本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種顯示面板。
背景技術(shù):
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)與有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)已成為最為常見(jiàn)的顯示裝置。液晶顯示器和有源矩陣驅(qū)動(dòng)式有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Active Matrix Organic Light Emitting Diode,AMOLED)主要利用薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)控制屏幕上各個(gè)獨(dú)立的像素,這些像素都被橫縱交錯(cuò)的柵線和數(shù)據(jù)線包圍,以像素陣列的形式構(gòu)成顯示區(qū)域,顯示區(qū)域的周邊則設(shè)有多條線路,構(gòu)成顯示器的邊框區(qū)域。這些柵線和數(shù)據(jù)線會(huì)由顯示區(qū)域延伸至邊框區(qū)域,并通過(guò)邊框線路與驅(qū)動(dòng)芯片電性連接。一般而言,這些邊框線路包括從柵線和數(shù)據(jù)線的一端向驅(qū)動(dòng)芯片集中而形成的密布排列的數(shù)條扇出走線。
目前,為了滿足更高層次的發(fā)展及市場(chǎng)需求,TFT-LCD和TFT-AMOLED需要以高分辨率和窄邊框設(shè)計(jì)為主,實(shí)現(xiàn)完美的顯示性能及視覺(jué)效果。
現(xiàn)有技術(shù)中,在固定尺寸面板內(nèi)通過(guò)減小金屬線的實(shí)際寬度使像素單元間的距離減小,以滿足窄邊框的同時(shí)提高顯示器的分辨率,而減小金屬線的實(shí)際寬度會(huì)導(dǎo)致金屬線的電阻增大,進(jìn)而影響屏幕亮度的穩(wěn)定性和顯示面板的散熱功能,同時(shí)現(xiàn)有設(shè)備的工藝能力也限制了金屬線的寬度,制約了顯示器分辨率的提高。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種顯示面板,在無(wú)需減小金屬線實(shí)際寬度的情況下,減小了金屬線占用面板的寬幅,滿足了窄邊框需求的同時(shí),也克服了顯示面板分辨率不理想的技術(shù)問(wèn)題。
本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的一種顯示面板,包括基底,所述基底上交替設(shè)置絕緣層和金屬層,所述絕緣層包括間隔設(shè)置的間隔單元,相鄰的所述間隔單元間形成溝槽,所述金屬層包括金屬線,所述金屬線覆蓋所述溝槽和所述間隔單元;
其中,所述金屬線的爬行方向與所述溝槽的延伸方向相同;
其中,所述金屬線的爬行方向與所述間隔單元的間隔方向相同或交錯(cuò);
其中,所述金屬線包括第一金屬線和第二金屬線,所述第一金屬線的爬行方向與所述溝槽的延伸方向相同,所述第二金屬線的爬行方向與所述間隔單元的間隔方向相同或交錯(cuò),第一金屬線與第二金屬線連接;
其中,所述第二金屬線為扇出走線;
其中,所述間隔單元位于所述絕緣層的頂部;
其中,所述間隔單元位于所述基底的頂部;
其中,所述金屬線包括數(shù)據(jù)線,和/或柵線,和/或公共電極線;
其中,所述扇出走線用作數(shù)據(jù)線和/或柵線;
其中,所述金屬層通過(guò)干刻刻蝕工藝形成。
本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的顯示面板,將絕緣層設(shè)置成間隔的間隔單元,間隔單元之間形成溝槽,并充分利用絕緣層厚度上的空間,將金屬線覆蓋設(shè)置在絕緣層和溝槽上,當(dāng)金屬線與溝槽同方向延伸時(shí),在沒(méi)有減小甚至增大了金屬線實(shí)際寬度的情況下,減小了金屬線的占用寬幅,進(jìn)而減小了像素單元間的距離,提高了分辨率,同時(shí),金屬線的實(shí)際寬度增大,其傳輸?shù)碾娮杞档?,能夠提升屏幕亮度的穩(wěn)定性和顯示面板的散熱性能;當(dāng)金屬線延伸方向與溝槽間隔方向相同或交錯(cuò)時(shí),利用形成溝槽的間隔單元的分布,可以使相同方向或不同交錯(cuò)方向的金屬線實(shí)際長(zhǎng)度保持近似一致,使得傳輸?shù)碾娦盘?hào)具有較好的均勻性和同步性,同時(shí)也滿足了窄邊框的需求。
附圖說(shuō)明
