本發(fā)明涉及光學膜、光學膜的制造方法、偏振片和圖像顯示裝置。本發(fā)明特別涉及輸送性良好且霧度低的光學膜、這種光學膜的制造方法、具備這種光學膜的偏振片和圖像顯示裝置。
背景技術：
以往，在電視、筆記本電腦和智能手機等圖像顯示裝置中搭載偏振片，該偏振片具備起偏器和保護膜等而構成。
作為構成保護膜的材料，例如，已知纖維素酯樹脂、聚碳酸酯和環(huán)烯烴樹脂等。這些之中，從具有高的耐熱性和耐濕性的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用環(huán)烯烴樹脂。
此外，近年來，圖像顯示裝置中使用的光學構件進行薄膜化，環(huán)烯烴樹脂膜也在薄膜的狀態(tài)下使用。薄膜的環(huán)烯烴樹脂膜在制造該膜時和制造使用該膜的偏振片時，為了保持膜品質(zhì)，有時在膜兩面中一面上貼合有保護膜的狀態(tài)下輸送。
然而，若使用保護膜，則該保護膜存在缺陷時，存在該缺陷會轉印至環(huán)烯烴樹脂膜的問題。進而，也存在由于保護膜與環(huán)烯烴樹脂膜的熱膨脹系數(shù)差，通過在制造偏振片時實施的熱矯正而環(huán)烯烴樹脂膜變形的問題。
因此，若在環(huán)烯烴樹脂膜上不貼合保護膜的狀態(tài)下輸送而制作偏振片，則在輸送時在環(huán)烯烴樹脂膜上產(chǎn)生表面凹凸不平或起皺、斷裂等，會使偏振片的收率顯著下降。這是因為，由于環(huán)烯烴樹脂膜在輸送輥上不滑動，對環(huán)烯烴樹脂膜施加的輸送張力變得過量。
作為使環(huán)烯烴樹脂膜相對于輸送輥滑動的方法，已知在環(huán)烯烴樹脂膜中添加二氧化硅微粒而調(diào)整表面粗糙度ra的方法。然而，在環(huán)烯烴樹脂的情況下，為了將膜表面設為規(guī)定的表面粗糙度ra，需要添加大量的二氧化硅微粒，由此，由于入射至膜的光發(fā)生散射等而霧度上升。若將霧度上升的環(huán)烯烴樹脂膜用于圖像顯示裝置，則會產(chǎn)生正面對比度下降的問題，引起品質(zhì)的下降。此外，認為通過例如將含有金屬微粒的硬涂層設置于膜表面(例如，參照專利文獻1)，也可使膜相對于輸送輥滑動，但由于在膜表面上層疊硬涂層，因而膜整體的厚度增大，霧度上升。
現(xiàn)有技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特開2007-219485號公報
技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明是鑒于上述問題·情況而完成的，其解決課題是提供一種輸送性良好且霧度低的光學膜、這種光學膜的制造方法、具備這種光學膜的偏振片和圖像顯示裝置。
為了解決本發(fā)明所涉及的上述課題，對上述問題的原因等進行了研究，其結果發(fā)現(xiàn)，使含有環(huán)烯烴樹脂的光學膜上含有微粒和表面調(diào)節(jié)劑，將該光學膜兩面中表面粗糙度ra高的面的表面粗糙度ra設為規(guī)定數(shù)值范圍內(nèi)，可以提供輸送性良好且霧度低的光學膜。
即，本發(fā)明所涉及的課題通過以下方法解決。
1.一種光學膜，其特征在于，含有環(huán)烯烴樹脂、微粒和表面調(diào)節(jié)劑，
上述表面調(diào)節(jié)劑含有有機硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一種，
膜兩面中表面粗糙度ra高的面的表面粗糙度ra在3.0～50.0nm的范圍內(nèi)。
2.如第1項所述的光學膜，其特征在于，
膜兩面中表面粗糙度ra低的面的表面粗糙度ra在2.0～20.0nm的范圍內(nèi)，
膜兩面的表面粗糙度ra的差為1.0nm以上。
3.如第1項或第2項所述的光學膜，其特征在于，上述微粒含有硅化合物。
4.一種光學膜的制造方法，其特征在于，是制造第1項～第3項中任一項所述的光學膜的光學膜的制造方法，
通過使用二種以上的溶劑的溶液澆注法而制造。
5.一種偏振片，其特征在于，具備：
起偏器、以及
第1項～第3項中任一項所述的光學膜。
6.如第5項所述的偏振片，其特征在于，上述起偏器粘接于上述光學膜的兩面中表面粗糙度ra低的面。
7.一種圖像顯示裝置，其特征在于，具備第1項～第3項中任一項所述的光學膜。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供輸送性良好且霧度低的光學膜、這種光學膜的制造方法、具備這種光學膜的偏振片和圖像顯示裝置。
對于本發(fā)明的效果的表達機理或作用機理，雖然尚未明確，但推測如下。
一般而言，在通過將含有光學膜的組合物的涂料澆注至支撐體上且使溶劑從該膜狀物干燥而得到膜的溶液澆注法制造光學膜時，從將膜狀物從支撐體剝離時的剝離性的觀點出發(fā)，優(yōu)選在涂料中含有低沸點溶劑作為良溶劑。
