本發(fā)明涉及曝光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光機。

背景技術(shù)：

顯示基板的制備包括曝光過程，曝光過程可將掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)移至顯示基板上，從而形成顯示基板的圖形。

隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，大尺寸的顯示基板逐漸得到人們的青睞，但大尺寸的掩膜版卻因制備困難、成本過高等原因，無法運用在大尺寸顯示基板的曝光過程中。通常，在對大尺寸的顯示基板進行曝光時，會采用拼接曝光方式，也就是將大尺寸的顯示基板劃分成若干個小尺寸的區(qū)域，然后利用尺寸較小的掩膜版對各個區(qū)域依次進行曝光，最終拼合形成顯示基板的圖形。

目前，曝光過程中較常用的曝光機為接近式曝光機，接近式曝光機在進行曝光時，對掩膜版與顯示基板之間的距離有一定的要求，需控制掩膜版與顯示基板之間的距離在幾百微米以內(nèi)。而采用拼接曝光方式對顯示基板進行曝光時，掩膜版與顯示基板需要進行多次對位，在對位過程中，可能會出現(xiàn)對位錯誤、掩膜版與顯示基板之間的距離變化等現(xiàn)象，從而無法完成曝光。

為了解決這一問題，在掩膜版上方，與掩膜版平行的平面內(nèi)安裝了兩套檢出系，一套檢出系平行且對應(yīng)于掩膜版的一條邊，另一套檢出系平行且對應(yīng)于與上述掩膜版的另一條邊，兩套檢出系所對應(yīng)的掩膜版的兩條邊相對，檢出系用于掩膜版與顯示基板的對位、測量掩膜版與顯示基板之間的距離等，以在保證掩膜版與顯示基板對位準(zhǔn)確的同時，確保掩膜版在相對的兩條邊處與顯示基板之間的距離均符合曝光要求，從而整個掩膜版與顯示基板之間的距離符合曝光要求。

然而掩膜版可能從多個方向與顯示基板進行對位，目前通常的做法是在掩膜版上方的空間，對應(yīng)于掩膜版的每條邊的位置各安裝一套檢出系，但是這樣會導(dǎo)致曝光機的生產(chǎn)成本較高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光機，以在滿足從多個方向?qū)ρ谀ぐ婧惋@示基板進行對位的同時，降低曝光機的生產(chǎn)成本。

為了達到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種曝光機，所述曝光機包括兩套檢出系，所述兩套檢出系所在的平面平行且高于掩膜版所在的平面，兩套所述檢出系分別平行且對應(yīng)于所述掩膜版相對的第一邊和第二邊，所述曝光機還包括驅(qū)動模塊、以及通過履帶連接的主動輪和從動輪，所述兩套檢出系固裝在所述從動輪的端面上，所述主動輪與所述驅(qū)動模塊連接，所述驅(qū)動模塊能夠驅(qū)動所述主動輪轉(zhuǎn)動，所述從動輪在所述主動輪的帶動下轉(zhuǎn)動，所述兩套檢出系在所在平面內(nèi)隨所述從動輪轉(zhuǎn)動第一角度；其中，所述第一角度為大于零的任一角度值。

本發(fā)明所提供的曝光機中，兩套檢出系均固裝在從動輪的端面上，從動輪與主動輪通過履帶連接，當(dāng)驅(qū)動模塊驅(qū)動主動輪轉(zhuǎn)動時，主動輪會通過履帶帶動從動輪一起轉(zhuǎn)動，這時，固裝在從動輪的端面上的兩套檢出系在其所在平面內(nèi)隨從動輪轉(zhuǎn)動第一角度，從而兩套檢出系由分別平行且對應(yīng)于掩膜版的兩條相對的邊，變化至另一位置，而第一角度可以是任一大于零的角度值，可見，上述兩套檢出系可轉(zhuǎn)動至多個位置。因此，本發(fā)明所提供的曝光機可從多個方向?qū)ρ谀ぐ婧痛毓獾娘@示基板進行對位，并測量掩膜版與待曝光的顯示基板之間的距離，相比于現(xiàn)有技術(shù)中，對應(yīng)于掩膜版的每條邊的位置各安裝有一套檢出系，本發(fā)明所提供的曝光機僅包括兩套檢出系，大大降低了曝光機的生產(chǎn)成本。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1為本發(fā)明實施例所提供的曝光機的第一結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例所提供的曝光機的第二結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

