技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了基于非對稱金屬包覆介質(zhì)波導(dǎo)的多層亞波長結(jié)構(gòu)刻寫裝置，該裝置包括He?Cd激光器，光電快門，擴(kuò)束器，半波片，分束器，平面反射鏡，棱鏡，折射率匹配油，襯底和非對稱金屬包覆介質(zhì)波導(dǎo)。He?Cd激光器發(fā)射的325nm激光束，通過光電快門后，經(jīng)擴(kuò)束器擴(kuò)束，經(jīng)半波片改變偏振方向，得到TM或TE偏振光，再由分束器分成兩束強度相等的相干光，兩束光通過平面反射鏡反射后，經(jīng)棱鏡耦合后輻照非對稱金屬包覆介質(zhì)波導(dǎo)，激發(fā)波導(dǎo)中的高階導(dǎo)模，高階導(dǎo)模干涉場曝光正性光刻膠，經(jīng)后續(xù)工藝處理，可制備出多層亞波長結(jié)構(gòu)。本發(fā)明可有效調(diào)控制備的多層亞波長結(jié)構(gòu)的層數(shù)和周期，成本低廉、操作簡單、產(chǎn)出高，在微納光學(xué)領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。

技術(shù)研發(fā)人員：王向賢;王茹;陳宜臻;張東陽;龐志遠(yuǎn);楊華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘭州理工大學(xué)
文檔號碼：201611137026
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.12
技術(shù)公布日：2017.03.08