本發(fā)明涉及光學(xué)膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種雙帶通截止型復(fù)合濾光膜、濾光片及其制備方法。
背景技術(shù):
飛行員在夜間飛行時,為了使其視覺不受座艙照明和座艙內(nèi)儀表的影響,需要佩戴夜視鏡。C類NVIS(夜視系統(tǒng))雙帶通截止型復(fù)合濾光膜可以實現(xiàn)飛機座艙照明不干擾飛行員對外觀察,同時也不影響其對座艙內(nèi)儀表的裸眼觀察,實現(xiàn)夜視兼容。因此,該類夜視鏡可用于現(xiàn)役飛行器的夜視兼容改裝,或為飛行員配置,以提高飛行員的夜間飛行器控制水平。但是,現(xiàn)有的C類NVIS雙帶通截止型復(fù)合濾光膜的膜系結(jié)構(gòu)復(fù)雜,導(dǎo)致其制備工藝困難,使得制成的濾光膜的功能不穩(wěn)定??梢?,現(xiàn)有的雙帶通截止型復(fù)合濾光片存在膜系結(jié)構(gòu)不合理,制備困難的問題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提供雙帶通截止型復(fù)合濾光膜,能夠有效過濾機艙內(nèi)照明光波,以防止飛機座艙照明對眼睛的影響;同時能夠使飛行器的夜視系統(tǒng)產(chǎn)生的光線透過。
為了達到上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
雙帶通截止型復(fù)合濾光膜,膜系結(jié)構(gòu)為滿足λ/4周期性的膜堆(LH)S,
其中,L為二氧化硅膜層;H為五氧化三鈦膜層,S為周期數(shù),取值為21-23;與基片相鄰的膜層為第1層,采用五氧化三鈦膜層,所述第1層的幾何厚度 為177-178nm;最外層為S層,采用二氧化硅膜層,所述第S層的幾何厚度為178-179nm;第2-S層中,偶數(shù)層均為二氧化硅膜層,偶數(shù)層的幾何厚度為50-101nm,奇數(shù)層均為五氧化三鈦膜層,奇數(shù)層的幾何厚度為30-50nm。
優(yōu)選地,S取值為22。
本發(fā)明制成的濾光膜,在波段540-585nm內(nèi)透過率最大值低于2%,在653-671nm處任意波長的透過率有一點要達到50%,671-725nm波段的透過率至少大于50%。725-950nm波段的透過率至少大于92%,透過率平均大于97%,紅外波段幾乎能透過。
在一種優(yōu)選的實施方式中,第1層的幾何厚度為177.05nm;第2層的幾何厚度為75.76nm;
第3層的幾何厚度為37.27nm;第4層的幾何厚度為78.89nm;
第5層的幾何厚度為47.18nm;第6層的幾何厚度為53.49nm;
第7層的幾何厚度為38.58nm;第8層的幾何厚度為82.23nm;
第9層的幾何厚度為46.44nm;第10層的幾何厚度為88.18nm;
第11層的幾何厚度為51.41nm;第12層的幾何厚度為92.54nm;
第13層的幾何厚度為51.8nm;第14層的幾何厚度為83.65nm;
第15層的幾何厚度為38.36nm;第16層的幾何厚度為59.64nm;
第17層的幾何厚度為35.24nm;第18層的幾何厚度為75.89nm;
第19層的幾何厚度為49.73nm;第20層的幾何厚度為94.78nm;
第21層的幾何厚度為53.36nm;第22層的幾何厚度為94.84nm;
第23層的幾何厚度為53.07nm;第24層的幾何厚度為93.91nm;
第25層的幾何厚度為49.13nm;第26層的幾何厚度為77.24nm;
第27層的幾何厚度為30.12nm;第28層的幾何厚度為55.92nm;
第29層的幾何厚度為42.28nm;第30層的幾何厚度為85.93nm;
第31層的幾何厚度為51.6nm;第32層的幾何厚度為97.17nm;
第33層的幾何厚度為54.09nm;第34層的幾何厚度為97.98nm;
第35層的幾何厚度為53.76nm;第36層的幾何厚度為95.61nm;
第37層的幾何厚度為53.04nm;第38層的幾何厚度為100.15nm;
第39層的幾何厚度為53.93nm;第40層的幾何厚度為92.96nm;
第41層的幾何厚度為51.64nm;第42層的幾何厚度為88.44nm;
第43層的幾何厚度為48.43nm;第44層的幾何厚度為178.8nm。
在該實施方式中對膜系中各個膜層的厚度進行優(yōu)化,使其實現(xiàn)以下功能:在波段450-520nm,565-585nm透過率的最大值低于0.5%;在波段540-550nm內(nèi)透過率最大值低于2%;在653-671nm波段中任意一點的波長透過率達到50%;在671-725nm處的透過率至少高于50%,透過率平均大于85%;在725-950nm波段的透過率至少高于92%,透過率平均大于97%。
