本實(shí)用新型涉及光阻供應(yīng)裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光阻緩沖罐。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體制造工藝中通常需要在晶元上涂布光阻，由于大部分的光阻為液態(tài)，因此通常利用管路供應(yīng)系統(tǒng)將光阻輸送至一噴嘴，同時(shí)將晶元傳送到位于噴嘴下方的工作位上，由噴嘴將光阻噴涂到晶元上。

圖1示出了一種用于在半導(dǎo)體制造工藝中供應(yīng)光阻的傳統(tǒng)管路供應(yīng)系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：一個(gè)存儲(chǔ)光阻的光阻瓶(Resist bottle)1；一個(gè)光阻緩沖罐(L/E tank)2，該光阻緩沖罐2包括罐體3及設(shè)置在罐體3上的一上限探測(cè)器4和一下限探測(cè)器5，罐體3為類(lèi)圓柱體，上限探測(cè)器4和下限探測(cè)器5固定于罐體3的內(nèi)部上方和內(nèi)部下方，定義光阻緩沖罐2的上限探測(cè)器4和下限探測(cè)器5之間的液面高度為標(biāo)準(zhǔn)高度，上限探測(cè)器4和下限探測(cè)器5均用于檢測(cè)罐體3內(nèi)的光阻的液面高度，當(dāng)液面到達(dá)上限探測(cè)器4的位置時(shí)上限探測(cè)器4發(fā)信號(hào)給機(jī)臺(tái)，機(jī)臺(tái)報(bào)警，當(dāng)液面到達(dá)下限探測(cè)器5時(shí)下限探測(cè)器5發(fā)信號(hào)給機(jī)臺(tái)，機(jī)臺(tái)報(bào)警；一個(gè)給水泵(Feed punp)6；一個(gè)過(guò)濾器(Filter)7，用于過(guò)濾光阻中的氣泡等雜質(zhì)；一個(gè)分配泵(Dispense pump)8，連接噴嘴9，噴嘴9下方是工作位，工作位上放置由機(jī)臺(tái)傳送過(guò)來(lái)的晶元10。

傳統(tǒng)管路供應(yīng)系統(tǒng)中，光阻緩沖罐2內(nèi)的能夠容置光阻的最大預(yù)設(shè)容量為標(biāo)準(zhǔn)容量，對(duì)應(yīng)光阻緩沖罐內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)容量的光阻的液面最大高度為上述標(biāo)準(zhǔn)高度。上限探測(cè)器4位于液面最上方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的100％的位置，上述下限探測(cè)器位于液面最下方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的0％的位置。如果位于光阻緩沖罐2內(nèi)部上方的上限探測(cè)器4被觸發(fā)，機(jī)臺(tái)會(huì)報(bào)警，此時(shí)光阻瓶1中的光阻用盡，提示該更換光阻瓶1中的光阻，機(jī)臺(tái)會(huì)繼續(xù)傳送已經(jīng)抽片的晶元10至工作位，同時(shí)暫停傳送沒(méi)有抽片的晶元10，等更換過(guò)光阻瓶1中的光阻后重新運(yùn)行；如果位于光阻緩沖罐2內(nèi)部下方的下限探測(cè)器5被觸發(fā)，機(jī)臺(tái)不僅暫停傳送已經(jīng)抽片的晶元10，同時(shí)暫停傳送沒(méi)有抽片的晶元10，并且此時(shí)光阻緩沖罐2中的氣泡容易進(jìn)入光阻管路中形成影響最終的注入或涂布效果。

一旦光阻瓶1中的光阻用盡，光阻緩沖罐2上的上限探測(cè)器4被觸發(fā)，光阻瓶1中光阻報(bào)空而操作人員手邊暫時(shí)沒(méi)有可供應(yīng)的光阻，那么只能暫停管路供應(yīng)系統(tǒng)，等補(bǔ)充過(guò)光阻后再重新運(yùn)行，這樣不僅影響產(chǎn)品的正常生產(chǎn)，由于晶元10和光阻在生產(chǎn)線上的預(yù)留的生產(chǎn)時(shí)間有限，暫停生產(chǎn)也容易影響最終的產(chǎn)品效果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種能夠有利于在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻的光阻緩沖罐。

本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種光阻緩沖罐，所述光阻緩沖罐包括：

一罐體；

一移動(dòng)探測(cè)裝置，所述移動(dòng)探測(cè)裝置固定設(shè)置于所述罐體的內(nèi)部；所述移動(dòng)探測(cè)裝置包括：

一滑動(dòng)支架；

一上限探測(cè)器，所述上限探測(cè)器滑動(dòng)設(shè)置于所述滑動(dòng)支架上。

優(yōu)選的，所述罐體的頂部設(shè)有與所述罐體連通的進(jìn)液管。

優(yōu)選的，所述罐體的頂部設(shè)有與所述罐體連通的排氣管。

優(yōu)選的，所述罐體的底部設(shè)有與所述罐體連通的出液管.

