本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種顯示面板及其制備方法和顯示裝置。

背景技術(shù)：

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)因具有節(jié)省空間、發(fā)熱少、功耗低、無輻射等諸多優(yōu)點(diǎn)，而受到廣大用戶的青睞。液晶顯示器主要包括彩膜基板、陣列基板、液晶層以及偏光片等部件，液晶層由灌入在彩膜基板和陣列基板之間的液晶形成。液晶顯示器中液晶層的厚度對光的透過率影響較大，透過液晶層的光不同時(shí)便會出現(xiàn)顯示不均的現(xiàn)象。因此，為了保證液晶顯示器的均一顯示，保證均勻的盒厚(Cell Gap)非常重要。

在制作液晶顯示器的陣列基板的過程中，陣列基板的金屬膜層是通過磁控濺射(Magnetron Sputtering)方式形成的。目前，磁控濺射過程中使用的靶材均為拼接而成的條狀靶材，在靶材中心位置和拼接位置的成膜質(zhì)量和成膜速度均有差異，并且靶材中心的金屬膜較厚，靶材拼接位置的金屬膜較薄，因此在靶材垂直方向上將形成金屬膜薄厚的周期分布。

為了保持盒厚的穩(wěn)定性和均一性，在陣列基板和彩膜基板之間設(shè)置枕墊(Pillow)隔墊物(Post Spacer，PS)，枕墊隔墊物包括隔墊物和由陣列基板的金屬膜層形成的枕墊。由于陣列基板的金屬膜層的厚度成周期性分布，因此，導(dǎo)致枕墊的厚度呈周期性分布。在顯示面板對盒后必將形成盒厚的周期性分布，即：靶材中心位置的厚度偏大，靶材拼接位置的厚度偏小，使液晶顯示器在靶材中心位置的光線透過率大于靶材拼接位置的光線透過率，產(chǎn)生顯示不良。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供了一種顯示面板及其制備方法和顯示裝置，該顯示面板能夠提高盒厚的均一性，減少產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)而能夠提高顯示面板的畫面質(zhì)量和顯示效果。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

一種顯示面板，包括第一基板、第二基板、液晶層、以及支撐于所述第一基板和所述第二基板之間的多個(gè)枕墊隔墊物；每個(gè)枕墊隔墊物包括形成于所述第一基板朝向所述第二基板一側(cè)的枕墊、以及形成于所述第二基板朝向所述第一基板一側(cè)的隔墊物，所述枕墊朝向所述第二基板一側(cè)的端面與所述隔墊物朝向所述第一基板一側(cè)的端面相抵；

每個(gè)所述枕墊隔墊物的高度均相等，即，每個(gè)所述枕墊隔墊物中，所述枕墊與所述隔墊物的高度之和均相等，以使所述液晶層在所述第一基板和所述第二基板之間的厚度均等。

在上述顯示面板中，由于每個(gè)枕墊隔墊物的高度均相等，即，每個(gè)枕墊隔墊物中，枕墊與隔墊物的高度之和均相等，因此，通過枕墊隔墊物支撐的第一基板和第二基板之間的間距均相等，也就是說，第一基板與第二基板之間的間距一致，進(jìn)而灌注在第一基板和第二基板之間的液晶層的厚度也均等，消除了現(xiàn)有技術(shù)中盒厚的周期性變化，提高了盒厚的均一性，使整個(gè)顯示面板的光線透過率一致，減少了產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)一步減小了對顯示效果的影響，提高了畫面質(zhì)量和顯示效果。

因此，該顯示面板能夠提高盒厚的均一性，減少產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)而能夠提高顯示面板的畫面質(zhì)量和顯示效果。

