并不限定于下述結(jié)構(gòu)。

[化學(xué)式30]

[化學(xué)式31]

[聚乙烯醇縮醛樹脂]

對于感光層中的粘結(jié)樹脂而言，從保持氧鈦酞菁的晶形、保持低殘留電位的觀點考慮，優(yōu)選將上述粘結(jié)樹脂和聚乙烯醇縮醛樹脂組合使用。作為聚乙烯醇縮醛樹脂，可以舉出例如：聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、及縮丁醛的一部分被縮甲醛或縮乙醛等改性而得到的部分縮醛化聚乙烯醇縮丁醛樹脂等，從分散性的觀點考慮，優(yōu)選包含下述結(jié)構(gòu)式所表示的結(jié)構(gòu)單元。

[化學(xué)式32]

上述結(jié)構(gòu)式中，z表示氫原子、烷基、或任選具有取代基的芳基。作為芳基，可以舉出例如苯基及萘基等。作為烷基，可以舉出例如：甲基、乙基及丙基等直鏈烷基、異丙基、叔丁基及異丁基等支鏈烷基、環(huán)己基及環(huán)戊基等環(huán)狀烷基、以及氯甲基及氟代甲基等鹵代烷基等。如果考慮機械特性和對于感光層形成用涂布液的溶解性，則優(yōu)選烷基。作為烷基，優(yōu)選碳原子數(shù)為1～10、更優(yōu)選碳原子數(shù)為1～8、進一步優(yōu)選碳原子數(shù)為1～4。其中，從合成的觀點考慮，優(yōu)選直鏈烷基，更優(yōu)選甲基或乙基。作為任選具有取代基的芳基的取代基，可以舉出例如烷基、烷氧基及氨基等。

考慮上述酞菁的分散性時，聚乙烯醇縮醛樹脂優(yōu)選含有羥基。羥基的含量優(yōu)選為50mol％以下、更優(yōu)選為40mol％以下、進一步優(yōu)選為30mol％以下。

從與粘結(jié)樹脂的相容性的觀點考慮，聚乙烯醇縮醛樹脂的數(shù)均分子量優(yōu)選為150,000以下、更優(yōu)選為100,000以下、進一步優(yōu)選為50,000以下、特別優(yōu)選為30,000以下。從晶體穩(wěn)定性及分散性的觀點考慮，優(yōu)選為3,000以上、更優(yōu)選為5,000以上、進一步優(yōu)選為7,000以上。

對于上述聚乙烯醇縮醛樹脂與上述全電荷產(chǎn)生材料的配合比例而言，從晶體穩(wěn)定性及分散性的觀點考慮，相對于全部電荷產(chǎn)生材料100質(zhì)量份，優(yōu)選含有10質(zhì)量份以上的聚乙烯醇縮醛樹脂，更優(yōu)選含有30質(zhì)量份以上。另一方面，從電特性的觀點考慮，相對于全部電荷產(chǎn)生材料100質(zhì)量份，優(yōu)選含有400質(zhì)量份以下的上述聚乙烯醇縮醛樹脂，更優(yōu)選含有300質(zhì)量份以下，進一步優(yōu)選含有250質(zhì)量份以下。

相對于全部電荷產(chǎn)生材料100質(zhì)量份，通常含有1～500質(zhì)量份的聚乙烯醇縮醛樹脂。對于上述聚乙烯醇縮醛樹脂與上述全電荷產(chǎn)生材料的配合比例而言，從晶體穩(wěn)定性及分散性的觀點考慮，相對于全部電荷產(chǎn)生材料100質(zhì)量份，優(yōu)選含有10質(zhì)量份以上的聚乙烯醇縮醛樹脂，更優(yōu)選含有30質(zhì)量份以上。另一方面，從電特性的觀點考慮，相對于全部電荷產(chǎn)生材料100質(zhì)量份，優(yōu)選含有400質(zhì)量份以下的上述聚乙烯醇縮醛樹脂，更優(yōu)選含有200質(zhì)量份以下。

粘結(jié)樹脂為聚碳酸酯樹脂或聚芳酯樹脂的情況下，電荷產(chǎn)生材料的晶體穩(wěn)定性及分散穩(wěn)定性的觀點考慮，相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，上述聚乙烯醇縮醛樹脂的含量優(yōu)選為0.1質(zhì)量份以上，更優(yōu)選為0.5質(zhì)量份以上，進一步優(yōu)選為1質(zhì)量份以上。另外，從電特性的觀點考慮，優(yōu)選為50質(zhì)量份以下，更優(yōu)選為10質(zhì)量份以下，進一步優(yōu)選為5質(zhì)量份以下。

[填料]

通過在感光層中含有填料，可以良好地保持電荷產(chǎn)生材料的分散。作為填料，可以舉出：二氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、鈦酸鋇、氧化鋅、氧化鉛、氧化銦這樣的金屬氧化物粒子，這些當(dāng)中，從制成電子照相感光體的感光層時的電特性的觀點考慮，優(yōu)選為二氧化硅或氧化鋁，從分散性的觀點考慮，優(yōu)選為二氧化硅。

填料的平均初級粒徑通常為0.001μm以上，從抑制凝聚的觀點考慮，優(yōu)選為0.003μm以上、更優(yōu)選為0.005μm以上。另外，通常為1μm以下，從涂布液穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選為0.5μm以下、更優(yōu)選為0.1μm以下。從分散性的觀點考慮，填料的平均初級粒徑優(yōu)選小于上述電荷產(chǎn)生材料的平均初級粒徑。