10-檢出系； 11-長條狀的傳感器載體；

12-對位鏡頭； 13-間距測量傳感器；

131-探測激光發(fā)射子單元； 132-探測激光接收子單元；

133-圖像采集子單元； 20-掩膜版；

21-第二對位標(biāo)記； 22-間距測量窗口；

30-主動輪； 40-從動輪；

50-履帶； 60-導(dǎo)軌；

70-基臺； 100-待曝光的顯示基板。

具體實施方式

為使本發(fā)明所提出的技術(shù)方案的目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面將結(jié)合附圖，對本發(fā)明所提出的技術(shù)方案的實施例進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅僅是所提出的技術(shù)方案的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其它實施例，均屬于本發(fā)明保護的范圍。

為了便于描述，在本實施例中，稱掩膜版中兩條相對的邊分別為第一邊和第二邊。

參見圖1和圖2，基于上述結(jié)構(gòu)，本發(fā)明提供了一種曝光機，該曝光機包括的兩套檢出系10，一套檢出系10平行且對應(yīng)于掩膜版20的第一邊，另一套檢出系10平行與相對于第二邊，兩套檢出系10所在的平面與掩膜版20平行，且兩套檢出系10所在的平面位于掩膜版20的上方，這樣，在掩膜版20和待曝光的顯示基板100對位時，兩套檢出系10分別對應(yīng)在第一邊和第二邊，可分別測量掩膜版20在第一邊處與待曝光的顯示基板100的距離和在第二邊處與待曝光的顯示基板100的距離，當(dāng)二個距離值相等且符合曝光要求時，對顯示基板進行曝光。

請繼續(xù)參見圖1，本發(fā)明所提供的曝光機還包括主動輪30、從動輪40和驅(qū)動模塊，其中，驅(qū)動模塊與主動輪30連接，用于驅(qū)動主動輪30轉(zhuǎn)動，從動輪40與主動輪30之間通過履帶50連接，主動輪30轉(zhuǎn)動時，可帶動從動輪40一起轉(zhuǎn)動，上述兩套檢出系10固裝在從動輪40的端面上，從動輪40轉(zhuǎn)動時，可帶動從動輪40端面上的兩套檢出系10同時轉(zhuǎn)動，從而，兩套檢出系10能夠在其所在的平面內(nèi)，隨著從動輪40轉(zhuǎn)動一定的角度，稱兩套檢出系10轉(zhuǎn)動的角度為第一角度，第一角度可為任意一個大于零的角度值。

在現(xiàn)有技術(shù)中，為了實現(xiàn)掩膜版20與待曝光的顯示基板100從多個方向?qū)ξ?，設(shè)置了多套檢出系10，每套檢出系10的成本都相對較高；而在本實施例中，通過兩套檢出系10、主動輪30、從動輪40和驅(qū)動模塊來實現(xiàn)掩膜版20與待曝光的顯示基板100從多個方向?qū)ξ?，而主動?0、從動輪40和驅(qū)動模塊的成本遠遠低于一套檢出系10的成本，可見，本實施例中的曝光機的生產(chǎn)成本明顯降低。

本實施例的曝光機的工作原理為：稱兩套檢出系10分別平行且對應(yīng)第一邊和第二邊時，檢出系10所處的狀態(tài)為初始狀態(tài)，在這個狀態(tài)下，掩膜版20可在第一邊處和第二邊處分別與待曝光的顯示基板100對位；當(dāng)檢出系10轉(zhuǎn)動了第一角度時，兩套檢出系10分別平行且對應(yīng)掩膜版20的另兩條相對的邊，這時，稱檢出系10所處的狀態(tài)為轉(zhuǎn)動狀態(tài)，在這個狀態(tài)下，掩膜版20可在對應(yīng)邊處與待曝光的顯示基板100對位。