推測在通過該方法制作光學膜時，上述的微粒和表面調(diào)節(jié)劑在涂料、膜狀物中形成締合體，該締合體與良溶劑的親和性高。因此，在將澆注至支撐體上的膜狀物干燥的過程中，上述締合體與從膜狀物揮發(fā)的良溶劑一起移動至膜狀物的空氣界面?zhèn)鹊谋砻?，在該狀態(tài)下固定化而制造光學膜。由此，可以使微粒與表面調(diào)節(jié)劑一起偏在于光學膜的單面，將光學膜的兩面中一面(空氣界面?zhèn)鹊谋砻?選擇性地皸裂，其結果，體現(xiàn)出顯著的滑動性。通過對光學膜賦予滑動性，輸送性提高，且可以不設置保護膜、硬涂層而抑制表面凹凸不平、起皺的產(chǎn)生，且以高收率制作偏振片。此外，通過與表面調(diào)節(jié)劑一起含有微粒，可以使微粒偏在于光學膜的單面而選擇性地賦予滑動性，因此可以減少微粒的含量，可以制成霧度低的光學膜。進而，通過在制造光學膜時的卷取工序中也對光學膜的單面賦予滑動性，可以抑制纏繞偏移等的產(chǎn)生。
具體實施方式
本發(fā)明的光學膜，其特征在于，是含有環(huán)烯烴樹脂、微粒和表面調(diào)節(jié)劑的光學膜，上述表面調(diào)節(jié)劑含有有機硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一種，膜兩面中表面粗糙度ra高的面的表面粗糙度ra在3.0～50.0nm的范圍內(nèi)。該特征是與各權利要求共通或?qū)募夹g特征。
本發(fā)明中，優(yōu)選膜兩面中表面粗糙度ra低的面的表面粗糙度ra在2.0～20.0nm的范圍內(nèi)，膜兩面的表面粗糙度ra的差為1.0nm以上。由此，在使起偏器貼合于上述表面粗糙度ra低的面而制作偏振片時，由于與另一面相比凹凸少，與該起偏器的粘接界面難以產(chǎn)生間隙且可抑制光的散射，在搭載于圖像顯示裝置時可以有效地抑制漏光等問題。此外，通過上述表面粗糙度ra低的面的表面粗糙度ra在上述范圍內(nèi)，在該面也體現(xiàn)出滑動性，可進一步提高輸送性。此外，通過使膜兩面的表面粗糙度ra存在差，可以將霧度值保持得較低且提高光學膜的輸送性。
此外，本發(fā)明中，上述微粒優(yōu)選含有硅化合物。由此，微粒與表面調(diào)節(jié)劑的親和性提高，光學膜制膜時可使微粒更可靠地移動至膜內(nèi)，可更可靠地得到良好的輸送性。
本發(fā)明的光學膜的制造方法是制造上述光學膜的光學膜的制造方法，其特征在于，通過使用二種以上的溶劑的溶液澆注法而制造。由此，可以制造輸送性良好且霧度低的光學膜。
本發(fā)明的偏振片的特征在于，具備起偏器和上述光學膜。由此，可以制成霧度低的偏振片。
本發(fā)明中，上述起偏器優(yōu)選粘接于上述光學膜的兩面中表面粗糙度ra低的面。由此，在偏振片制作時可以確保光學膜的輸送性，可以以高收率得到偏振片。
本發(fā)明的圖像顯示裝置的特征在于，具備上述光學膜。由此，可以提高可視性。
以下，對本發(fā)明及其構成要素、以及用于實施本發(fā)明的形式·方式詳細地進行說明。應予說明，在本申請中，“～”是以包含其前后所記載的數(shù)值作為下限值和上限值的意思來使用的。
《1.光學膜的概要》
本發(fā)明的光學膜，其特征在于，是含有環(huán)烯烴樹脂、微粒和表面調(diào)節(jié)劑的光學膜，表面調(diào)節(jié)劑含有有機硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一種，膜兩面中表面粗糙度ra高的面的表面粗糙度ra在3.0～50.0nm的范圍內(nèi)。另外，本發(fā)明的光學膜也可以進一步含有后述的各種添加劑、膜制膜時使用的溶劑作為殘留溶劑。
1-1.環(huán)烯烴樹脂
本發(fā)明的光學膜中含有的環(huán)烯烴樹脂優(yōu)選為環(huán)烯烴單體的聚合物、或環(huán)烯烴單體與除其以外的共聚性單體的共聚物。
作為環(huán)烯烴單體，優(yōu)選為具有降冰片烯骨架的環(huán)烯烴單體，更優(yōu)選為具有由下述通式(a-1)或(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體。
通式(a-1)
通式(a-1)中，r1～r4各自獨立地表示氫原子、碳原子數(shù)1～30的烴基、或極性基團。p表示0～2的整數(shù)。其中，所有r1～r4不同時地表示氫原子，r1和r2不同時地表示氫原子，r3和r4不同時地表示氫原子。
作為通式(a-1)中由r1～r4表示的碳原子數(shù)1～30的烴基，例如，優(yōu)選為碳原子數(shù)1～10的烴基，更優(yōu)選為碳原子數(shù)1～5的烴基。碳原子數(shù)1～30的烴基例如也可以進一步具有包含鹵素原子、氧原子、氮原子、硫原子或硅原子的聯(lián)結基團。這種聯(lián)結基團的例子包含羰基、亞氨基、醚鍵、甲硅烷基醚鍵、硫醚鍵等2價的極性基團。碳原子數(shù)1～30的烴基的例子包含甲基、乙基、丙基和丁基等。
通式(a-1)中由r1～r4表示的極性基團的例子包含羧基、羥基、烷氧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、酰胺基和氰基。其中，優(yōu)選為羧基、羥基、烷氧基羰基和芳氧基羰基，從確保溶液制膜時的溶解性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為烷氧基羰基和芳氧基羰基。
從提高光學膜的耐熱性的觀點出發(fā)，通式(a-1)中的p優(yōu)選表示1或2。這是因為，若p表示1或2，則所得的聚合物的體積增大，玻璃化轉變溫度容易提高。