對于填料的含量而言，相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份，通常為0.5質(zhì)量份以上，從分散穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選為1.0質(zhì)量份以上。另一方面，從電特性的觀點考慮，通常為15質(zhì)量份以下、優(yōu)選為10質(zhì)量份以下。

作為二氧化硅，可以對其表面實施基于氧化錫、氧化鋁、氧化銻、氧化鋯或氧化硅等無機物、或硬脂酸、多元醇或有機硅等有機物進行的處理。實施表面處理的情況下，優(yōu)選利用硅烷處理劑或硅烷偶聯(lián)劑來實施處理，其中，更優(yōu)選利用硅烷處理劑的處理。

作為硅烷處理劑、硅烷偶聯(lián)劑[硅烷處理劑]，可以舉出例如：二甲基甲硅烷基[二甲基二氯硅烷]、三甲基甲硅烷基[六甲基二硅氮烷]、二甲基聚硅氧烷[反應(yīng)性二甲基硅油]、二甲基硅氧烷、アルキリシリル、甲基丙烯?；坠柰榛?、烷基甲硅烷基、乙烯基硅烷、苯乙烯基硅烷、環(huán)氧硅烷、丙烯?；柰?、三聚異氰酸酯硅烷、巰基硅烷、硫醚硅烷及異氰酸酯硅烷等。其中，從感光層涂布液的保存穩(wěn)定性的觀點考慮，更優(yōu)選利用硅烷處理劑處理成二甲基甲硅烷基、三甲基甲硅烷基或二甲基聚硅氧烷，從電子照相感光體特性方面考慮，更優(yōu)選處理成二甲基甲硅烷基或三甲基甲硅烷基。

填料的平均初級粒徑[d]使用通過bet法測得的比表面積、以及構(gòu)成粒子的物質(zhì)的密度(真比重)，按照下述式(i)計算。

d＝6/ρs[ρ：密度(真比重)s：通過bet法測得的比表面積]···(i)

例如，通過bet法測得的比表面積為110m²/g的二氧化硅粒子的情況下，作為二氧化硅的構(gòu)成成分的二氧化硅的真比重＝2.2g/cm³來進行計算，平均初級粒徑為24.8nm。通過上述計算式算出的粒子的平均初級粒徑通常為200nm以下，從感光層形成時的涂布性的觀點考慮，優(yōu)選為100nm以下，從電子照相感光體的光衰減特性的觀點考慮，更優(yōu)選為50nm以下、進一步優(yōu)選為40nm以下。另外，通常為1nm以上，從抑制凝聚的觀點考慮，優(yōu)選為3nm以上，從電子照相感光體的光衰減特性的觀點考慮，更優(yōu)選為5nm以上。

[其它添加物]

為了使成膜性、撓性、涂布性、耐污染性、耐氣體性或耐光性等提高，在構(gòu)成感光層的各層中可以含有受阻胺或受阻酚等抗氧劑、聯(lián)三苯等增塑劑、紫外線吸收劑、氰基化合物等吸電子性化合物、硅油等流平劑、或偶氮化合物等可見光遮光劑等添加物。另外，出于降低感光體表面的摩擦阻抗、磨損、提高調(diào)色劑從感光體轉(zhuǎn)印到轉(zhuǎn)印帶、紙上的轉(zhuǎn)印效率等目的，也可以含有由氟類樹脂、硅樹脂或聚乙烯樹脂等形成的粒子或填料。

[感光層形成用涂布液]

感光層形成用涂布液含有上述粘結(jié)樹脂、電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料及溶劑。上述涂布液含有基于cukα射線的x射線衍射中于布拉格角(2θ±0.2)為27.2°顯示強衍射峰的氧鈦酞菁(d型)作為上述電荷產(chǎn)生材料的情況下，將上述涂布液在溫度55℃、相對濕度10％的條件下保管96小時時，作為感光體的半衰曝光量e1/2的變化率為75％以下。從感光體的生產(chǎn)效率的觀點考慮，優(yōu)選為50％以下、更優(yōu)選為25％以下、進一步優(yōu)選為10％以下。

為了滿足上述變化率，使用例如以下方法：另外準(zhǔn)備包含與在涂布液中含有d型氧鈦酞菁的同時還含有填料及聚乙烯醇縮醛樹脂且將d型氧鈦酞菁分散在聚乙烯醇縮醛樹脂中而得到的涂布液不同的材料的涂布液，并將它們進行混合等。通過將上述涂布液涂布在導(dǎo)電性支撐體上而形成感光層，可以制成帶正電用電子照相感光體。需要說明的是，上述涂布液可以涂布在導(dǎo)電性支撐體上的底襯層上，也可以涂布在電荷傳輸層上。溶劑可以使用以下說明的溶劑。

[各層的形成方法]

本發(fā)明的底襯層、及構(gòu)成感光體的各層可如下形成：將各層中所含有的物質(zhì)溶解或分散于溶劑中而得到涂布液，并利用浸漬涂布、噴霧涂布、噴嘴涂布、棒涂、輥涂或刮刀涂布等公知的方法將所得到的涂布液在支撐體上涂布并進行干燥，并按照各層的順序依次重復(fù)進行上述涂布、干燥工序。