優(yōu)選地，在每個(gè)枕墊隔墊物中，所述隔墊物的高度隨所述枕墊的高度的變化而變化。

優(yōu)選地，所述枕墊包括設(shè)置于所述第一基板朝向所述第二基板一側(cè)表面的柵極層。

優(yōu)選地，所述枕墊包括依次設(shè)置于所述第一基板朝向所述第二基板一側(cè)表面的柵極層、柵極絕緣層、有源層、源漏電極層以及保護(hù)層。

優(yōu)選地，所述隔墊物由高分子聚合物材料制成。

本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述技術(shù)方案提供的任意一種顯示面板。

另外，本發(fā)明還提供了一種上述技術(shù)方案中任意一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括第一基板、第二基板、液晶層、以及支撐于所述第一基板和所述第二基板之間的多個(gè)枕墊隔墊物；每個(gè)枕墊隔墊物包括形成于所述第一基板朝向所述第二基板一側(cè)的枕墊、以及形成于所述第二基板朝向所述第一基板一側(cè)的隔墊物，所述枕墊朝向所述第二基板一側(cè)的端面與所述隔墊物朝向所述第一基板一側(cè)的端面相抵；每個(gè)所述枕墊隔墊物的高度均相等；制備方法包括：

形成第一基板和第二基板；

在所述第一基板朝向所述第二基板的一側(cè)形成多個(gè)枕墊；

在所述第二基板朝向所述第一基板的一側(cè)形成與所述多個(gè)枕墊一一對應(yīng)的隔墊物，每個(gè)隔墊物的高度隨對應(yīng)的枕墊高度的變化而變化，以使每對一一對應(yīng)的枕墊和隔墊物的高度之和均相等；

對盒連接所述第一基板和所述第二基板，使每個(gè)枕墊與對應(yīng)的隔墊物相抵。

優(yōu)選地，在所述第二基板朝向所述第一基板的一側(cè)形成與所述多個(gè)枕墊一一對應(yīng)的隔墊物之前，還包括：

在所述第二基板上形成光阻層。

優(yōu)選地，在所述第二基板上形成光阻層中，通過顏料分散法或噴墨法形成所述光阻層。

優(yōu)選地，在所述第二基板朝向所述第一基板的一側(cè)形成與所述多個(gè)枕墊一一對應(yīng)的隔墊物中，通過灰階掩膜工藝曝光形成所述隔墊物，以使在每個(gè)枕墊隔墊物中，所述隔墊物的高度隨所述枕墊的高度的變化而變化，以使每個(gè)所述枕墊隔墊物的高度均相等，即，每個(gè)所述枕墊隔墊物中，所述枕墊與所述隔墊物的高度之和均相等。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一種實(shí)施例提供的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明一種實(shí)施例提供的顯示面板的枕墊隔墊物的具體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明一種實(shí)施例提供的顯示面板的制備方法的工藝流程圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示面板及其制備方法和顯示裝置，該顯示裝置包括顯示面板，該顯示面板通過高度均相等的枕墊隔墊物使液晶層在第一基板和第二基板之間的厚度均等，因此，該顯示面板能夠提高盒厚的均一性，減少產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)而能夠提高顯示面板的畫面質(zhì)量和顯示效果。

其中，如圖1以及圖2結(jié)構(gòu)所示，本發(fā)明一種實(shí)施例提供的顯示面板1，包括第一基板10、第二基板20、液晶層30、以及支撐于第一基板10和第二基板20之間的多個(gè)枕墊隔墊物40；每個(gè)枕墊隔墊物40包括形成于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)的枕墊41、以及形成于第二基板20朝向第一基板10一側(cè)的隔墊物42，枕墊41朝向第二基板20一側(cè)的端面與隔墊物42朝向第一基板10一側(cè)的端面相抵；

每個(gè)枕墊隔墊物40的高度均相等，即，每個(gè)枕墊隔墊物40中，枕墊41與隔墊物42的高度之和均相等，以使液晶層30在第一基板10和第二基板20之間的厚度均等。