通式(a-2)
通式(a-2)中，r5表示氫原子、碳原子數(shù)1～5的烴基、或具有碳原子數(shù)1～5的烷基的烷基甲硅烷基。r6表示羧基、羥基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、酰胺基、氰基、或鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子或碘原子)。p表0～2的整數(shù)。
通式(a-1)中的r5優(yōu)選表示碳原子數(shù)1～5的烴基，更優(yōu)選表示碳原子數(shù)1～3的烴基。
通式(a-2)中的r6優(yōu)選表示羧基、羥基、烷氧基羰基和芳氧基羰基，從確保溶液制膜時的溶解性的觀點出發(fā)，更優(yōu)選為烷氧基羰基和芳氧基羰基。
從提高光學膜的耐熱性的觀點出發(fā)，通式(a-2)中的p優(yōu)選表示1或2。這是因為，若p為1或2，則所得的聚合物的體積增大，玻璃化轉變溫度容易提高。
具有由通式(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體從提高在有機溶劑中的溶解性的方面出發(fā)為優(yōu)選。一般而言，有機化合物通過破壞對稱性來降低結晶性，因此在有機溶劑中的溶解性提高。通式(a-2)中的r5和r6相對于分子的對稱軸僅取代在單側的環(huán)結構碳原子，因此分子的對稱性低，由此，具有由通式(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體的溶解性高，適合于通過溶液澆注法制造光學膜的情況。
環(huán)烯烴單體的聚合物中的具有由通式(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體的含有比例相對于構成環(huán)烯烴樹脂的全部環(huán)烯烴單體的合計例如可以設為70摩爾％以上，優(yōu)選設為80摩爾％以上，更優(yōu)選設為100摩爾％。若含有一定以上的具有由通式(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體，則樹脂的取向性提高，因此相位差值容易上升。
以下，將具有由通式(a-1)表示的結構的環(huán)烯烴單體的具體例示于例示化合物1～14，將具有由通式(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體的具體例示于例示化合物15～34。
可與環(huán)烯烴單體共聚的共聚性單體的例子包含可與環(huán)烯烴單體開環(huán)共聚的共聚性單體和可與環(huán)烯烴單體加成共聚的共聚性單體等。
可開環(huán)共聚的共聚性單體的例子包含環(huán)丁烯、環(huán)戊烯、環(huán)庚烯、環(huán)辛烯和二環(huán)戊二烯等環(huán)烯烴。
可加成共聚的共聚性單體的例子包含含不飽和雙鍵化合物、乙烯基系環(huán)狀烴單體和(甲基)丙烯酸酯等。含不飽和雙鍵化合物的例子包含碳原子數(shù)2～12(優(yōu)選為2～8)的烯烴系化合物，其例子中包含乙烯、丙烯和丁烯等。乙烯基系環(huán)狀烴單體的例子包含4-乙烯基環(huán)戊烯和2-甲基-4-異丙烯基環(huán)戊烯等乙烯基環(huán)戊烯系單體。(甲基)丙烯酸酯的例子包含(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯和(甲基)丙烯酸環(huán)己酯等碳原子數(shù)1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。
環(huán)烯烴單體與共聚性單體的共聚物中的環(huán)烯烴單體的含有比例相對于構成共聚物的全部單體的合計例如可以設為20～80摩爾％，優(yōu)選設為30～70摩爾％。
如上所述，環(huán)烯烴樹脂是具有降冰片烯骨架的環(huán)烯烴單體，優(yōu)選為將具有由通式(a-1)或(a-2)表示的結構的環(huán)烯烴單體聚合或共聚而得到的聚合物，其例子包含以下化合物。
(1)環(huán)烯烴單體的開環(huán)聚合物
(2)環(huán)烯烴單體和可與其開環(huán)共聚的共聚性單體的開環(huán)共聚物
(3)上述(1)或(2)的開環(huán)(共)聚合物的氫化物
(4)將上述(1)或(2)的開環(huán)(共)聚合物通過弗里德爾-克拉夫茨反應進行環(huán)化后進行氫化的(共)聚合物
(5)環(huán)烯烴單體與含不飽和雙鍵化合物的飽和共聚物
(6)與環(huán)烯烴單體的乙烯基系環(huán)狀烴單體的加成共聚物及其氫化物
(7)環(huán)烯烴單體與(甲基)丙烯酸酯的交替共聚物