涂布液的制作中使用的溶劑或分散介質(zhì)沒有特別限制，作為具體例，可列舉：甲醇、乙醇、丙醇及2-甲氧基乙醇等醇類、四氫呋喃、1,4-二氧雜環(huán)己烷及二甲氧基乙烷等醚類、甲酸甲酯及乙酸乙酯等酯類、丙酮、甲乙酮及環(huán)己酮等酮類、苯、甲苯及二甲苯等芳香族烴類、二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、四氯乙烷、1,2-二氯丙烷及三氯乙烯等氯代烴類、正丁基胺、異丙醇胺、二乙胺、三乙醇胺、乙二胺及三亞乙基二胺等含氮化合物類、以及乙腈、n-甲基吡咯烷酮、n,n-二甲基甲酰胺及二甲亞砜等非質(zhì)子性極性溶劑類等。另外，這些溶劑或分散介質(zhì)可以單獨使用1種，也可以以任意的組合及種類組合使用2種以上。

從分散性及保存性的觀點考慮，感光層中使用的溶劑優(yōu)選含有四氫呋喃。該情況下的四氫呋喃的含量相對于全部溶劑100質(zhì)量份通常為10質(zhì)量份以上，從分散性的觀點考慮，優(yōu)選為30質(zhì)量份以上、更優(yōu)選為70質(zhì)量份以上。從涂布性的觀點考慮，優(yōu)選為90質(zhì)量份以下。

溶劑或分散介質(zhì)的使用量沒有特別限制，優(yōu)選考慮各層的目的及所選擇的溶劑、分散介質(zhì)的性質(zhì)，以涂布液的固體成分濃度、粘度等物性達到所期望范圍的方式進行適當(dāng)調(diào)整。例如，單層型感光體、及功能分離型感光體的電荷傳輸層的情況下，涂布液的固體成分濃度通常為5質(zhì)量％以上、優(yōu)選為10質(zhì)量％以上，并且通常為40質(zhì)量％以下、優(yōu)選為35質(zhì)量％以下的范圍。另外，涂布液的粘度通常為10cps以上、優(yōu)選為50cps以上，并且通常為500cps以下、優(yōu)選為400cps以下的范圍。

另外，疊層型感光體的電荷產(chǎn)生層的情況下，涂布液的固體成分濃度通常為0.1質(zhì)量％以上、優(yōu)選為1質(zhì)量％以上，并且通常為15質(zhì)量％以下、優(yōu)選為10質(zhì)量％以下的范圍。另外，涂布液的粘度通常為0.01cps以上、優(yōu)選為0.1cps以上，并且通常為20cps以下、優(yōu)選為10cps以下的范圍。

作為涂布液的涂布方法，可以舉出例如：浸涂法、噴涂法、旋涂法、珠涂布法、繞線棒涂布法、刮刀涂布法、輥涂法、氣刀涂布法及簾流涂布法等，也可以使用其它公知的涂布法。

＜盒、圖像形成裝置＞

接著，基于示出裝置的一例的圖1對使用了本發(fā)明的電子照相感光體的鼓盒、圖像形成裝置進行說明。

在圖1中，1為鼓狀感光體，其以軸為中心沿箭頭方向以給定的圓周速度進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。感光體1在其旋轉(zhuǎn)過程中通過帶電裝置2在其表面形成正或負的給定電位的均勻帶電，接著，在曝光裝置3中通過圖像曝光裝置進行用于形成潛像的曝光。所形成的靜電潛像接著在顯影裝置4中進行調(diào)色劑顯影，該調(diào)色劑顯影通過電暈轉(zhuǎn)印裝置5依次轉(zhuǎn)印于由進紙部供給的記錄紙(紙張、媒介)p上。圖像轉(zhuǎn)印后的轉(zhuǎn)印體接著被送到定影裝置7進行圖像定影，向機器外打印出圖像。圖像轉(zhuǎn)印后的感光體1的表面通過清潔裝置6除去轉(zhuǎn)印殘留的調(diào)色劑，通過除電裝置進行除電，再進行潔凈化以用于下一次的圖像形成。

在使用本發(fā)明的電子照相感光體時，作為帶電器，除了圖1記載的電暈管、格柵電暈管等電暈帶電器以外，還可以舉出使電壓施加后的直接帶電構(gòu)件與感光體表面接觸而使其帶電的直接帶電裝置。作為直接帶電裝置的例子，可以舉出例如帶電輥及帶電刷等接觸帶電器等。作為直接帶電方法，伴有氣體中放電的帶電、或不伴有氣體中放電的注入帶電都可以。另外，作為在帶電時施加的電壓，可以采用僅直流電壓的情況，以及還可以采用在直流電壓上疊加交流電壓的方式。為了使其均勻帶電，也可以使用多個帶電器。

作為曝光，可以舉出例如鹵素?zé)?、熒光燈、激?半導(dǎo)體及he-ne)、led、感光體內(nèi)部曝光方式等，作為數(shù)字式電子照相方式，優(yōu)選使用激光、led或光閘陣列等。作為波長，除780nm的單色光以外，還可以使用600～700nm區(qū)域的稍微靠近短波長的單色光。

作為顯影工序，可以舉出例如瀑布顯影、單組分絕緣調(diào)色劑顯影、單組分導(dǎo)電調(diào)色劑顯影、雙組分磁刷顯影等干式顯影方式、濕式顯影方式等。作為調(diào)色劑，可以使用粉碎調(diào)色劑、以及懸浮造粒、懸浮聚合、乳液聚合凝聚法等得到的化學(xué)調(diào)色劑。特別是在化學(xué)調(diào)色劑的情況下，可使用4～8μm左右的小粒徑的調(diào)色劑，從形狀接近球形的調(diào)色劑到馬鈴薯狀的偏離球形的調(diào)色劑均可使用。聚合調(diào)色劑的帶電均勻性、轉(zhuǎn)印性優(yōu)異，可優(yōu)選用于高畫質(zhì)化。

