本實用新型涉及打印技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種處理盒。
背景技術(shù):
電子成像裝置是通過電照相成像處理技術(shù)在記錄材料上形成圖像的設(shè)備,例如:電子照相復(fù)印件、激光打印機、電子照相打印機、傳真機、文字處理機等。
現(xiàn)有的電子成像裝置包括主體,以及可拆卸的安裝到主體內(nèi)的處理盒。處理盒內(nèi)還設(shè)置有顯影劑(未示出)、顯影元件6、顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3等。當(dāng)處理盒進(jìn)行顯影工作時,顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3的調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6接觸,以調(diào)節(jié)顯影元件6的表面上的顯影劑厚度。
由于調(diào)節(jié)片3a受到顯影元件6的擠壓變形后,調(diào)節(jié)片3a的部分地方彎曲變形會出現(xiàn)異常,導(dǎo)致顯影元件6在旋轉(zhuǎn)時,顯影元件6與調(diào)節(jié)片3a出現(xiàn)彎曲變形異常的部分接觸的表面會出現(xiàn)顯影劑厚度或顯影劑帶電量不均勻的現(xiàn)象,影響處理盒的顯影質(zhì)量。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型提供了一種處理盒,能夠有效防止由于處理盒內(nèi)的顯影元件表面的顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻而影響處理盒的顯影質(zhì)量。
本申請一方面提供一種處理盒,包括殼體,以及設(shè)置在殼體內(nèi)的顯影元件和顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件,所述處理盒內(nèi)還設(shè)置有位于所述顯影元件軸向端部并與所述顯影元件接觸的摩擦件,所述摩擦件對所述顯影元件表面的顯影劑進(jìn)行摩擦,使所述顯影元件軸向端部表面的顯影劑的厚度或顯影劑的帶電量變得均勻。
本申請第二方面提供一種處理盒,包括殼體,以及設(shè)置在殼體內(nèi)的顯影元件,所述處理盒內(nèi)還設(shè)置有位于所述顯影元件軸向端部并與所述顯影元件接觸的摩擦件,所述摩擦件對所述顯影元件軸向端部表面的顯影劑進(jìn)行摩擦,使所述顯影劑的帶電量變得均勻。
所述殼體內(nèi)還設(shè)置有顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件,所述顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件上設(shè)置有與所述顯影元件接觸的調(diào)節(jié)片,所述顯影元件表面與所述摩擦件接觸的區(qū)域包含所述顯影元件表面與所述調(diào)節(jié)片沿所述顯影元件軸向的端部接觸的區(qū)域。
所述顯影元件的表面設(shè)置有用于運載顯影劑的粗糙區(qū)域,所述摩擦件與所述顯影元件表面接觸的區(qū)域至少包括所述粗糙區(qū)域的一部分。
所述處理盒還包括密封件,所述密封件設(shè)置在所述顯影元件的端部,所述調(diào)節(jié)片的端部與所述密封件之間存在縫隙,所述摩擦件覆蓋所述縫隙。
所述顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件上還設(shè)置有清潔部件,所述摩擦件夾在清潔部件與所述顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件之間。
在所述顯影元件的表面上,所述摩擦件與所述顯影元件接觸的位置位于所述調(diào)節(jié)片與所述顯影元件接觸的位置沿所述顯影元件旋轉(zhuǎn)方向的下游。
所述摩擦件為薄片狀結(jié)構(gòu),所述摩擦件插入所述顯影元件與所述調(diào)節(jié)片之間。
所述摩擦件由彈性材料制成。
所述摩擦件由PET材料制成。
本申請?zhí)峁┑募夹g(shù)方案可以達(dá)到以下有益效果:
本申請?zhí)峁┑脑O(shè)置有摩擦件的處理盒能夠?qū)︼@影元件表面存在的厚度不均勻或帶電量不均勻的顯影劑進(jìn)行再摩擦,使顯影劑的厚度或帶電量變得均勻。
附圖說明
圖1所示為現(xiàn)有技術(shù)中的處理盒結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2所示為本實用新型涉及的處理盒結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3所示為本實用新型涉及的摩擦件位置關(guān)系示意圖;
圖4所示為本實用新型涉及的摩擦件位置關(guān)系示意圖;
圖5所示為本實用新型涉及的摩擦件位置關(guān)系示意圖;
圖6所示為本實用新型涉及的摩擦件位置關(guān)系示意圖;
圖7所示為采用本實用新型技術(shù)方案前的處理盒顯影質(zhì)量示意圖;
圖8所示為采用本實用新型技術(shù)方案后的處理盒顯影質(zhì)量示意圖。
具體實施方式