圖1所示為本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2所示為本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的一種顯示面板的剖面俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3所示為本實(shí)用新型另一實(shí)施例提供的一種顯示面板的剖面俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4所示為本實(shí)用新型一實(shí)施例提供的一種顯示面板的扇出走線的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
如圖1所示,本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示面板,包括基底10,基底10上交替設(shè)置有絕緣層和金屬層30,絕緣層包括間隔設(shè)置的間隔單元1,相鄰的間隔單元1間形成溝槽,金屬層30包括金屬線,金屬線覆蓋溝槽和間隔單元1。在本實(shí)用新型一實(shí)施例中,如圖2所示,其間隔單元1沿一個(gè)方向E1(或者說(shuō)E1的反方向)間隔設(shè)置(即間隔方向),其中,E1可為面板的橫向也可以為縱向,金屬線的爬行方向與溝槽的延伸方向相同,在另一實(shí)施例中,金屬線的爬行方向也可與間隔單元1的間隔方向相同或交錯(cuò),其中,交錯(cuò)即金屬線的爬行方向與間隔單元1的間隔方向E1(或者說(shuō)E1的反方向)形成夾角。該金屬線包括數(shù)據(jù)線,和/或柵線和/或公共電極線,具體地說(shuō),既可以為顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線和/或柵線,也可以為邊框區(qū)域的數(shù)據(jù)線,和/或柵線和/或公共電極線。當(dāng)金屬線為顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線和/或柵線時(shí),其爬行方向可以設(shè)置為與溝槽的延伸方向相同,則可利用溝槽的側(cè)壁使金屬線的實(shí)際寬度大于其占用面板的寬幅,即在沒(méi)減小金屬線實(shí)際寬度的情況下,其占用顯示面板的寬幅明顯減小,進(jìn)而使得像素單元間的距離減小,提高了顯示區(qū)域的分辨率,而且,當(dāng)金屬線的實(shí)際寬度增大時(shí),其傳輸?shù)碾娮杞档停軌蜻M(jìn)一步提升屏幕亮度的穩(wěn)定性和顯示面板的散熱性能;當(dāng)金屬線為邊框區(qū)域的數(shù)據(jù)線,和/或柵線和/或公共電極線時(shí),其爬行方向可以設(shè)置為與間隔單元1的間隔方向E1相同或交錯(cuò),具體可以根據(jù)需要在不同位置設(shè)置不同數(shù)量的溝槽,使得邊框區(qū)域的金屬線實(shí)際長(zhǎng)度趨于相等,以提高驅(qū)動(dòng)信號(hào)的均勻性和同步性,同時(shí)也滿足了顯示面板窄邊框的需求。雖然圖1中僅示出了一層絕緣層和一層金屬層30,且間隔單元1設(shè)置于基底10頂部這種情況,但是實(shí)際上絕緣層的數(shù)量可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)定,可以設(shè)置成一層也可以設(shè)置成多層,間隔單元1也可以設(shè)置在不同位置,既可以設(shè)置于基底10的頂部,也可以設(shè)置于絕緣層的頂部,本實(shí)用新型對(duì)此不再一一列舉。當(dāng)間隔單元1設(shè)置于基底10的頂部時(shí),如圖1所示,其溝槽的深度可以與絕緣層的高度相等,以保證金屬線的占用寬幅或占用長(zhǎng)度盡可能小,當(dāng)間隔單元1設(shè)置于絕緣層的頂部時(shí),其溝槽的深度小于絕緣層的高度,即溝槽的底部留有絕緣層,以避免相鄰金屬層30間的金屬線接觸而發(fā)生短路現(xiàn)象。
本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的顯示面板,充分利用了顯示面板厚度上的空間,將絕緣層間隔設(shè)置成間隔單元1和溝槽,并將金屬線覆蓋設(shè)置在間隔單元1和溝槽上,當(dāng)金屬線與溝槽同方向延伸時(shí),在沒(méi)有減小甚至增大了金屬線實(shí)際寬度的情況下,減小了金屬線的占用寬幅,提高了分辨率,同時(shí),金屬線的實(shí)際寬度增大,其傳輸?shù)碾娮杞档?,能夠提升屏幕亮度的穩(wěn)定性和顯示面板的散熱性能;當(dāng)金屬線延伸方向與溝槽間隔方向相同或交錯(cuò)時(shí),可以使相同方向或不同交錯(cuò)方向的金屬線實(shí)際長(zhǎng)度保持近似一致,提高了信號(hào)傳輸?shù)木鶆蛐院屯叫裕矟M足了當(dāng)前窄邊框的需求。