作為轉(zhuǎn)印工序，可以舉出例如電暈轉(zhuǎn)印、輥轉(zhuǎn)印、帶轉(zhuǎn)印等靜電轉(zhuǎn)印法、壓力轉(zhuǎn)印法及粘合轉(zhuǎn)印法。作為定影，可以舉出例如熱輥定影、閃光定影、烘箱定影、壓力定影、ih定影、帶定影及ihf定影等，這些定影方式可單獨使用，也可以以組合的形式使用多個定影方式。

清潔工序雖然有時也可以省略，但在使用清潔工序的情況下，可使用例如刷清潔器、磁刷清潔器、靜電刷清潔器、磁輥清潔器及刮刀清潔器等。

除電工序多數(shù)情況下可省略，但在使用的情況下，可使用例如熒光燈及l(fā)ed等，作為強度，多數(shù)情況下使用曝光光的3倍以上的曝光能量。除這些工藝以外，還可以具有前曝光工序或輔助帶電工序這樣的工藝。

在本發(fā)明中，可以將上述鼓狀感光體1、帶電裝置2、顯影裝置4及清潔裝置6等構(gòu)成要素中的多個要素以鼓盒的形式一體結(jié)合而構(gòu)成，也可以將該鼓盒相對于復(fù)印機或激光打印機等電子照相裝置主體能夠裝卸地構(gòu)成。例如可以將帶電裝置2、顯影裝置4及清潔裝置6中的至少1個與鼓狀感光體1一起一體支撐而制成盒。

定影裝置7由上部定影構(gòu)件(定影輥)71及下部定影構(gòu)件(定影輥)72構(gòu)成，在定影構(gòu)件71或72的內(nèi)部配備有加熱裝置73。需要說明的是，圖1中示出的是在上部定影構(gòu)件71的內(nèi)部具備加熱裝置73的例子。上部及下部的各定影構(gòu)件71、72可以使用在不銹鋼、鋁等的金屬管坯上包覆有硅橡膠的定影輥、以及用特氟隆(注冊商標(biāo))樹脂包覆的定影輥或定影片等公知的熱定影構(gòu)件。進而，為了提高脫模性，各定影構(gòu)件71、72可以設(shè)為供給硅油等脫模劑的構(gòu)成，也可以設(shè)為利用彈簧等相互強制性地施加壓力的構(gòu)成。

在被轉(zhuǎn)印到記錄紙p上的調(diào)色劑在被加熱至給定溫度的上部定影構(gòu)件71和下部定影構(gòu)件72之間通過時，調(diào)色劑被加熱至熔融狀態(tài)，通過后經(jīng)冷卻將調(diào)色劑定影至記錄紙p上。需要說明的是，關(guān)于定影裝置，對其種類也沒有特別限定，可以設(shè)置以在此使用的定影裝置為代表的采用熱輥定影、閃光定影、烘箱定影、壓力定影等任意方式的定影裝置。

對于如以上那樣構(gòu)成的電子照相裝置而言，如下所述地進行圖像的記錄。即，首先利用帶電裝置2使感光體1的表面(感光面)帶電為給定的電位(例如-600v)。此時，可以利用直流電壓使其帶電，也可以在直流電壓上疊加交流電壓而使其帶電。

接著，利用曝光裝置3將帶電后的感光體1的感光面根據(jù)要記錄的圖像進行曝光，在感光面上形成靜電潛像。然后，利用顯影裝置4進行形成于該感光體1的感光面的靜電潛像的顯影。

對于顯影裝置4，在利用控制構(gòu)件(顯影刮刀)45對由供給輥43供給的調(diào)色劑t進行薄層化的同時，以給定的極性進行摩擦帶電，一邊負載于顯影輥44一邊運送，使其與感光體1的表面接觸。

負載于顯影輥44的帶電調(diào)色劑t與感光體1的表面接觸時，在感光體1的感光面形成對應(yīng)于靜電潛像的調(diào)色劑圖像。然后，該調(diào)色劑圖像通過轉(zhuǎn)印裝置5而被轉(zhuǎn)印于記錄紙p上。然后，未被轉(zhuǎn)印而殘留在感光體1的感光面上的調(diào)色劑通過清潔裝置6而被除去。

調(diào)色劑圖像被轉(zhuǎn)印于記錄紙p上之后，使其通過定影裝置7而將調(diào)色劑圖像熱定影至記錄紙p上，由此可得到最終的圖像。

需要說明的是，除上述構(gòu)成之外，圖像形成裝置也可以設(shè)為例如能夠進行除電工序的構(gòu)成。除電工序是通過對電子照相感光體進行曝光而進行電子照相感光體的除電的工序，作為除電裝置，可使用熒光燈或led等。另外，除電工序中使用的光多數(shù)情況下為以強度計具有曝光光的3倍以上的曝光能量的光。

另外，圖像形成裝置可以進一步變形而構(gòu)成，例如，可以設(shè)為能夠進行前曝光工序或輔助帶電工序等工序的構(gòu)成，或進行膠版印刷的構(gòu)成，或進一步使用了多種調(diào)色劑的全彩色串聯(lián)方式的構(gòu)成。