本實用新型提供一種摩擦件,與顯影元件表面存在顯影劑厚度和顯影劑帶電量不均勻的區(qū)域相接觸,對顯影劑進(jìn)行摩擦,使顯影劑厚度和顯影劑的帶電量變得均勻。
現(xiàn)有技術(shù)中,如圖1、圖2所示,顯影元件6為金屬圓筒形結(jié)構(gòu),可旋轉(zhuǎn)的支撐在處理盒1的殼體2上,在顯影元件6沿X方向延伸的圓弧形表面上分布有用于運載顯影劑,并將顯影劑轉(zhuǎn)移到感光元件(未示出)表面的粗糙區(qū)域6a,以及在X方向上位于粗糙區(qū)域6a外側(cè)的光滑區(qū)域6b。顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3設(shè)置在殼體2上,并且顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3的調(diào)節(jié)片3a在X方向上延伸的表面與顯影元件6的粗糙區(qū)域6a的圓弧形表面彈性接觸。通過預(yù)先設(shè)置調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6的表面之間的擠壓力,使顯影元件6繞著旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時,調(diào)節(jié)片3a對顯影元件6的表面上的顯影劑進(jìn)行摩擦以調(diào)節(jié)顯影劑的厚度,并使顯影劑帶上一定的電荷量。之后,顯影元件6的粗糙區(qū)域6a上的顯影劑對感光元件上的靜電潛像進(jìn)行顯影,在感光元件的表面形成可見的顯影劑圖像;最后,感光元件上的顯影劑圖像轉(zhuǎn)印到記錄介質(zhì)上,并通過電子成像裝置內(nèi)的定影組件定影。
但是,如圖2、圖3和圖6所示,為了避免殼體2內(nèi)的顯影劑從顯影元件6的端部的圓弧形表面與殼體2之間的縫隙內(nèi)泄露出去,在顯影元件6的端部還設(shè)置有密封件4,用于密封所述縫隙。當(dāng)將密封件4、顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3安裝到殼體2上之后,調(diào)節(jié)片3a沿顯影元件的軸向方向(X方向)的端面3a1與密封件4相對,且密封件4和調(diào)節(jié)片3a之間由于制造、裝配的誤差,會存在縫隙W。為了避免顯影劑從縫隙W中泄露出來,在顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3的端部的下方還設(shè)置有密封海綿(未示出)用于密封縫隙W。當(dāng)將顯影元件6安裝到處理盒上之后,調(diào)節(jié)片3a受到擠壓向下彎曲,并且調(diào)節(jié)片3a沿顯影元件6的軸向方向的端部在變形的過程中會與密封海綿接觸,從而導(dǎo)致調(diào)節(jié)片3a的端部的變形量出現(xiàn)異常,使顯影元件6的表面與調(diào)節(jié)片3a的端部接觸的區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的現(xiàn)象,最終導(dǎo)致如圖7所示的在記錄介質(zhì)8上形成可見的異常圖像(如虛線框Y內(nèi)的黑線條)。
為了避免上述情況,本實用新型通過在處理盒1內(nèi)設(shè)置摩擦件7,與顯影元件6的圓周表面存在顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的區(qū)域接觸,并且摩擦件7與顯影元件6的表面之間的擠壓力在沿顯影元件6的軸向上均勻分布。使顯影元件6繞著旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)時,該區(qū)域上的顯影劑受到調(diào)節(jié)片3a的摩擦后,再受到摩擦件7均勻的摩擦,使顯影劑的厚度或顯影劑的帶電量變得均勻。本實施例中,優(yōu)選地,摩擦件7由塑膠、橡膠、泡沫等彈性材料制成。
為了保證顯影元件6的表面顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的區(qū)域上的顯影劑能夠受到摩擦件7的摩擦,摩擦件7在處理盒1內(nèi)的位置應(yīng)滿足:摩擦件7與顯影元件6表面接觸的區(qū)域包含顯影元件6的表面存在顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的區(qū)域。在本實施例中,顯影元件6上的顯影劑厚度不均勻或顯影劑的帶電量不均勻主要是調(diào)節(jié)片3a的端部(靠近端面3a1的部分)變形異常,導(dǎo)致調(diào)節(jié)片3a的端部與顯影元件6的粗糙區(qū)域6a之間在顯影元件6的軸向上接觸不均勻引起的。因此,如圖3和圖4所示,顯影元件6表面與摩擦件7接觸的區(qū)域應(yīng)包含顯影元件6表面與調(diào)節(jié)片3a沿顯影元件6軸向的端部接觸的區(qū)域,并且,顯影元件6的表面與摩擦件7接觸的區(qū)域應(yīng)至少包括顯影元件6的粗糙區(qū)域6a的一部分。從而使受到調(diào)節(jié)片3a端部摩擦的顯影劑再被摩擦件均勻的摩擦,并使顯影劑厚度變得均勻。