優(yōu)選的，所述滑動(dòng)支架包括：

縱向支架，所述縱向支架與所述光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向平行；

橫向支架，所述橫向支架滑動(dòng)設(shè)置于所述縱向支架上，所述上限探測(cè)器連接在所述橫向支架上；

固定裝置，所述橫向支架通過(guò)所述固定裝置與所述縱向支架固定連接。

優(yōu)選的，所述縱向支架沿所述光阻緩沖罐內(nèi)的光阻的液面高度方向由上到下依照預(yù)設(shè)間隔距離依次設(shè)有與第一預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第一固定位、與第二預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第二固定位、與第三預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第三固定位以及與第四預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第四固定位。

優(yōu)選的，所述光阻緩沖罐還包括：

一下限探測(cè)器，所述下限探測(cè)器固定設(shè)置于所述罐體內(nèi)部下方的與第五預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第五固定位上。

優(yōu)選的，所述第四預(yù)設(shè)位置與所述第五預(yù)設(shè)位置之間的距離和所述預(yù)設(shè)間隔距離相同。

優(yōu)選的，所述第一預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量的標(biāo)準(zhǔn)高度，所述第二預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的75％，所述第三預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的50％，所述第四預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的25％，所述第五預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)所述標(biāo)準(zhǔn)高度的0％。

優(yōu)選的，所述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量為200cc。

本實(shí)用新型的有益效果是：根據(jù)需要靈活調(diào)整上限探測(cè)器的位置，光阻緩沖罐內(nèi)的光阻從充滿狀態(tài)時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)高度處回落到上限探測(cè)器所處的高度時(shí)存在一時(shí)間差，利用該時(shí)間差操作人員可向光阻瓶中添加更換光阻以保證光阻瓶能持續(xù)不間斷的向光阻緩沖罐內(nèi)輸送光阻，保證在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻，且向光阻瓶中更換光阻時(shí)不需要暫停光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)，提高生產(chǎn)線的穩(wěn)定性，提高最終產(chǎn)品質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中，管路供應(yīng)系統(tǒng)的示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施例中，光阻緩沖罐的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

需要說(shuō)明的是，在不沖突的狀態(tài)下，下述技術(shù)方案，技術(shù)特征之間可以相互組合。

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步的說(shuō)明：

如圖2所示，一種光阻緩沖罐，上述光阻緩沖罐包括：

一罐體11，上述罐體11的頂部設(shè)有與上述罐體11連通的進(jìn)液管12和排氣管14，上述罐體11的底部設(shè)有與上述罐體11連通的出液管13；

一下限探測(cè)器15，上述下限探測(cè)器15設(shè)置于上述罐體11內(nèi)部下方；

一移動(dòng)探測(cè)裝置，上述移動(dòng)探測(cè)裝置固定設(shè)置于上述罐體11內(nèi)部下方的與第五預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第五固定位24上；上述移動(dòng)探測(cè)裝置包括：

一滑動(dòng)支架17；

一上限探測(cè)器，上述上限探測(cè)器滑動(dòng)設(shè)置于上述滑動(dòng)支架17上。

在本實(shí)施例中，光阻流入光阻緩沖罐，如果進(jìn)液管12中含有氣泡，由于重力作用氣泡會(huì)自動(dòng)浮出光阻，停留在光阻緩沖罐中光阻液面的上方，并通過(guò)排氣管14排出，緩沖罐內(nèi)不含氣泡的光阻通過(guò)其下方的出液管13流入噴嘴，進(jìn)行光阻注入和/或光阻涂布。

光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度到達(dá)上限探測(cè)器的位置時(shí)觸發(fā)上限探測(cè)器，此時(shí)上線探測(cè)器16報(bào)警，根據(jù)需要靈活調(diào)整上限探測(cè)器的位置，光阻緩沖罐內(nèi)的光阻從充滿狀態(tài)(標(biāo)準(zhǔn)容量)時(shí)的最高液面高度處回落到上限探測(cè)器所處的高度處存在一時(shí)間差，利用該時(shí)間差操作人員可向管路供應(yīng)系統(tǒng)中與光阻緩沖罐連接的光阻瓶中添加更換光阻以保證光阻瓶能持續(xù)不間斷的向光阻緩沖罐內(nèi)輸送光阻，保證在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中持續(xù)不間斷供應(yīng)光阻，且向光阻瓶中更換光阻時(shí)不需要暫停光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)，提高生產(chǎn)線的穩(wěn)定性，提高最終產(chǎn)品質(zhì)量。

