技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提出了一種光刻膠涂覆裝置和光刻膠涂覆方法。所述光刻膠涂覆裝置包括：供氣單元(10)，用于向光刻膠涂覆單元(20)供應(yīng)氣體；所述光刻膠涂覆單元(20)，包括：由側(cè)壁、底板和蓋板(206)包封的設(shè)備腔體(202)，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)(204)，用于承載基片(205)并帶動(dòng)基片旋轉(zhuǎn)，與基片共形的導(dǎo)流單元，用于將供氣單元供應(yīng)的氣體均勻地吹過涂覆了光刻膠的基片表面；以及抽氣單元(203)，對(duì)所述設(shè)備腔體(202)抽氣。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了大面積基片的快速均勻光刻膠涂覆。

技術(shù)研發(fā)人員：羅先剛;王彥欽;趙澤宇;蒲明博;高平;馬曉亮;李雄;郭迎輝
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所
文檔號(hào)碼：201710004036
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.04
技術(shù)公布日：2017.05.24