優(yōu)選的，可采用計算機程序等來調(diào)整檢出系10隨從動輪40轉(zhuǎn)動的角度，以實現(xiàn)檢出系10的自動調(diào)整。

需要說明的是，根據(jù)待曝光的顯示基板100的形狀不同，掩膜版20的形狀也包括多種形式，因此，第一角度的具體設(shè)定可根據(jù)掩膜版20的形狀而定?？梢韵氲?，當(dāng)掩膜版20包括多組相對的邊時，對應(yīng)的第一角度可包括多個角度值。

參見圖1，較常見的，顯示基板的形狀為矩形，對應(yīng)的掩膜版20可為矩形，掩膜版20包括兩組相對的邊，且相鄰的邊相互垂直，因此，第一角度可為90°。為了描述方便，可稱矩形掩膜版20中，除第一邊和第二邊的另外兩條邊分別為第三邊和第四邊。

由前述內(nèi)容可知，檢出系10的主要作用是實現(xiàn)掩膜版20與待曝光的顯示基板100的對位、測量掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離。為了達到這些目的，檢出系10的結(jié)構(gòu)可為多種，參見圖1和圖2，示例性的，檢出系10可包括：長條狀的傳感器載體11、對位鏡頭12和間距測量傳感器13，其中，對位鏡頭12和間距測量傳感器13均安裝在長條狀的傳感器載體11上。對于這種結(jié)構(gòu)的檢出系10，對位鏡頭12和間距測量傳感器13的成本較高，而且間距測量傳感器13需要精密的線性馬達來驅(qū)動，使得檢出系10的成本更高，從而本實施例中的曝光機以主動輪30等部件來取代若干套檢出系10的優(yōu)勢更為明顯。

在介紹上述檢出系10中各部分的主要作用之前，首先說明，為了實現(xiàn)掩膜版20與待曝光的顯示基板100的精準(zhǔn)對位，通常在待曝光的顯示基板100上設(shè)置有第一對位標(biāo)記，以“+”或者“#”表示第一對位標(biāo)記，對應(yīng)的，在掩膜版20上設(shè)置有第二對位標(biāo)記21(參見圖1)，以“◇”表示第二對位標(biāo)記21。在掩膜版20與待曝光的顯示基板100對位時，當(dāng)待曝光的顯示基板100上的“+”或者“#”的中心與掩膜版20上的“◇”的中心在垂直方向上重疊，則說明掩膜版20與待曝光的顯示基板100精準(zhǔn)對位。而對位鏡頭12就是用于觀察掩膜版20上的“◇”與待曝光的顯示基板100上的“+”或“#”是否重疊。

參見圖1和圖2，進一步的，為了便于間距測量傳感器13完成掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離測量，在掩膜版20上還設(shè)置有間距測量窗口22，當(dāng)檢出系10的間距測量傳感器13與間距測量窗口22在垂直方向上重疊時，間距測量傳感器13可穿過間距測量窗口22測量掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離，可參考的，間距測量窗口22可設(shè)計為矩形，因矩形的視野較大，更利于進行測量。

在采用拼接曝光方式進行曝光時，因掩膜版20與待曝光的顯示基板100需多次對位，為了使待曝光的顯示基板100上形成的圖形完整，以確保沒有相互重疊和相互間隔的部分，掩膜版20需要從第一邊處和第二邊處分別與待曝光的顯示基板100進行對位，掩膜版20也需要從第三邊處和第四邊處分別與待曝光的顯示基板100進行對位。因此，為了使檢出系10的各部分實現(xiàn)各自的作用，相應(yīng)的，在掩膜版20的第一邊處、第二邊處、第三邊處和第四邊處分別設(shè)置有第二對位標(biāo)記21和間距測量窗口22。