光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度到達(dá)下限探測(cè)器15的位置時(shí)觸發(fā)下限探測(cè)器15，此時(shí)上線探測(cè)器16報(bào)警，操作人員向光阻瓶中添加光阻，避免因?yàn)楣庾杈彌_瓶中液面過(guò)低產(chǎn)生氣泡影響后續(xù)生產(chǎn)。

本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述滑動(dòng)支架17上沿光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向由上到下依照預(yù)設(shè)間隔距離依次設(shè)有與第一預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第一固定位20、與第二預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第二固定位21、與第三預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第三固定位22以及與第四預(yù)設(shè)位置相對(duì)應(yīng)的第四固定位23，上述第一固定位20與上述光阻緩沖罐內(nèi)充滿光阻時(shí)的最高液面高度齊平，上述第四固定位23與上述第五固定位24之間的高度和上述預(yù)定間隔高度相同，上述第四預(yù)設(shè)位置與上述第五預(yù)設(shè)位置之間的距離和上述預(yù)設(shè)間隔距離相同。

在本實(shí)施例中，光阻緩沖罐2內(nèi)的能夠容置光阻的最大預(yù)設(shè)容量為標(biāo)準(zhǔn)容量，對(duì)應(yīng)光阻緩沖罐內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)容量的光阻的液面最大高度為標(biāo)準(zhǔn)高度。上述第一預(yù)設(shè)位置位于液面最上方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度的100％的位置，上述第二預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度75％的位置，上述第三預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度50％的位置，上述第四預(yù)設(shè)位置位于對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度25％的位置，上述第五預(yù)設(shè)位置位于液面最下方即設(shè)置在對(duì)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)容量和標(biāo)準(zhǔn)高度0％的位置。

當(dāng)上限探測(cè)器16移動(dòng)到第二固定位21并固定于滑動(dòng)支架17上，預(yù)留出來(lái)的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的25％對(duì)應(yīng)的時(shí)間，相應(yīng)的在光阻的管路供應(yīng)系統(tǒng)中，在這個(gè)時(shí)間差內(nèi)可以多傳送對(duì)應(yīng)數(shù)量的晶元到工作位上進(jìn)行光阻的噴涂；當(dāng)上限探測(cè)器移動(dòng)到第三固定位22并固定于滑動(dòng)支架17上，預(yù)留出來(lái)的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的50％對(duì)應(yīng)的時(shí)間；當(dāng)上限探測(cè)器移動(dòng)到第四固定位23并固定于滑動(dòng)支架17上，預(yù)留出來(lái)的時(shí)間差為輸出標(biāo)準(zhǔn)容量的75％對(duì)應(yīng)的時(shí)間，在這個(gè)時(shí)間差內(nèi)也可以多傳送對(duì)應(yīng)數(shù)量的晶元到工作位上進(jìn)行光阻的噴涂。

本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述光阻緩沖罐的標(biāo)準(zhǔn)容量為200cc。

本實(shí)用新型較佳的實(shí)施例中，上述滑動(dòng)支架17包括：

縱向支架18，上述縱向支架18與上述光阻緩沖罐內(nèi)的液面高度方向平行；

橫向支架19，上述橫向支架19滑動(dòng)設(shè)置于上述縱向支架18上，上述上限探測(cè)器16連接在上述橫向支架19上；

固定裝置(圖中未示出)，橫向支架19通過(guò)所述固定裝置與所述縱向支架18固定連接。

在本實(shí)施例中，操作者根據(jù)需要將上限探測(cè)器15移動(dòng)到縱向支架18上的上述固定位后由固定座裝置將橫向支架19固定在縱向支架18上的該固定位上。

對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，閱讀上述說(shuō)明后，各種變化和修正無(wú)疑將顯而易見(jiàn)。因此，所附的權(quán)利要求書(shū)應(yīng)看作是涵蓋本實(shí)用新型的真實(shí)意圖和范圍的全部變化和修正。在權(quán)利要求書(shū)范圍內(nèi)任何和所有等價(jià)的范圍與內(nèi)容，都應(yīng)認(rèn)為仍屬本實(shí)用新型的意圖和范圍內(nèi)。