實施例

以下，基于實施例更具體地說明本發(fā)明的實施方式。需要說明的是，以下的實施例是為了詳細地說明本發(fā)明而示出的，只要不脫離其主旨，本發(fā)明并不限于以下所示的實施例。另外，只要沒有特殊說明，以下的實施例、比較例及參考例中的“份”的記載表示“質(zhì)量份”。

＜感光層形成用涂布液的制作＞

[實施例1s]

在1,2-二甲氧基乙烷150質(zhì)量份中加入氧鈦酞菁(以下，作為cgm1)10質(zhì)量份，所述氧鈦酞菁在基于cukα射線的x射線衍射中，如圖2所示那樣在布拉格角(2θ±0.2)為9.6°、24.1°、27.2°處具有強衍射峰，利用砂磨機進行粉碎分散處理，制作了顏料分散液。將這樣得到的160質(zhì)量份顏料分散液加入到聚乙烯醇縮丁醛[電氣化學(xué)工業(yè)株式會社制、商品名#6000c]的5重量％1,2-二甲氧基乙烷溶液100質(zhì)量份和適量的1,2-二甲氧基乙烷中，制作了最終的固體成分濃度為4.0重量％的底襯用分散液。

表面被切削的外徑30mm、長244mm、壁厚0.75mm的鋁合金制成的圓筒浸漬于該底襯用分散液中進行涂布，形成了干燥后的膜厚為0.4μm的底襯層。

接著，將上述氧鈦酞菁(cgm1)與甲苯一起用砂磨機進行分散，得到了固體成分濃度為3.5質(zhì)量％的分散液。接著，將二氧化硅粒子[nipponaerosil公司制、商品名：aerosilr972、初級粒徑＝16nm、比表面積＝110m²/g]與四氫呋喃一起進行分散，得到了固體成分濃度為4.0質(zhì)量％的分散液。接著，將聚乙烯醇縮醛樹脂[積水化學(xué)株式會社、商品名：s-lecks-10(mn：20,400、羥基：25.3mol％、縮醛度：74.1mol％、乙酰基：0.6mol％以下)]溶解于四氫呋喃中，得到了固體成分濃度為10質(zhì)量％的溶解液。

另一方面，將以下結(jié)構(gòu)式(ctm1)所示的空穴傳輸材料、以下結(jié)構(gòu)式(etm3)所示的電子傳輸材料、以下結(jié)構(gòu)式(p-1)所示的聚碳酸酯樹脂[粘均分子量：mv＝39,600]溶解于四氫呋喃和甲苯的混合溶劑中，加入相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為0.05質(zhì)量份的流平劑，利用均化器在該溶液中將上述氧鈦酞菁分散液、二氧化硅粒子分散液及聚乙烯醇縮醛樹脂溶解液均勻地混合，制備了固體成分濃度24％[四氫呋喃/甲苯＝8/2(質(zhì)量比)]的帶正電單層型感光層用涂布液。將這樣制備的帶正電單層型感光層用涂布液涂布在上述的底襯層上，并使得干燥后的膜厚為30μm，得到了帶正電單層型電子照相感光體as[經(jīng)時變化前]。各材料的組成比示于表-1。

另外，將得到的帶正電單層型感光層用涂布液放入到密閉容器中，使得涂布液中的溶劑不會揮發(fā)，在溫度55℃、相對濕度10％的條件下保管96小時，進行了帶正電單層型感光層用涂布液的經(jīng)時變化處理。然后，使用所得到的經(jīng)時變化后的涂布液，進行與制作經(jīng)時變化前的感光體時同樣的操作，從而得到了具有膜厚30μm的感光層的帶正電單層型電子照相感光體as[經(jīng)時變化后]。

[化學(xué)式33]

式(ctm1)

e_homo＝-4.60(ev)

[化學(xué)式34]

式(etm3)

[化學(xué)式35]

式(p-1)

[實施例2s、3s]

使用與實施例1s同樣的材料，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體bs及cs。

[實施例4s]

除了將實施例1s中使用的聚乙烯醇縮醛樹脂變更為不同的聚乙烯醇縮醛樹脂[可樂麗股份有限公司制、商品名：mowitalb14s(mn：約11,400、羥基：約23.6mol％、縮醛度：71.4mol％、乙?；?.0mol％)]以外，進行與實施例1s同樣的操作，從而以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ds。

[實施例5s、6s]

除了在實施例4s所使用的材料中追加使用作為添加劑的芳香族化合物10份以外，進行與實施例4s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體es及fs。

[實施例7s]

除了在實施例4s所使用的材料中未使用二氧化硅粒子以外，進行與實施例4s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體gs。

[實施例8s]

除了將實施例4s中所使用的二氧化硅粒子變更為不同的二氧化硅粒子[nipponaerosil公司制、商品名：aerosilry200、初級粒徑＝16nm、比表面積＝100m²/g]以外，進行與實施例4s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體hs。

[實施例9s]

除了將實施例4s中所使用的二氧化硅粒子變更為不同的二氧化硅粒子[nipponaerosil公司制、商品名：aerosilrx300、初級粒徑＝7nm、比表面積＝210m²/g]以外，進行與實施例4s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體is。

[實施例10s]

在實施例4s所使用的材料中追加加入作為添加劑的芳香族化合物10份、并將空穴傳輸材料變更為以下結(jié)構(gòu)式(ctm2)所示的空穴傳輸材料，除此以外，進行與實施例6s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體js。

[化學(xué)式36]

式(ctm2)

e_homo＝-4.65(ev)