上述(1)～(7)的聚合物可以通過任何公知的方法，例如通過日本特開2008-107534號公報、日本特開2005-227606號公報中記載的方法而得到。例如，上述(2)的開環(huán)共聚中使用的催化劑、溶劑例如可使用日本特開2008-107534號公報的0019～0024段中記載的催化劑、溶劑。上述(3)和(6)的氫化中使用的催化劑例如可使用日本特開2008-107534號公報的0025～0028段中記載的催化劑。上述(4)的弗里德爾-克拉夫茨反應中使用的酸性化合物例如可使用日本特開2008-107534號公報的0029段中記載的酸性化合物。上述(5)～(7)的加成聚合中使用的催化劑例如可使用日本特開2005-227606號公報的0058～0063段中記載的催化劑。上述(7)的交替共聚反應例如可以通過日本特開2005-227606號公報的0071和0072段中記載的方法進行。
其中，優(yōu)選為上述(1)～(3)和(5)的聚合物，更優(yōu)選為上述(3)和(5)的聚合物。即，從可提高所得的環(huán)烯烴樹脂的玻璃化轉變溫度且提高光透射率的方面出發(fā)，環(huán)烯烴樹脂優(yōu)選包含由下述通式(b-1)表示的結構單元和由下述通式(b-2)表示的結構單元中的至少一者，更優(yōu)選僅包含由通式(b-2)表示的結構單元，或包含由通式(b-1)表示的結構單元和由通式(b-2)表示的結構單元這兩者。由通式(b-1)表示的結構單元是來自由上述通式(a-1)表示的環(huán)烯烴單體的結構單元，由通式(b-2)表示的結構單元是來自由上述通式(a-2)表示的環(huán)烯烴單體的結構單元。
通式(b-1)
通式(b-1)中，x表示-ch＝ch-或-ch2ch2-。r1～r4和p分別與通式(a-1)的r1～r4和p同義。
通式(b-2)
通式(b-2)中，x表示-ch＝ch-或-ch2ch2-。r5、r6和p分別與通式(a-2)的r5、r6和p同義。
本發(fā)明所涉及的環(huán)烯烴樹脂也可以是市售品。環(huán)烯烴樹脂的市售品的例子包含jsr株式會社制的artong(例如g7810等)、artonf、artonr(例如r4500、r4900和r5000等)和artonrx。
環(huán)烯烴樹脂的特性粘度〔η〕inh在30℃下優(yōu)選為0.2～5cm3/g，更優(yōu)選為0.3～3cm3/g，進一步優(yōu)選為0.4～1.5cm3/g。
環(huán)烯烴樹脂的數(shù)均分子量(mn)優(yōu)選為8000～100000，更優(yōu)選為10000～80000，進一步優(yōu)選為12000～50000。環(huán)烯烴樹脂的重均分子量(mw)優(yōu)選為20000～300000，更優(yōu)選為30000～250000，進一步優(yōu)選為40000～200000。環(huán)烯烴樹脂的數(shù)均分子量、重均分子量可以通過凝膠滲透色譜法(gpc)以聚苯乙烯換算進行測定。
若特性粘度〔η〕inh、數(shù)均分子量和重均分子量在上述范圍，則環(huán)烯烴樹脂的耐熱性、耐水性、耐藥品性、機械特性、以及作為膜的成型加工性良好。
環(huán)烯烴樹脂的玻璃化轉變溫度(tg)通常為110℃以上，優(yōu)選為110～350℃，更優(yōu)選為120～250℃，進一步優(yōu)選為120～220℃。若tg為110℃以上，則容易抑制在高溫條件下的變形。另一方面，若tg為350℃以下，則成型加工變得容易，也容易抑制由成型加工時的熱所致的樹脂的劣化。
環(huán)烯烴樹脂的含量相對于構成光學膜的材料中的不包括溶劑的全部成分，優(yōu)選為70質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為80質(zhì)量％以上。
1-2.微粒
本發(fā)明所涉及的微粒是指利用透射型電子顯微鏡進行測定時的數(shù)均粒徑為400nm以下的粒子。在這種情況下，各粒子的粒徑作為將透射型電子顯微鏡中的投影面換算成相同面積的圓時的直徑而定義。為了不產(chǎn)生不需要的散射，優(yōu)選微粒的粒徑與可見光的波長相比非常小，具體而言，1～200nm為優(yōu)選范圍，更優(yōu)選為1～100nm的范圍，特別優(yōu)選為5～60nm的范圍。粒子的形狀不限定于球狀，也可以是不定形的形狀。
作為本發(fā)明所涉及的微粒，可以是無機微粒，也可以是有機微粒。此外，也可以是以有機化合物進行表面修飾的無機微粒。
作為無機微粒，例如，優(yōu)選為包含硅的化合物(硅化合物)、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、滑石、粘土、煅燒高嶺土、煅燒硅酸鈣、水合硅酸鈣、硅酸鋁、硅酸鎂和磷酸鈣等，進一步優(yōu)選為硅化合物、氧化鋁，特別優(yōu)選使用二氧化硅。它們可舉出球狀、平板狀或無特定形狀(無定形狀)等形狀的粒子。
作為二氧化硅的微粒，例如可使用aerosilr972、r972v、r972cf、r974、r812、50、200、200v、300、r202、ox50、tt600、r711、ry300、r106、r816、ra200hs、mox170(以上，日本aerosil株式會社制)等市售品。
作為氧化鋁的微粒，例如可使用aerosilaluc、alu130和aluc805(以上，日本aerosil株式會社制)等市售品。
此外，作為有機微粒，例如，可舉出聚苯乙烯樹脂、有機硅樹脂、聚乙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、聚碳酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂等、丙烯酸-苯乙烯樹脂、三聚氰胺-二氧化硅等復合的微粒，但不限定于它們。