波段450-520nm以及565-585nm為機艙內(nèi)照明光源的波段,因此在膜系設(shè)計時,需要對該波段的光源進行過濾。通過本發(fā)明中的膜系能夠有效過濾,透過率僅為0.5%,避免了機艙內(nèi)部照明光源的影響。540-550nm是綠光波段,為視覺的敏感波段,主要用于艙內(nèi)指示燈、信號燈、背光源,透過率僅為2%,既能降低其對夜視系統(tǒng)的影響,又能保證視力注意到其存在。飛機座艙內(nèi)的信息顯示器件在近紅外波段都有較高的輻射能量,這些輻射進入夜視成像設(shè)備,會激活其自動增益控制系統(tǒng),導(dǎo)致夜視儀的靈敏度降低,不能看清艙外的景物,從而喪失了夜視功能。653-671nm任意點的波段透過率達到50%,降低飛機座艙內(nèi)的信息顯示器件的輻射能,但也部分能進入濾光膜,保證飛行員能夠觀察到儀表等信息顯示器。725-950nm波段為長波段,幾乎都能通過本 發(fā)明的膜系過濾,使本發(fā)明通過連接外部設(shè)備利用光電圖像轉(zhuǎn)換原理來實現(xiàn)紅外觀察。
本發(fā)明提供一種雙帶通截止型復(fù)合濾光片,采用上述的膜系,還包括光學(xué)玻璃基片,在所述基片上覆蓋上述膜系中的第1層膜層。
本發(fā)明還提供雙帶通截止型復(fù)合濾光片的制備方法,包括以下步驟:
步驟S101,清潔基片;
步驟S102,將基片放入真空室內(nèi),抽真空至2×10-2Pa,加熱所述基片至170℃-200℃;
步驟S103,鍍制第1層膜層,對五氧化三鈦膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的五氧化三鈦膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-2Pa,離子轟擊電壓600V-1kV負高壓,離擊時間為15min-20min,使五氧化三鈦膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第1層膜層的厚度;
步驟S104,鍍制第2層膜層,對二氧化硅膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的二氧化硅膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-1Pa,離子轟擊電壓400V-800V負高壓,離擊時間為10min-15min,使二氧化硅膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第2層膜層的厚度;
步驟S105,鍍制第3層膜層,對五氧化三鈦膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的五氧化三鈦膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-1Pa,離子轟擊電壓200V-600V負高壓,離擊時間為10min-15min,使五氧化三鈦膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第3層膜層的厚度;
步驟S106,依次重復(fù)步驟S104和步驟S105,鍍制第4~43層膜層;
步驟S107,鍍制第44層膜層,對二氧化硅膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的二氧化硅膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-2Pa,離子轟擊電壓 600V-1kV負高壓,離擊時間為15min-20min,使二氧化硅膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第44層膜層的厚度;
步驟S108,將鍍制完成44層膜層的濾光片放置在真空室內(nèi)200℃的溫度中保溫2小時,自然冷卻至室溫后取出。
一種優(yōu)選的實施方式中,在步驟S103-步驟S107中還包括:離子輔助沉淀;在采用膜料對基片進行離子轟擊的同時,通過離子束轟擊在基片表面的淀積離子。通過離子束的動能轉(zhuǎn)移,使淀積離子獲得更大的動能,從而提高膜層的致密度。
一種優(yōu)選的實施方式中,在步驟S108中包括:
步驟S1081,將鍍制完成44層膜層的濾光片放置在真空室內(nèi)200℃的溫度中保溫2小時,待真空室溫度降至100℃以下,打開放氣閥向真空室內(nèi)充氣,使真空室內(nèi)氣壓與大氣壓相等,并放置2小時;
步驟S1082,在大氣壓環(huán)境下對濾光片進行烘烤,在200℃溫度中烘烤2小時。通過在大氣壓中進行烘烤,對濾光片進行老化處理,防止鍍制完成后波長飄移。