[實施例11s]

除了將實施例6s所使用的空穴傳輸材料變更為以下結(jié)構(gòu)式(ctm3)所示的空穴傳輸材料以外，進行與實施例6s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ks。

[化學(xué)式37]

式(ctm3)

e_homo＝-4.58(ev)

[實施例12s]

除了將實施例6s所使用的空穴傳輸材料變更為以下結(jié)構(gòu)式(ctm4)所示的空穴傳輸材料以外，進行與實施例6s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ls。

[化學(xué)式38]

式(ctm4)

e_homo＝-4.48(ev)

[實施例13s]

除了將實施例6s所使用的空穴傳輸材料變更為以下結(jié)構(gòu)式(ctm5)所示的空穴傳輸材料以外，進行與實施例6s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ms。

[化學(xué)式39]

式(ctm5)

e_homo＝-4.63(ev)

[實施例14s]

除了將實施例11s所使用的粘結(jié)樹脂變更為以下結(jié)構(gòu)式(p-2)所示的聚碳酸酯樹脂[粘均分子量：mv＝40,200、o/p＝84.3/15.7(摩爾比)]以外，進行與實施例11s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ns。

[化學(xué)式40]

式(p-2)

[實施例15s]

除了將實施例11s所使用的粘結(jié)樹脂變更為以下結(jié)構(gòu)式(p-3)所示的聚碳酸酯樹脂[粘均分子量：mv＝40,700、q/r＝49/51(摩爾比)]以外，進行與實施例11s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體os。

[化學(xué)式41]

式(p-3)

[實施例16s]

除了將實施例14s所使用的電子傳輸材料變更為混合使用上述式(etm3)和以下結(jié)構(gòu)式(etm5)所示的電子傳輸材料以外，進行與實施例14s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ps。

[化學(xué)式42]

式(etm5)

[比較例1s]

除了未使用實施例1s所使用的聚乙烯醇縮醛樹脂和二氧化硅粒子以外，進行與實施例1s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體ra。

[比較例2s]

除了未使用實施例1s所使用的聚乙烯醇縮醛樹脂和二氧化硅粒子、并且追加使用了作為添加劑的芳香族化合物10份以外，進行與實施例1s同樣的操作，以表-1所記載的組成比制備帶正電單層型感光層用涂布液，得到了膜厚30μm的帶正電單層型感光體rb。

[表1]

表-1

＜電特性試驗＞

使用按照電子照相學(xué)會測定標(biāo)準(zhǔn)制造的電子照相特性評價裝置(電子照相學(xué)會編、《續(xù)電子照相技術(shù)的基礎(chǔ)和應(yīng)用》(続電子寫真技術(shù)の基礎(chǔ)と応用)、coronapublishingco.ltd、1996年發(fā)行，404-405頁)、使上述感光體鼓以恒定轉(zhuǎn)速100rpm旋轉(zhuǎn)，進行了基于帶電、曝光、電位測定、除電的循環(huán)的電特性評價試驗。此時，在溫度25℃、濕度50％的條件下按照感光體的初期表面電位為+700v的方式帶電，將鹵素?zé)舻墓庥酶缮孢^濾器形成780nm的單色光，并用該單色光進行曝光，測定表面電位達到+350v時的照射能量(半衰曝光能量)，將其作為半衰曝光量e1/2(單位：μj/cm²)。然后，對使用了各實施例的剛制備完之后的涂布液而制作的感光體、以及使用了實施經(jīng)時變化處理[溫度55℃、相對濕度10％、保管96小時]后的涂布液而制作的感光體進行測定，并使用上述測定所得到的各自的半衰曝光量e1/2的值，利用下述式(b)進行計算，由此進行了涂布液相對于經(jīng)時變化的耐久性的評價。將其結(jié)果示于表-2。

半衰曝光量變化率(％)

＝([e1/2(經(jīng)時變化后)]/[e1/2(經(jīng)時變化前)]－1)＊100……式(b)

[表2]

表-2

＜感光體鼓的制造＞

[實施例1]

在1,2-二甲氧基乙烷中加入cgm1，利用砂磨機進行分散處理，制作了顏料分散液。將這樣得到的顏料分散液加入到聚乙烯醇縮丁醛[電氣化學(xué)工業(yè)株式會社制、商品名dk-031]的1,2-二甲氧基乙烷溶液中，制作了固體成分濃度為4.0％的分散液。以干燥后的膜厚為0.4μm的方式將該分散液浸漬涂布于外徑30mm、長244mm、壁厚0.75mm的由鋁合金制成的圓筒上，然后進行干燥而形成了底襯層。

接著，將上述氧鈦酞菁(cgm1)與甲苯一起用砂磨機進行分散，得到了固體成分濃度3.5質(zhì)量％的分散液。接著，將nipponaerosil公司制造的商品名aerosilr972與四氫呋喃一起進行分散，得到了固體成分濃度4質(zhì)量％的分散液。

另一方面，用四氫呋喃和甲苯的混合溶劑將空穴傳輸材料(ctm1)、電子傳輸材料(etm1)、電子傳輸材料(etm2)和粘結(jié)樹脂(p-1)溶解，加入相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為0.05質(zhì)量份的作為流平劑的硅油，利用均化器在其中將上述的分散液2種進行均勻混合，得到了固體成分濃度24質(zhì)量％的涂布液。以干燥后的膜厚為25μm的方式將這樣制備的涂布液浸漬涂布在上述的底襯層上，形成感光層，得到了單層型感光體a。各材料的組成比示于表-3。