掩膜版20的第一邊和第二邊分別與待曝光的顯示基板100進行對位時，檢出系10可處于初始狀態(tài)，這時，兩個長條狀的傳感器載體11分別平行且對應(yīng)于第一邊和第二邊，其中，對應(yīng)于第一邊的長條狀的傳感器載體11上的對位鏡頭12在掩膜版20上的垂直投影與第一邊處的對位標(biāo)記“◇”重疊，對應(yīng)于第一邊的長條狀的傳感器載體11上的間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與第一邊處的間距測量窗口22重疊；對應(yīng)于第二邊的長條狀的傳感器載體11上的對位鏡頭12在掩膜版20上的垂直投影與第二邊處的對位標(biāo)記“◇”重疊，對應(yīng)于第二邊的長條狀的傳感器載體11上的間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與第二邊處的間距測量窗口22重疊。

或者，掩膜版20的第三邊和第四邊分別與待曝光的顯示基板100進行對位時，檢出系10可由初始狀態(tài)轉(zhuǎn)動90°，進入轉(zhuǎn)動狀態(tài)，兩個長條狀的傳感器載體11分別平行且對應(yīng)于第三邊和第四邊，對應(yīng)于第三邊的長條狀的傳感器載體11上的對位鏡頭12在掩膜版20上的垂直投影與第三邊處的對位標(biāo)記“◇”重疊，對應(yīng)于第三邊的長條狀的傳感器載體11上的間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與第三邊處的間距測量窗口22重疊；對應(yīng)于第四邊的長條狀的傳感器載體11上的對位鏡頭12在掩膜版20上的垂直投影與第四邊處的對位標(biāo)記“◇”重疊，對應(yīng)于第四邊的長條狀的傳感器載體11上的間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與第四邊處的間距測量窗口22重疊。

在現(xiàn)有技術(shù)中，也有通過掩膜版20上的一個對位標(biāo)記與待曝光的顯示基板100上的一個對位標(biāo)記進行對位的，但對位的準(zhǔn)確度低；還有通過掩膜版20上的一個對位標(biāo)記和一個像素的圖形與待曝光的顯示基板100上的一個對位標(biāo)記和一個像素的圖形進行對位的，但這樣的對位方法對像素的形狀要求較高，限制了一些顯示基板，可見，本實施例的曝光機的實用性更高。

參見圖1和圖2，為了提高測量掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離的精準(zhǔn)度，每套檢出系10可包括兩個對稱設(shè)置的間距測量傳感器13，優(yōu)選的，兩個間距測量傳感器13可相對于所屬檢出系10的對位鏡頭12對稱；優(yōu)選的，為了確保檢出系10對應(yīng)掩膜版20的一邊各處距離相等，兩個間距測量傳感器13所在直線可與所屬檢出系10的長條狀的傳感器載體11平行。相對應(yīng)的，檢出系10對應(yīng)掩膜版20的一邊處可包括兩個間距測量窗口22，檢出系10的一個間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與對應(yīng)邊處的一個間距測量窗口22重疊，檢出系10的另一個間距測量傳感器13在掩膜版20上的垂直投影與對應(yīng)邊處的另一個間距測量窗口22重疊。

更進一步的，對位鏡頭12可位于所屬檢出系10的長條狀的傳感器載體11的中心，可進一步確保檢出系10對應(yīng)掩膜版20的一邊各處距離相等，從而進一步提高測量掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離的精準(zhǔn)度。

參見圖1，優(yōu)選的，為了實現(xiàn)曝光機的通用性，以使檢出系10可適用于不同形狀大小的掩膜版20，本實施例中的曝光機還包括導(dǎo)軌60，導(dǎo)軌60安裝在從動輪40的端面上，長條狀的傳感器載體11安裝在導(dǎo)軌60上，從而長條狀的傳感器載體11通過導(dǎo)軌60間接固裝在從動輪40的端面上，長條狀的傳感器載體11可沿著導(dǎo)軌60移動，以根據(jù)不同的掩膜版20，來調(diào)節(jié)兩個長條狀的傳感器載體11之間的距離。優(yōu)選的，可將導(dǎo)軌60設(shè)置為垂直于長條狀的傳感器載體11，且將導(dǎo)軌60設(shè)置在兩個長條狀的傳感器載體11所在的平面內(nèi)；更優(yōu)選的，為了避免導(dǎo)軌60對曝光的光源造成遮擋，也為了避免影響掩膜版20與待曝光的顯示基板100進行對位，可將兩個長條狀的傳感器載體11的一端安裝在導(dǎo)軌60上。