制作完的濾光片離開真空室并曝露在大氣中,膜層由于吸收空氣中的水氣使濾光片的中心波長變長。這是因為吸收水氣造成了膜層的有效折射率改變,有效的光學(xué)厚度也發(fā)生變化,導(dǎo)致波長飄移。本步驟中,通過在大氣中烘烤濾光片,使進入膜層中的水氣蒸發(fā),同時提高濾光片上膜層的聚集密度,防止鍍制完成后波長飄移。
本發(fā)明的有益效果為:
本發(fā)明中,濾光膜由二氧化硅膜層與五氧化三鈦膜層交互疊加形成的(LH)S膜系,對各個膜層的厚度都進行嚴格控制,使其在波段450-585nm的 透過率最大值低于0.5%,在653-671nm處任意波長的透過率至少一點達到50%,671-725nm波段的透過率至少大于50%。725-950nm波段的透過率至少大于92%,透過率平均大于97%,能夠?qū)崿F(xiàn)飛機座艙照明不干擾夜視鏡對外觀察,同時也不影響對座艙內(nèi)儀表的裸眼觀察,提高飛行員的夜間觀察能力。
將本發(fā)明的濾光膜鍍制在光學(xué)玻璃的表面,形成濾光鏡,能夠作為濾光片,可使用在夜視鏡中。
本發(fā)明提供的濾光片的制備方法,采用離子轟擊鍍膜,并根據(jù)膜層厚度同時通過石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法,得到較為精確的厚度控制結(jié)果和良好的膜層應(yīng)力匹配性,最終保證了整個膜系的物理和光學(xué)性能。同時,采用離子源輔助沉淀鍍膜和老化處理,防止鍍制完成后波長飄移。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹。
圖1為濾光片的實測光譜曲線;
圖2為540nm-550nm局部實測光譜曲線;
圖3為635nm-950nm局部實測光譜曲線。
具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明的附圖,對本發(fā)明的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
本實施例中提供一種雙帶通截止型復(fù)合濾光片,包括44層膜層和光線玻璃基片。上述的44層膜層的膜系結(jié)構(gòu)滿足λ/4周期性的膜堆(LH)S。其中, L為二氧化硅膜層;H為五氧化三鈦膜層,S為周期數(shù),取值為22。在第1-44層膜層中,奇數(shù)層均為五氧化三鈦膜層,偶數(shù)層均為二氧化硅膜層,每一層的幾何厚度具體如表1。
在該實施方式中對膜系中各個膜層的厚度進行優(yōu)化,使其實現(xiàn)以下功能:在波段540-585nm內(nèi)透過率最大值低于2%;在653-671nm波段中至少有一點的波長透過率能夠達到50%;在671-725nm處的透過率至少高于50%,透過率平均大于85%;在725-950nm波段的透過率至少高于92%,透過率平均大于97%。
表1
波段450-520nm以及565-585nm為機艙內(nèi)照明光源的波段。通過本發(fā)明中的膜系能夠有效過濾,透過率僅為0.5%,避免了機艙內(nèi)部照明光源的影響。 540-550nm是綠光波段,為視覺的敏感波段,主要用于艙內(nèi)指示燈、信號燈、背光源,透過率僅為2%,既能降低其對夜視系統(tǒng)的影響,又能保證視力能夠注意到其存在。飛機座艙內(nèi)的信息顯示器件在近紅外波段都有較高的輻射能量,這些輻射波段在653-671nm之間。本實例中,653-671nm任意點的波段透過率僅為50%,降低其輻射能,但部分也能進入濾光膜,保證飛行員能夠觀察到儀表等信息顯示器。725-950nm波段為長波段,幾乎都能通過本發(fā)明的膜系過濾,可以通過本實施例結(jié)合其他部件實現(xiàn)紅外觀察。
上述實施例的雙帶通截止型復(fù)合濾光片的制備方法,包括以下步驟:
步驟S101,清潔基片,并將清潔好的基片放入夾具中。
步驟S102,將基片放入真空室內(nèi),打開真空閥門,使真空室內(nèi)的真空度為2×10-2Pa,打開烘燒開關(guān),加熱基片至170℃-200℃。
步驟S103,鍍制第1層膜層,對五氧化三鈦膜料顆粒進行預(yù)熔,使膜料吸附的氣體放出,以減少雜質(zhì)。用預(yù)熔后的五氧化三鈦膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-2Pa,離子轟擊電壓600V-1kV負高壓,離擊時間為15min-20min,使五氧化三鈦膜料離子沉積在基片上。在離子沉積過程中同時采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法來確定第1層膜層的厚度。石英晶體監(jiān)控膜層厚度只能顯示其幾何厚度,而無法知道鍍制過程中膜層的折射率。但是其在監(jiān)控時輸出為電信號,呈線性變化,可以記錄膜料的蒸發(fā)速率,并用來控制鍍膜過程。光學(xué)監(jiān)控方法能夠測量膜層的光學(xué)厚度,從而可獲取鍍制過程中膜層的反射率和透射率,但是其信號呈正弦變化,難以監(jiān)控淀積速率。本步驟中,采用兩種方式結(jié)合來監(jiān)控,實現(xiàn)在鍍制過程中,能夠同時監(jiān)測膜層的厚度以及折射率,從而實現(xiàn)有效的控制鍍膜過程中的膜層厚度。