[化學(xué)式43]

空穴傳輸材料(ctm6)

[化學(xué)式44]

空穴傳輸材料(ctm7)

[化學(xué)式45]

電子傳輸材料(etm1)

[化學(xué)式46]

電子傳輸材料(etm2)

[化學(xué)式47]

電子傳輸材料(etm4)

[實施例2]

將實施例1所記載的氧鈦酞菁(cgm1)與甲苯一起用砂磨機進行分散，得到了固體成分濃度3.5質(zhì)量％的分散液。接著，將nipponaerosil公司制造的商品名aerosilr972與四氫呋喃一起進行分散，得到了固體成分濃度4質(zhì)量％的分散液。接著，將積水化學(xué)株式會社制造的商品名s-lecks-10溶解在四氫呋喃，得到了固體成分濃度10質(zhì)量％的溶解液。

另一方面，用四氫呋喃和甲苯的混合溶劑將下述結(jié)構(gòu)的空穴傳輸材料(ctm1)、電子傳輸材料(etm3)、和具有下述結(jié)構(gòu)作為重復(fù)單元的粘結(jié)樹脂(z)溶解，加入相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為0.05質(zhì)量份的作為流平劑的硅油，利用均化器在其中將上述的分散液2種和溶解液1種進行均勻混合，得到了固體成分濃度24質(zhì)量％的涂布液。以干燥后的膜厚為25μm的方式將這樣制備的涂布液浸漬涂布在與實施例1同樣的底襯層上，形成感光層，得到了單層型感光體b。各材料的組成比示于表-3。

[實施例3]

除了用與實施例2同樣的組成使膜厚為35μm以外，與實施例2同樣地實施操作，得到了單層型感光體c。

[實施例4]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體d。

[實施例5]

除了用與實施例4同樣的組成使膜厚為35μm以外，與實施例4同樣地實施操作，得到了單層型感光體e。

[實施例6]

按照與實施例2同樣的方法，使用nipponaerosil公司制造的商品名aerosilrx300來代替實施例2的nipponaerosil公司制造的商品名aerosilr972，除此以外，使用與實施例2同樣的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體f。

[實施例7]

除了以與實施例6同樣的組成使膜厚為35μm以外，與實施例6同樣地實施操作，得到了單層型感光體g。

[實施例8]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體h。

[實施例9]

除了以與實施例8同樣的組成使膜厚為35μm以外，與實施例8同樣地實施操作，得到了單層型感光體i。

[實施例10]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體j。

[實施例11]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚35μm的單層型感光體k。

[實施例12]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體r。

[實施例13]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體s。

[實施例14]

按照與實施例2同樣的方法、使用表-3所記載的各材料，以表-3所記載的組成比制作涂布液，得到了膜厚25μm的單層型感光體t。

[比較例1]

將實施例1所記載的氧鈦酞菁(cgm1)與甲苯一起用砂磨機進行分散，得到了固體成分濃度3.5質(zhì)量％的分散液。

另一方面，用甲苯將上述結(jié)構(gòu)的空穴傳輸材料(ctm6)、空穴傳輸材料(ctm7)、電子傳輸材料(etm4)、和具有上述結(jié)構(gòu)作為重復(fù)單元的粘結(jié)樹脂(z)溶解，加入相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為0.05質(zhì)量份的作為流平劑的硅油，利用均化器在其中將上述的分散液進行均勻混合，得到了固體成分濃度24質(zhì)量％的涂布液。以干燥后的膜厚為25μm的方式將這樣制備的涂布液浸漬涂布在與實施例1同樣的底襯層上，形成感光層，得到了單層型感光體l。各材料的組成比示于表-3。

[比較例2]

除了從實施例2中除去了nipponaerosil公司制造的商品名aerosilr972以外，與實施例2同樣地實施操作，得到了單層型感光體m。

[比較例3]

將氧鈦酞菁(以下，作為cgm2)與甲苯一起用砂磨機進行分散，得到了固體成分濃度3.5質(zhì)量％的分散液，所述氧鈦酞菁在基于cukα射線的x射線衍射中于布拉格角(2θ±0.2)為9.2°、10.5°、26.2°顯示主要的衍射峰、且具有圖3所示的粉末x射線衍射光譜。將nipponaerosil公司制造的商品名aerosilr972與四氫呋喃一起進行分散，得到了固體成分濃度4質(zhì)量％的分散液。

另一方面，用四氫呋喃和甲苯的混合溶劑將上述結(jié)構(gòu)的空穴傳輸材料(ctm1)、電子傳輸材料(etm1)、電子傳輸材料(etm2)、具有上述結(jié)構(gòu)作為重復(fù)單元的粘結(jié)樹脂(z)溶解，加入相對于粘結(jié)樹脂100質(zhì)量份為0.05質(zhì)量份的作為流平劑的硅油，利用均化器在其中將上述的分散液進行均勻混合，得到了固體成分濃度24質(zhì)量％的涂布液。以干燥后的膜厚為25μm的方式將這樣制備的涂布液浸漬涂布在與實施例1同樣的底襯層上，形成感光層，得到了單層型感光體n。各材料的組成比示于表-3。

[比較例4]

除了使用了氧鈦酞菁(以下，作為cgm3)以外，與比較例1同樣地進行制作，得到了單層型感光體o，所述氧鈦酞菁在基于cukα射線的x射線衍射中于布拉格角(2θ±0.2)為7.5°、22.5°、25.3°、28.6°顯示強衍射峰、且具有圖4所示的粉末x射線衍射光譜。各材料的組成比示于表-3。