如圖1中結(jié)構(gòu)所示，在第一基板10和第二基板20之間陣列分布有多個(gè)枕墊隔墊物40，每個(gè)枕墊隔墊物40均支撐于第一基板10和第二基板20之間，并且每個(gè)枕墊隔墊物40的高度均相等，每個(gè)枕墊隔墊物40中隔墊物42的高度與枕墊41的高度相關(guān)，并隨枕墊41的高度變化而變化，使枕墊41與隔墊物42的高度之和保持統(tǒng)一，并使枕墊41與隔墊物42的高度之和均等于第一基板10與第二基板20之間的間距，以使第一基板10與第二基板20之間的間距保持一致，進(jìn)而使設(shè)置于第一基板10與第二基板20之間的液晶層30厚度均等，使光線透過率一致。

在上述顯示面板1中，由于每個(gè)枕墊隔墊物40的高度均相等，即，每個(gè)枕墊隔墊物40中，枕墊41與隔墊物42的高度之和均相等，因此，通過枕墊隔墊物40支撐的第一基板10與第二基板20之間的間距均相等，也就是說，第一基板10和第二基板20之間間距一致，進(jìn)而灌注在第一基板10與第二基板20之間的液晶層30的厚度也相等，消除了現(xiàn)有技術(shù)中盒厚的周期性變化，提高了盒厚的均一性，使整個(gè)顯示面板1的光線透過率一致，減少了產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)一步減小了對顯示效果的影響，提高了畫面質(zhì)量和顯示效果。

因此，該顯示面板1能夠提高盒厚的均一性，減少產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)而能夠提高顯示面板1的畫面質(zhì)量和顯示效果。

一種具體的實(shí)施方式中，如圖1結(jié)構(gòu)所示，上述顯示面板1，在每個(gè)枕墊隔墊物40中，隔墊物42的高度隨枕墊41的高度的變化而變化。

為了提高顯示面板1的顯示效果和畫面質(zhì)量、維持盒厚的均一性，由于枕墊41的高度不統(tǒng)一，通過隔墊物42的高度隨枕墊41的高度的變化而變化，能夠?qū)崿F(xiàn)枕墊41和隔墊物42的高度總和的統(tǒng)一，即，每個(gè)枕墊隔墊物40高度的統(tǒng)一，進(jìn)而使第一基板10與第二基板20之間的間距統(tǒng)一，使通過液晶層30的光線透過率一致，減少了產(chǎn)生顯示不良的概率。

具體地，如圖1以及圖2結(jié)構(gòu)所示，枕墊41包括形成于于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)表面的柵極層411。

在上述顯示面板1的具體制造過程中，枕墊41包括柵極層411，例如可以采用柵極層411作為枕墊41，使隔墊物42支撐于第二基板20與柵極層411之間，即，形成支撐于柵極層411的隔墊物42。

更進(jìn)一步地，如圖2結(jié)構(gòu)所示，枕墊41包括依次設(shè)置于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)表面的柵極層411、柵極絕緣層412、有源層413、源漏電極層以及保護(hù)層416。

如圖2結(jié)構(gòu)所示，枕墊41可包括依次設(shè)置于第一基板10上的柵極層411、柵極絕緣層412、有源層413、源漏電極層以及保護(hù)層416，并且源漏電極層包括設(shè)置于柵極絕緣層412和保護(hù)層416之間的源電極層414和漏電極層415。此時(shí)，枕墊41由柵極層411、柵極絕緣層412、有源層413、源漏電極層以及保護(hù)層416形成，隔墊物42與枕墊41的保護(hù)層416相抵。

在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，隔墊物42可以由高分子聚合物材料制成。

在具體的制造過程中，隔墊物42可以采用高分子聚合物材料通過曝光工藝制成，使其制備方法簡單、快速；隔墊物42不僅可以采用高分子聚合物材料形成，也可以采用其他的材料制成。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述實(shí)施例中提供的任意一種顯示面板1。

上述顯示裝置可以為薄膜晶體管液晶顯示器(thin film transistor-liquid crystal display，TFT-LCD)。

另外，如圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種上述實(shí)施例中任意一種顯示面板1的制備方法，顯示面板1包括第一基板10、第二基板20、液晶層30、以及支撐于第一基板10和第二基板20之間的多個(gè)枕墊隔墊物40；每個(gè)枕墊隔墊物40包括形成于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)的枕墊41、以及形成于第二基板20朝向第一基板10一側(cè)的隔墊物42，枕墊41朝向第二基板20一側(cè)的端面與隔墊物42朝向第一基板10一側(cè)的端面相抵；每個(gè)枕墊隔墊物40的高度均相等；制備方法包括：