此外，這些無機微粒和有機微?？梢詥为毷褂?，也可以并用2種以上。此外，在使用有機微粒時，優(yōu)選使用單分散中的折射率與樹脂的折射率的差少的有機微粒。
微粒的含量相對于構成光學膜的材料中的不包括溶劑的全部成分，優(yōu)選在0.01～5.0質(zhì)量％的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0.05～3.0質(zhì)量％的范圍內(nèi)。
1-3.表面調(diào)節(jié)劑
本發(fā)明中表面調(diào)節(jié)劑是指含有有機硅材料、氟系材料、乙烯基系材料和丙烯酸系材料中的至少一種的表面調(diào)節(jié)劑。
作為有機硅材料，例如，優(yōu)選使用有機硅系表面活性劑等，作為氟系材料，例如，優(yōu)選使用氟系表面活性劑、氟-硅氧烷接枝化合物或氟系化合物等，作為乙烯基系材料，例如，優(yōu)選使用乙烯基共聚物、乙烯基-硅氧烷接枝化合物等，作為丙烯酸系材料，例如，優(yōu)選使用丙烯酸-有機硅接枝化合物、丙烯酸共聚物等。
這里，有機硅材料是指具有硅氧烷骨架作為重復單元的低聚物或聚合物。該硅氧烷重復結構可以作為主鏈而具有，也可以作為接枝的側鏈而具有。
氟系材料是指至少1個重復單元中含有氟原子的低聚物或聚合物。該含氟重復結構可以作為主鏈而具有，也可以作為接枝的側鏈而具有。
乙烯基系材料是指重復單元中含有乙烯基、乙烯叉、乙烯撐中的至少1種的低聚物或聚合物。該含乙烯基重復結構可以作為主鏈而具有，也可以作為接枝的側鏈而具有。
丙烯酸系材料是指重復單元中具有丙烯酰基的低聚物或聚合物。該含丙烯?；貜徒Y構可以作為主鏈而具有，也可以作為接枝的側鏈而具有。
作為有機硅系表面活性劑，例如，可舉出聚醚改性有機硅、丙烯酸改性有機硅等，可舉出上述共榮社化學公司制的gl系列(例如，gl-01、gl-02r、gl-03、gl-04r等)、日信化學工業(yè)公司制的silface系列(例如，silfacesag002、silfacesag005、silfacesag008、silfacesag503a等)等。
作為氟系表面活性劑，例如，可舉出dic株式會社制的megafacrs系列、megafacf-444、megafacf-556等。
氟-硅氧烷接枝化合物是指使包含硅氧烷和/或有機硅氧烷單質(zhì)的聚硅氧烷和/或有機聚硅氧烷至少與氟系樹脂接枝化而得到的共聚物的化合物。此外，作為市售品，可舉出富士化成工業(yè)株式會社制的zx-022h、zx-007c、zx-049、zx-047-d等。
此外，作為氟系化合物，可舉出daikin工業(yè)株式會社制的optooldsx、optooldac等。
作為丙烯酸共聚物，可舉出bykjapan公司制的byk-350，byk-352等。
作為本發(fā)明所涉及的表面調(diào)節(jié)劑，除上述表面調(diào)節(jié)劑以外，可使用以下市售品。例如可舉出花王株式會社制：emulgen102kg、emulgen104p、emulgen105、emulgen106、emulgen108、emulgen109p、emulgen120、emulgen123p、emulgen147、emulgen210p、emulgen220、emulgen306p、emulgen320p、emulgen404、emulgen408、emulgen409pv、emulgen420、emulgen430、emulgen705、emulgen707、emulgen709、emulgen1108、emulgen1118s-70、emulgen1135s-70、emulgen2020g-ha、emulgen2025g、emulgenls-106、emulgenls-110、emulgenls114、日信化學工業(yè)株式會社制：surfynol104e、surfynol104h、surfynol104a、surfynol104bc、surfynol104dpm、surfynol104pa、surfynol104pg-50、surfynol104s、surfynol420、surfynol440、surfynol465、surfynol485、surfynolse、信越化學工業(yè)株式會社制：fa-600、kc-89s、kr-500、kr-516、x-40-9296、kr-513、x-22-161a、x-22-162c、x-22-163、x-22-163a、x-22-164、x-22-164a、x-22-173bx、x-22-174asx、x-22-176dx、x-22-343、x-22-2046、x-22-2445、x-22-3939a、x-22-4039、x-22-4015、x-22-4272、x-22-4741、x-22-4952、x-22-6266、kf-50-100cs、kf-96l-1cs、kf-101、kf-102、kf-105、kf-351、kf-352、kf-353、kf-354l、kf-355a、kf-393、kf-615a、kf-618、kf-857、kf-859、kf-860、kf-862、kf-877、kf-889、kf-945、kf-1001、kf-1002、kf-1005、kf-2012、kf-2201、x-22-2404、x-22-2426、x-22-3710、kf-6004、kf-6011、kf-6015、kf-6123、kf-8001、kf-8010、kf-8012、x-22-9002等。