[比較例5]

將表-3所記載的電荷產(chǎn)生材料、空穴傳輸材料、電子傳輸材料、填料及粘合劑樹脂與四氫呋喃800質(zhì)量份加入到球磨機(氧化鋯)中，進行50小時混合、分散處理，制備了感光層用涂布液。利用浸涂法將所得到的涂布液涂布在導(dǎo)電性基板上，在100℃進行40分鐘處理而從涂膜中除去四氫呋喃，得到了具備膜厚25μm的感光層的單層型感光體u。

[參考例1]

從市售的brother制激光打印機justioprohl-6180dw用鼓單元dr-51j中取出感光體，將該感光體作為p。

[參考例2]

從市售的brother制激光打印機justioprohl-2270dw用鼓單元dr-22j中取出感光體，將該感光體作為q。

對于所制作的感光體a～q，進行以下的電特性試驗及圖像評價試驗，將這些結(jié)果歸納于表-4～表-8。

＜電特性試驗＞

使用按照電子照相學(xué)會測定標(biāo)準(zhǔn)制造的電子照相特性評價裝置(電子照相學(xué)會編、《續(xù)電子照相技術(shù)的基礎(chǔ)和應(yīng)用》(続電子寫真技術(shù)の基礎(chǔ)と応用)、coronapublishingco.ltd、1996年發(fā)行，404-405頁)、使上述感光體鼓以恒定轉(zhuǎn)速100rpm旋轉(zhuǎn)，進行了基于帶電、曝光、電位測定、除電的循環(huán)的電特性評價試驗(動態(tài)方式)。曝光使用的是將鹵素?zé)舻墓庥酶缮孢^濾器形成780nm的單色光，將曝光量為0.3μj/cm²的曝光后表面電位作為vl1、將曝光量為0.5μj/cm²的曝光后表面電位作為vl2、將曝光量為0.8μj/cm²的曝光后表面電位作為vl3、將曝光量為1.0μj/cm²的曝光后表面電位作為vl4、將曝光量為1.5μj/cm²的曝光后表面電位作為vl5。

除電的有無作為表-4中記載的條件。另外，測定半衰曝光量(以下，稱為e/2)和衰減至初期表面電位的1/5的曝光量(以下，稱為e/5)，求出了e/2與e/5之差。在vl測定時，將從曝光起至電位測定所需的時間設(shè)為60ms。在測定環(huán)境為溫度25℃、相對濕度50％下進行測定。將感光體的初期表面電位(以下，稱為v0)設(shè)定為+700±20v而測定曝光后電位所得到的結(jié)果示于表-4。另外，將v0設(shè)定為+900±20v的結(jié)果示于表-5、將v0設(shè)定為+500±20v的結(jié)果示于表-6。

另外，使用gen-tech公司制造的cynthia，使上述鼓以150rpm旋轉(zhuǎn)，將從曝光起至電位測定所需的時間設(shè)為33ms，將v0設(shè)定為+600±20v，將曝光量為0.3μj/cm²的曝光后表面電位作為vl1、將曝光量為0.5μj/cm²的曝光后表面電位作為vl2、將曝光量為0.8μj/cm²的曝光后表面電位作為vl3、將曝光量為1.0μj/cm²的曝光后表面電位作為vl4、將曝光量為1.5μj/cm²的曝光后表面電位作為vl5。除電的有無作為表-7中記載的條件。

另外，測定半衰曝光量(以下，稱為e/2)和衰減至初期表面電位的1/5的曝光量(以下，稱為e/5)，求出了e/2與e/5之差。|e/2－e/5|的值越小，表示光衰減曲線的すそ切れ越好。將測定曝光后電位所得到的結(jié)果示于表-7。另外，將曝光量0.4μj/cm²的曝光后表面電位作為vl6，將以動態(tài)方式測定的結(jié)果示于表-8。

另外，使用gen-tech公司制造的cynthia，將v0設(shè)為+600±20v，在曝光波長780nm、照射時間100ms、曝光量0.4μj/cm²的條件下以靜態(tài)方式測定了曝光后電位，將所得到的結(jié)果示于表-8。

＜圖像評價試驗＞

將上述單層型感光體c安裝到市售的激光打印機hl-6180dw(brother公司制)的鼓盒(dr-51j)中，確認了基于黑色實心打印的圖像濃度和基于白色實心打印的黑點。在以下的3個測定環(huán)境下進行了測定：常溫常濕(溫度25℃、相對濕度50％，以下稱為n/n)、低溫低濕(溫度10℃、相對濕度15％，以下稱為l/l)、高溫高濕(溫度32℃、相對濕度80％，以下稱為h/h)。結(jié)果示于表-9。

[表3]

表-3

[表4]

表-4

[表5]

表-5

[表6]

表-6

[表7]

表-7

[表8]

表-8

[表9]

表-9

由以上結(jié)果可知，采用滿足本發(fā)明的構(gòu)成，可以得到電特性良好的電子照相感光體及圖像特性良好的圖像形成裝置。

使用特定的實施方式對本發(fā)明詳細地進行了說明，但可以在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下進行各種變更及變形，這對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見的。需要說明的是，本申請基于2014年11月10日提出申請的日本專利申請(日本特愿2014-228030)及2015年7月10日提出申請的日本專利申請(日本特愿2015-138952)，其全部內(nèi)容在此作為參照被引用。