步驟S11，形成第一基板10和第二基板20；

步驟S12，在第一基板10朝向第二基板20的一側(cè)形成多個(gè)枕墊41；

步驟S13，在第二基板20朝向第一基板10的一側(cè)形成與多個(gè)枕墊41一一對應(yīng)的隔墊物42，每個(gè)隔墊物42的高度隨對應(yīng)的枕墊41高度的變化而變化，以使每對一一對應(yīng)的枕墊41和隔墊物42的高度之和均相等；

步驟S14，對盒連接第一基板10和第二基板20，使每個(gè)枕墊41與對應(yīng)的隔墊物42相抵。

在采用上述制備方法生產(chǎn)顯示面板1時(shí)，可以通過在第二基板20上控制形成的隔墊物42的高度，使隔墊物42的高度隨對應(yīng)的枕墊41的高度的變化而變化，以使每對一一對應(yīng)的枕墊41和隔墊物42的高度之和均相等，來使第一基板10和第二基板20之間的間距統(tǒng)一，進(jìn)而使液晶層30的厚度保持一致，保證盒厚的均一性，從而使制造的顯示面板1減少產(chǎn)生顯示不良的概率，進(jìn)而能夠提高畫面質(zhì)量和顯示效果。

采用上述制備方法制備的顯示面板1中，如圖2結(jié)構(gòu)所示，在第一基板10朝向第二基板20的一側(cè)還形成有第一透明電極層417和第二透明電極層418，第一透明電極層417和第二透明電極層418均可以由氧化銦錫(ITO)形成，但并不限于上述材料。

在上述制備方法的基礎(chǔ)上，在第二基板20朝向第一基板10的一側(cè)形成與多個(gè)枕墊41一一對應(yīng)的隔墊物的步驟S13之前，還包括：

在第二基板20上形成光阻層。

在第二基板20上形成光阻層，用于通過灰階掩膜工藝形成隔墊物42。

具體地，在第二基板20上形成光阻層中，可以通過顏料分散法或噴墨法形成光阻層。

在上述制備方法的各種實(shí)施例的基礎(chǔ)上，在第一基板10朝向第二基板20的一側(cè)形成多個(gè)枕墊41的步驟S12中，在第一基板10的一側(cè)形成枕墊41。如圖2結(jié)構(gòu)所示，枕墊41可以包括形成于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)表面的柵極層411，還可以包括依次設(shè)置于第一基板10朝向第二基板20一側(cè)表面的柵極層411、柵極絕緣層412、有源層413、源漏電極層以及保護(hù)層416，并且源漏電極層包括設(shè)置于柵極絕緣層412和保護(hù)層416之間的源電極層414和漏電極層415。

并且，在第二基板20朝向第一基板10的一側(cè)形成與多個(gè)枕墊41一一對應(yīng)的隔墊物42的步驟S13中，可以通過灰階掩膜工藝曝光形成隔墊物42，以使在每個(gè)枕墊隔墊物40中，隔墊物42的高度隨枕墊41的高度的變化而變化，并使每個(gè)枕墊隔墊物40的高度相等。

在通過灰階掩膜工藝曝光形成隔墊物42的過程中，可通過控制光罩(Mask)的透光量來控制形成隔墊物42的高度，以通過隔墊物42和枕墊41形成的每個(gè)枕墊隔墊物40的高度相等，以保證盒厚的一致性。

上述灰階掩膜工藝可以包含半曝光、1/5、2/3等曝光。

在本發(fā)明的各種實(shí)施例中，第一基板10可以為陣列基板，第二基板20可以為彩膜基板；同理，第一基板10也可以為彩膜基板，而相對應(yīng)的第二基板20也可以為陣列基板。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。