表面調(diào)節(jié)劑的含量相對于構成光學膜的材料中的不包括溶劑的全部成分，優(yōu)選在0.01～5.0質(zhì)量％的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0.05～3.0質(zhì)量％的范圍內(nèi)。通過表面調(diào)節(jié)劑的含量為0.01質(zhì)量％以上，可以充分發(fā)揮本發(fā)明的效果，通過為5.0質(zhì)量％以下，可以將膜的霧度抑制得低且更可靠地賦予滑動性。
1-4.其它添加劑
如上所述，本發(fā)明的光學膜也可以進一步含有其它添加劑。作為這種添加劑，例如，可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑等。
(紫外線吸收劑)
本發(fā)明的光學膜也可以含有紫外線吸收劑作為添加劑。
紫外線吸收劑吸收400nm以下的紫外線，因此可以提高光學膜的耐久性。紫外線吸收劑尤其是在波長370nm下的透射率優(yōu)選為10％以下，更優(yōu)選為5％以下，進一步優(yōu)選為2％以下。
作為紫外線吸收劑的具體例，沒有特別限定，例如，可舉出氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三嗪系化合物、鎳絡合鹽系化合物、無機粉體等，特別優(yōu)選為苯并三唑系化合物和二苯甲酮系化合物等。
作為紫外線吸收劑，更具體而言，例如可使用5-氯-2-(3,5-二仲丁基-2-羥基苯基)-2h-苯并三唑、(2-2h-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈和側鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、2-羥基-4-芐氧基二苯甲酮、2,4-芐氧基二苯甲酮等。它們也可以使用市售品，例如，可優(yōu)選使用basfjapan公司制的tinuvin109(辛基-3-[3-叔丁基-4-羥基-5-(5-氯-2h-苯并三唑-2-基)苯基]丙烯酯與2-乙基己基-3-[3-叔丁基-4-羥基-5-(5-氯-2h-苯并三唑-2-基)苯基]丙烯酯的混合物)、tinuvin171、tinuvin234、tinuvin326、tinuvin327、tinuvin328、tinuvin928(2-(2h-苯并三唑-2-基)-6-(1-甲基-1-苯基乙基)-4-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯酚)等tinuvin類。
另外，具有1,3,5-三嗪環(huán)的化合物等圓盤狀化合物也作為紫外線吸收劑優(yōu)選使用。此外，作為紫外線吸收劑，高分子紫外線吸收劑也可以優(yōu)選使用，特別優(yōu)選使用聚合物型的紫外線吸收劑。
作為三嗪系紫外線吸收劑，可使用作為市售品的basfjapan公司制的tinuvin400(2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-5-羥基苯基與環(huán)氧乙烷的反應生成物)、tinuvin460(2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3-5-三嗪)、tinuvin405(2-(2,4-二羥基苯基)-4,6-雙-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪與(2-乙基己基)-縮水甘油酸酯的反應生成物)等。
作為紫外線吸收劑的添加方法，也可以在甲醇、乙醇、丁醇等醇、二氯甲烷、乙酸甲酯、丙酮或二氧戊環(huán)等有機溶劑或它們的混合溶劑中溶解紫外線吸收劑后，添加于光學膜的制造中使用的樹脂溶液(涂料)中，或直接添加于涂料中。如無機粉體那樣不溶解于有機溶劑的物質(zhì)在有機溶劑和醋酸纖維素中使用溶解器、混砂機，進行分散后添加于涂料中。
作為紫外線吸收劑的含量，例如，相對于光學膜優(yōu)選為0.5～10質(zhì)量％的范圍，進一步優(yōu)選為0.6～4質(zhì)量％的范圍。
(抗氧化劑)
本發(fā)明的光學膜也可以含有抗氧化劑(劣化防止劑)作為其它添加劑。
作為抗氧化劑，優(yōu)選使用受阻酚系的化合物，例如可舉出2,6-二叔丁基-對甲酚、季戊四醇基-四〔3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-雙〔3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙烯酯〕、1,6-己二醇-雙〔3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙烯酯〕、2,4-雙-(正辛硫基)-6-(4-羥基-3,5-二叔丁基苯胺基)-1,3,5-三嗪、2,2-硫代二亞乙基雙〔3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙烯酯〕、十八烷基-3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙烯酯、n,n′-六亞甲基雙(3,5-二叔丁基-4-羥基-氫化肉桂酰胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羥基芐基)苯、三(3,5-二叔丁基-4-羥基芐基)-異氰脲酸酯等。