如圖3所示,本實(shí)用新型另一實(shí)施例所提供的顯示面板,絕緣層包括第一絕緣區(qū)域21和第二絕緣區(qū)域22,其中,第一絕緣區(qū)域21的間隔單元1沿第一方向E2(或者說(shuō)E2的反方向)間隔設(shè)置,第二絕緣區(qū)域22的間隔單元1沿第二方向E3(或者說(shuō)E3的反方向)間隔設(shè)置,第一方向E2和第二方向E3垂直,例如,第一方向E2可以為面板的橫向,第二方向E3則為面板的縱向,當(dāng)然也可以第一方向E2為面板的縱向,第二方向E3則為面板的橫向。金屬線包括第一金屬線和第二金屬線,其中,第一金屬線設(shè)置于第一絕緣區(qū)域21上,其爬行方向與溝槽的延伸方向相同,第二金屬線設(shè)置于第二絕緣區(qū)域22上,其爬行方向與間隔單元1的間隔方向E3(或者說(shuō)E3的反方向)相同或交錯(cuò),其中,交錯(cuò)即金屬線的爬行方向與間隔單元1的間隔方向E3(或者說(shuō)E3的反方向)形成夾角,第二金屬線與第一金屬線連接。在本實(shí)用新型一實(shí)施例中,該第二金屬線具體可以為扇出走線,第一金屬線可以為顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線或柵線。圖3所示為僅設(shè)置兩個(gè)溝槽,且溝槽的長(zhǎng)度接近顯示面板橫向或者縱向長(zhǎng)度的情況,實(shí)際上,當(dāng)?shù)诙饘倬€為扇出走線時(shí),其溝槽的位置和數(shù)量可根據(jù)需要做不同設(shè)置,如圖4所示,扇出走線的整體呈扇形,那么可以在中間位置設(shè)置多個(gè)溝槽,在兩側(cè)位置不設(shè)置或者設(shè)置較少數(shù)量的溝槽,這樣兩側(cè)扇出走線的實(shí)際長(zhǎng)度與中間扇出走線的實(shí)際長(zhǎng)度就趨于相等,則會(huì)提高其傳輸?shù)尿?qū)動(dòng)信號(hào)的均勻性和同步性,同時(shí)減小了邊框區(qū)域的寬度,滿足當(dāng)前對(duì)于窄邊框的需求。這里需要解釋的是,當(dāng)溝槽設(shè)置于中間位置時(shí),扇出走線的爬行方向即與間隔方向E3相同或大致相同,當(dāng)溝槽設(shè)置于兩側(cè)位置時(shí),扇出走線的爬行方向即與間隔方向E3形成一定夾角,即為交錯(cuò)狀態(tài)。本實(shí)用新型提供的實(shí)施例,通過(guò)在不同位置設(shè)置不同數(shù)量的溝槽,使得中間和兩側(cè)的扇出走線的實(shí)際長(zhǎng)度趨近相等,提高了驅(qū)動(dòng)信號(hào)的均勻性和同步性,同時(shí)扇出走線以折線形式排布在間隔單元1以及間隔單元1間的溝槽上,有效地利用了厚度上的空間,克服了空間限制,進(jìn)一步縮減了顯示面板的邊框,實(shí)現(xiàn)了窄邊框的需求。
在本實(shí)用新型一實(shí)施例中,該扇出走線可以用作數(shù)據(jù)線和/或柵線。
在本實(shí)用新型另一實(shí)施例中,金屬層30通過(guò)干刻刻蝕工藝形成。
本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的顯示面板,充分利用了厚度上的空間,將絕緣層設(shè)置成間隔的間隔單元和溝槽,并將金屬線覆蓋設(shè)置在間隔單元和溝槽上,當(dāng)金屬線與溝槽同方向延伸時(shí),在沒(méi)有減小甚至增大了金屬線實(shí)際寬度的情況下,減小了金屬線的占用寬幅,進(jìn)而縮小了像素單元間的距離,提高了分辨率,同時(shí),金屬線的實(shí)際寬度增大,其傳輸?shù)碾娮杞档?,能夠提升屏幕亮度的穩(wěn)定性和顯示面板的散熱性能;當(dāng)金屬線延伸方向與溝槽間隔方向相同或交錯(cuò)時(shí),利用形成溝槽的間隔單元的分布,可以使相同方向或不同交錯(cuò)方向的金屬線實(shí)際長(zhǎng)度保持近似一致,使得傳輸?shù)碾娦盘?hào)具有較好的均勻性和同步性,同時(shí)也保持了窄邊框的需求。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。