為了使摩擦件7與顯影元件6更好的接觸,本實施例中,優(yōu)選地,摩擦件7為由PET材料制成的矩形薄片狀結(jié)構(gòu),摩擦件7在X方向上包括第一邊緣7a和第二邊緣7b,第一邊緣7a與第二邊緣7b之間的距離即為顯影元件6的表面與摩擦件7接觸的區(qū)域的寬度。且第一邊緣7a位于調(diào)節(jié)片3a的端面3a1朝向調(diào)節(jié)片中部方向的一側(cè),第二邊緣7b與端面3a1平齊或位于端面3a1的另一側(cè),使顯影元件6的表面與調(diào)節(jié)片3a的端部接觸的區(qū)域位于顯影元件6的表面與摩擦件7接觸的區(qū)域內(nèi)。
當(dāng)然,本實施例摩擦件7也可以是其他結(jié)構(gòu),如將摩擦件7設(shè)置成具有彈性的塊狀結(jié)構(gòu)與顯影元件6的表面接觸,或者非彈性的結(jié)構(gòu)并通過一彈性件使摩擦件與顯影元件接觸,同樣可以對顯影劑進(jìn)行摩擦。
本實施例中,優(yōu)選地,如圖4所示,在沿顯影元件6的旋轉(zhuǎn)方向(M方向)上,摩擦件7與顯影元件6接觸的位置位于調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6接觸的位置的下游。顯影元件6的圓周表面的粗糙區(qū)域6a上的顯影劑隨著顯影元件6的旋轉(zhuǎn),被調(diào)節(jié)片3a的端部摩擦后出現(xiàn)帶電不良或厚度不均勻的顯影劑會再次被摩擦件7均勻的摩擦,從而使顯影劑厚度或顯影劑帶電量變得均勻。
當(dāng)然,當(dāng)摩擦件7的結(jié)構(gòu)很薄時,也可以直接將摩擦件7插入調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6之間。通過調(diào)節(jié)摩擦件7的材料與厚度,使摩擦件7與顯影元件6之間形成適當(dāng)?shù)臄D壓力,并使摩擦件7與顯影元件6的表面均勻接觸,從而調(diào)整顯影劑的帶電量和顯影劑的厚度。
另外,顯影元件6上的顯影劑厚度不均勻或顯影劑的帶電量不均勻的區(qū)域為顯影元件6的非顯影區(qū)域(即顯影元件上不需將顯影劑轉(zhuǎn)移到感光元件上并轉(zhuǎn)印到記錄介質(zhì)上的區(qū)域,如顯影元件6的光滑區(qū)域6b,或粗糙區(qū)域6a沿顯影元件軸線方向的端部的部分)時,可以將摩擦件7設(shè)置成如圖5所示的結(jié)構(gòu)。摩擦件7為薄片狀結(jié)構(gòu),夾在調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6之間,并且摩擦件7朝向顯影元件6的一側(cè)的伸出端7c的邊緣與顯影元件6的表面抵接,以刮除顯影元件6的表面上顯影劑,從而避免該區(qū)域上的顯影劑出現(xiàn)帶電量不均勻或厚度不均勻,影響處理盒的顯影質(zhì)量。
現(xiàn)有技術(shù)中,如圖2所示,在處理盒1內(nèi)還設(shè)置有通過螺釘與顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3的支撐架3b固定連接的清潔部件5,用于清除顯影元件6表面的光滑區(qū)域6b上的顯影劑。本實施例中,優(yōu)選地,顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3上的支撐架3b上設(shè)置有定位柱3b1,摩擦件7為設(shè)置有通孔的薄片狀結(jié)構(gòu),通過將摩擦件7夾持在支撐架3b與清潔刮片5之間,使定位柱3b1穿過摩擦件7上的通孔對摩擦件7進(jìn)行定位,然后用螺釘將清潔部件5與支撐架3b固定連接,從而將摩擦件7與支撐架3b固定連接?;蛘?,也可以之間將摩擦件7與清潔部件5直接注塑成一個整體。
另外,本實施例通過使設(shè)置在處理盒端部的摩擦件7覆蓋住縫隙W,可擋住部分因密封不足而從縫隙W中泄露出來的顯影劑。優(yōu)選地,如圖6所示,摩擦件7為薄片狀結(jié)構(gòu),摩擦件7的第一邊緣7a和第二邊緣7b分別位于縫隙W沿X方向上的兩側(cè),并且,摩擦件7插入調(diào)節(jié)片3a與顯影元件6之間。
此外,本實施例中,可以將摩擦件7設(shè)置在處理盒1的殼體2上,也可以將摩擦件7設(shè)置在顯影劑厚度調(diào)節(jié)元件3的調(diào)節(jié)片3a或支撐架3b上。只需滿足使摩擦件7與顯影元件6的表面上存在顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的區(qū)域接觸即可。而且,摩擦件7可以設(shè)置在顯影元件6的軸向的一端,也可以在顯影元件6的軸向的兩端同時設(shè)置,具體可根據(jù)顯影元件6上出現(xiàn)顯影劑厚度不均勻或顯影劑帶電量不均勻的情況而定。
通過采用上述技術(shù)方案,如圖8所示,能夠避免記錄介質(zhì)上出現(xiàn)由于顯影元件6上的顯影劑帶電不良或顯影劑厚度不均勻而形成的異常圖像。當(dāng)然,對于表面為橡膠等彈性材料制成的顯影元件,上述方案同樣適用,這里不再贅述。
最后應(yīng)說明的是:以上各實施例僅用以說明本實用新型的技術(shù)方案,而非對其限制;盡管參照前述各實施例對本實用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述實施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實用新型實施例技術(shù)方案的范圍。