抗氧化劑的含量例如相對于光學膜優(yōu)選為1～10000質(zhì)量ppm的范圍，進一步優(yōu)選為10～1000質(zhì)量ppm的范圍。
1-5.光學膜的物性
(表面粗糙度ra)
本發(fā)明的光學膜的兩面中表面粗糙度ra高的面的表面粗糙度ra在3.0～50.0nm的范圍內(nèi)，優(yōu)選在4.0～40.0nm的范圍內(nèi)。若表面粗糙度ra為3.0nm以上，則光學膜的滑動性提高，可以抑制輸送中的表面凹凸不平、起皺。若表面粗糙度ra為50nm以下，則可以抑制由光學膜表面的凹凸所致的光的散射，可以將霧度值設為低的值。另外，本發(fā)明中的表面粗糙度ra為jisb0601：2001中規(guī)定的算術平均粗糙度(ra)。
此外，本發(fā)明的光學膜的兩面中表面粗糙度ra低的面的表面粗糙度ra優(yōu)選在2.0～30.0nm的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在2.0～20.0nm的范圍內(nèi)。通過使表面粗糙度ra值在該范圍內(nèi)，在使起偏器貼合于光學膜的表面粗糙度ra低的面而制作偏振片時，與表面粗糙度ra高的面相比凹凸少，因此在與該起偏器的粘接界面難以產(chǎn)生間隙，可抑制光的散射，因此可以在搭載于液晶顯示裝置時有效地抑制漏光。
這里，如上所述，通過使微粒與表面調(diào)節(jié)劑一起含于含有環(huán)烯烴樹脂的膜，可以使微粒和表面調(diào)節(jié)劑大量存在于膜的一面(制膜時的空氣界面?zhèn)鹊谋砻?，該微粒和表面調(diào)節(jié)劑也部分存在于膜的另一面(制膜時的支撐體(例如，后述的金屬支撐體)側的表面)。
認為這是因為，在光學膜的制造中的膜狀物的干燥工序中，溶劑為良溶劑，因此優(yōu)先揮發(fā)，但也存在若干直至干燥的最終階段為止未揮發(fā)的良溶劑成分，因此該良溶劑中溶劑化的上述締合體也存在于膜的另一面。因此，若與膜的一面相比則微粒和表面調(diào)節(jié)劑的存在量少，但微粒和表面調(diào)節(jié)劑形成有締合體，因此可得到粒徑大、如上述的范圍的表面粗糙度ra。
作為將上述另一面的表面粗糙度ra控制在上述范圍內(nèi)的方法，可舉出適當調(diào)整微粒和表面調(diào)節(jié)劑的含量、膜制造時的拉伸條件的方法。
進而，光學膜兩面的表面粗糙度ra的差優(yōu)選為1.0nm以上。通過使膜兩面的表面粗糙度ra存在差，可以將霧度值保持得低且提高光學膜的輸送性。
另外，表面粗糙度ra可以用光干涉式的表面粗糙度測定器進行測定，例如可使用光學干涉式表面粗糙度計rst/plus(wyko公司制)進行測定。
(光學特性)
光學膜的總光線透射率優(yōu)選為90％以上，更優(yōu)選為92％以上。此外，作為現(xiàn)實的上限，為99％左右。霧度值優(yōu)選為10％以下，更優(yōu)選為2％以下?？偣饩€透射率和霧度值可以分別按照jisk7361和jisk7136進行測定。
(延遲值)
本發(fā)明的光學膜的使用用途沒有特別限定，可以作為偏振片保護膜使用，也可以作為相位差膜使用。在作為相位差膜使用時，能夠根據(jù)其用途取得各種延遲值。
例如，本發(fā)明的光學膜用作va液晶用的相位差膜時，在測定波長590nm、23℃·55％rh的環(huán)境下測定的面內(nèi)方向的延遲值ro優(yōu)選滿足10nm≤ro≤100nm，更優(yōu)選滿足20nm≤ro≤80nm。厚度方向的延遲值rt優(yōu)選滿足70nm≤rt≤200nm，更優(yōu)選滿足90nm≤rt≤150nm。
另外，延遲值ro和rt是以下述式(i)和(ii)定義的值。
式(i)：ro＝(nx-ny)×d
式(ii)：rt＝{(nx+ny)/2-nz}×d
(式(i)和(ii)中，nx表示光學膜面內(nèi)的慢軸方向的折射率，ny表示在光學膜面內(nèi)與慢軸垂直的方向的折射率，nz表示光學膜的厚度方向的折射率，d表示光學膜的厚度(nm)。)
在將本發(fā)明的光學膜用作λ/4膜時，在測定波長590nm、23℃·55％rh的環(huán)境下測定的面內(nèi)方向的延遲值ro優(yōu)選滿足50nm≤ro≤250nm，更優(yōu)選滿足70nm≤ro≤200nm。厚度方向的延遲值rt優(yōu)選滿足-200nm≤rt≤200nm，更優(yōu)選滿足-120nm≤rt≤120nm。
此外，在將本發(fā)明的光學膜用作零相位差膜時，在測定波長590nm、23℃·55％rh的環(huán)境下測定的面內(nèi)方向的延遲值ro優(yōu)選滿足0nm≤ro≤5nm，厚度方向的延遲值rt優(yōu)選滿足-5nm≤rt≤5nm。