進一步的，為了使長條狀的傳感器載體11在導(dǎo)軌60上穩(wěn)定移動，導(dǎo)軌60的數(shù)量可為兩根，可選的，長條狀的傳感器載體11的兩端分別對應(yīng)安裝在兩根導(dǎo)軌60上。

優(yōu)選的，可采用計算機程序等調(diào)整檢出系10在導(dǎo)軌60上的位置，以實現(xiàn)檢出系10的自動調(diào)整。

在本實施例中，間距測量傳感器13的測量原理并不是單一的，例如，可根據(jù)探測激光在待曝光的顯示基板100的表面形成的光點來測量掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離。下面以這一原理為例，介紹一種間距測量傳感器13。

參見圖2，間距測量傳感器13可包括依次相連的探測激光發(fā)射子單元131、探測激光接收子單元132和圖像采集子單元133，其中，探測激光發(fā)射子單元131能夠穿過間距測量窗口22向待曝光的顯示基板100的表面發(fā)射探測激光，探測激光接收子單元132能夠穿過間距測量窗口22接收經(jīng)待曝光的顯示基板100的表面反射的探測激光，圖像采集子單元133能夠采集探測激光接收子單元132接收的探測激光的圖像。

為了直觀地理解，在圖2中，用兩個箭頭分別表示探測激光的入射路線和反射路線。

當(dāng)掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離不同時，探測激光的圖像在待曝光的顯示基板100的表面的位置是不同的，因此，可在待曝光的顯示基板100的表面設(shè)定一個讀取位置，當(dāng)探測激光落在這一設(shè)定的讀取位置時，掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離符合曝光要求。在上述間距測量傳感器13中，圖像采集子單元133可采集到的探測激光的圖像，因此可看到探測激光在待曝光的顯示基板100的表面的具體位置，從而可有目的性地調(diào)節(jié)掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離，直到符合曝光要求?？梢?，上述間距測量傳感器13的圖像采集子單元133實現(xiàn)了測距的可視化操作，能夠較快地調(diào)節(jié)掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離，從而在很短的時間內(nèi)準(zhǔn)確地確定設(shè)定的讀取位置。若沒有圖像采集子單元133，就不能直觀地看到探測激光的圖像，只能通過在坐標(biāo)軸上微調(diào)掩膜版20與待曝光的顯示基板100之間的距離，并在示波器上尋找波形來確定設(shè)定的讀取位置，這樣就會浪費一些時間。

優(yōu)選的，圖像采集子單元133可為攝像頭，為了保護待曝光的顯示基板100，攝像頭中發(fā)出的光可為非紫外線光，從而避免了紫外線光對待曝光的顯示基板100的圖形造成損壞。

參見圖2，可選的，曝光機還可包括用于固定掩膜版20的掩模架以及用于放置待曝光的顯示基板100的基臺70，基臺70位于掩模架的下方。

值得一提的是，從動輪40上，兩個長條狀的傳感器載體11之間對應(yīng)的部分為透光區(qū)域，這樣，曝光的光源可通過從動輪40的透光區(qū)域照射在掩膜版20上。因此，從動輪40可位于檢出系10靠近掩膜版20的一側(cè)，也可位于檢出系10遠離掩膜版20的一側(cè)，均不會影響曝光效果。

優(yōu)選的，本實施例中的主動輪30和從動輪40均可選用齒輪，從動輪齒輪的透光區(qū)域可設(shè)計為鏤空形式。

當(dāng)然了，根據(jù)從動輪40的結(jié)構(gòu)不同，也可以采用其它方式來使曝光的光源照射在掩膜版20上，例如，可在掩膜版20與待曝光的顯示基板100完成對位后，將從動輪40移動至其它非曝光的區(qū)域。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。