步驟S104,鍍制第2層膜層,對二氧化硅膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后 的二氧化硅膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-1Pa,離子轟擊電壓400V-800V負高壓,離擊時間為10min-15min,使二氧化硅膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第2層膜層的厚度。由于第2層膜層的厚度遠遠小于第1層的厚度,因此其離子轟擊電壓以及時間小于第1層膜相應(yīng)的鍍制參數(shù)。一方面降低單位時間內(nèi)離子從膜料中分離的數(shù)量,即減少分離密度;另一方面通過縮短離擊時間來減少單位時間內(nèi)淀積的離子數(shù)量。
步驟S105,鍍制第3層膜層,對五氧化三鈦膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的五氧化三鈦膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-1Pa,離子轟擊電壓200V-600V負高壓,離擊時間為10min-15min,使五氧化三鈦膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第3層膜層的厚度;在膜系的第2-43層中,奇數(shù)膜層的厚度薄于偶數(shù)膜層,因此,第3層膜層鍍制中,離子轟擊電壓低于第2層膜層的轟擊電壓,以降低其離子從膜料分離的密度。
步驟S106,依次重復(fù)步驟S104和步驟S105,鍍制第4~43層膜層;
步驟S107,鍍制第44層膜層,對二氧化硅膜料顆粒進行預(yù)熔,用預(yù)熔后的二氧化硅膜料對基片進行離子轟擊,真空度為2×10-2Pa,離子轟擊電壓600V-1kV負高壓,離擊時間為15min-20min,使二氧化硅膜料離子沉積在基片上,采用石英晶體監(jiān)控以及光學(xué)監(jiān)控的方法確定第44層膜層的厚度。
同時,在步驟S103-步驟S107中還包括:離子輔助沉淀;在采用膜料對基片進行離子轟擊的同時,通過離子束轟擊在基片表面的淀積離子。通過離子束的動能轉(zhuǎn)移,使淀積離子獲得更大的動能,從而提高膜層的致密度,以減少波長飄移。
步驟S108,將鍍制完成44層膜層的濾光片放置在真空室內(nèi)200℃的溫度中保溫2小時,自然冷卻至室溫后取出。
為了防止鍍制后的濾光片產(chǎn)生波長飄移,在一種實施方式中,在步驟S108中加入了老花處理。具體包括以下步驟:
步驟S1081,將鍍制完成44層膜層的濾光片放置在真空室內(nèi)200℃的溫度中保溫2小時,待真空室溫度降至100℃以下,打開放氣閥向真空室內(nèi)充氣,使真空室內(nèi)氣壓與大氣壓相等,并放置2小時。在高溫環(huán)境下,將濾光片放置在大氣中,使濾光片中的濾光膜充分與大氣中的水分接觸,實現(xiàn)加速老化。
步驟S1082,在大氣壓環(huán)境下對濾光片進行烘烤,在200℃溫度中烘烤2小時。通過在大氣壓中進行烘烤,進行老化處理,使進入膜層中的水氣蒸發(fā),同時提高濾光片上膜層的聚集密度,防止鍍制完成后波長飄移。
對本實施例制成的濾光片通過分光光度計測試器光譜特性,測試結(jié)果如圖1-3。在圖1-3中,X軸均表示波長(nm),Y軸均表示透過率(%)。圖1為濾光片的實測光譜曲線,圖2為540nm-550nm局部實測光譜曲線,圖3為635nm-950nm局部實測光譜曲線。從上述三個圖可知,本實施例制成的濾光片中,在波段450-520nm,565-585nm透過率最大值低于0.5%。在540-585nm間的透過率低于2%,在653-671nm波段中任意一點的波長透過率至少達到50%;在671-950nm波段的透過率至少高于92%,透過率平均大于97%。可見,本發(fā)明制成的濾光片能夠達到符合本發(fā)明目的中需要的透光率,滿足光學(xué)膜系的設(shè)計要求。
以上所述,僅為本發(fā)明的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因 此,本發(fā)明的保護范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。