上述延遲值例如可使用自動雙折射率計axoscan(axoscanmuellermatrixpolarimeter：acrometrix公司制)在23℃·55％rh的環(huán)境下以波長590nm求出。通過使用控制為上述延遲值的光學膜，用于觸控面板、液晶顯示裝置等圖像顯示裝置時的可視性優(yōu)異，從這方面出發(fā)為優(yōu)選。延遲值可以由微粒、表面調(diào)節(jié)劑和其它添加劑的種類或添加量、光學膜的厚度或拉伸條件等調(diào)整。
(厚度)
從上述延遲值ro和rt滿足上述范圍且薄膜化的觀點出發(fā)，光學膜的厚度例如優(yōu)選為3～200μm，更優(yōu)選為5～100μm，進一步優(yōu)選為7～40μm。尤其是本發(fā)明的光學膜賦予滑動性，因此可以緩和輸送張力，即使薄膜化也能夠具有良好的輸送性。
2.光學膜的制造方法
本發(fā)明的光學膜通過使用二種以上的溶劑的溶液澆注法而制造。即，本發(fā)明的光學膜的制造方法優(yōu)選具有如下工序：至少使環(huán)烯烴樹脂、微粒和表面調(diào)節(jié)劑溶解于二種以上的溶劑而得到涂料(樹脂溶液)的工序(涂料制備工序)；在支撐體上澆注涂料后，剝離而得到膜狀物的工序(澆注·剝離工序)；以及使膜狀物干燥的工序(干燥工序)。此外，本發(fā)明的光學膜的制造方法優(yōu)選在澆注·剝離工序與干燥工序之間具有拉伸膜狀物的工序(拉伸工序)，優(yōu)選具有在干燥工序后將所得的光學膜卷取的工序(卷取工序)。
2-1.涂料制備工序
對涂料制備工序進行說明。涂料中的樹脂濃度較濃可以減少在澆注至金屬支撐體后的干燥負荷而為優(yōu)選，但若樹脂的濃度過濃，則過濾時的負荷增加而過濾精度變差。作為兼具這兩個效果的的濃度，優(yōu)選為10～45質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為15～40質(zhì)量％。
涂料中含有的溶劑可并用2種以上，從生產(chǎn)效率的方面出發(fā)優(yōu)選將樹脂的良溶劑和不良溶劑混合使用，從樹脂的溶解性的方面出發(fā)優(yōu)選良溶劑較多。良溶劑與不良溶劑的混合比率的優(yōu)選范圍是良溶劑為70～98質(zhì)量％，不良溶劑為2～30質(zhì)量％。這里，就良溶劑和不良溶劑而言，將單獨溶解所用的樹脂的溶劑定義為良溶劑，將單獨使用時膨潤或不溶解的溶劑定義為不良溶劑。
此外，作為對涂料的制備有用的有機溶劑的組合，只要可同時溶解環(huán)烯烴樹脂、其它添加劑則沒有特別限制。例如，作為氯系有機溶劑，可舉出二氯甲烷、氯仿，作為非氯系有機溶劑，可舉出乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、四氫呋喃、1,3-二氧戊環(huán)、1,4-二
涂料優(yōu)選為使合計15～45質(zhì)量％的環(huán)烯烴樹脂、微粒、表面調(diào)節(jié)劑和其它添加劑溶解于上述溶劑而成的涂料。
作為制備上述涂料時的、樹脂在溶劑中的溶解方法，可使用通常的方法。尤其是從減少對溶解裝置的負擔、防止樹脂的著色的觀點出發(fā)，優(yōu)選為常溫、常壓下的溶解。
接著，將溶解有該樹脂的溶液使用濾紙等適當?shù)倪^濾材料過濾。作為過濾材料，為了除去不溶物等，優(yōu)選絕對過濾精度較小，但若絕對過濾精度過小，則存在容易產(chǎn)生過濾材料的堵塞的問題。因此優(yōu)選為絕對過濾精度為0.008mm以下的濾材，更優(yōu)選為0.001～0.008mm的濾材，進一步優(yōu)選為0.003～0.006mm的濾材。
濾材的材質(zhì)沒有特別限制，可使用通常的濾材，聚丙烯、特氟隆(注冊商標)等塑料制的濾材、不銹鋼等金屬制的濾材沒有纖維的脫落等，為優(yōu)選。優(yōu)選通過過濾將原料的樹脂所含的雜質(zhì)，尤其是將亮點異物除去、減少。
亮點異物是指將2片偏振片設為正交尼科爾棱鏡狀態(tài)而配置，在其間設置光學膜等，在從一偏振片的一側照射光，從另一偏振片的一側觀察時，來自相反側的光漏出而看到的點(異物)，直徑為0.01mm以上的亮點的數(shù)量優(yōu)選為200個/cm2以下。更優(yōu)選為100個/cm2以下，進一步優(yōu)選為50個/m2以下，特別優(yōu)選在0～10個/cm2的范圍內(nèi)。此外，優(yōu)選0.01mm以下的亮點也較少。
涂料的過濾可以用通常的方法進行，一邊在溶劑的常壓下的沸點以上且在加壓下溶劑未沸騰的范圍的溫度下加熱一邊過濾的方法的過濾前后的濾壓的差(稱為差壓)的顯示小，為優(yōu)選。優(yōu)選溫度為45～120℃，更優(yōu)選為45～70℃，進一步優(yōu)選為45～55℃。
濾壓優(yōu)選較小。具體而言，濾壓優(yōu)選為1.6mpa以下，更優(yōu)選為1.2mpa以下，進一步優(yōu)選為1.0mpa以下。
2-2.澆注·剝離工序
使所得的涂料從澆注?？趪姵龆鴿沧⒅两饘僦误w上，將所得的澆注膜進行干燥和剝離而得到膜狀物。澆注寬度例如可設為1～4m。作為金屬支撐體，可使用以不銹鋼帶或鑄物將表面鍍敷精加工的鼓。金屬支撐體的表面優(yōu)選進行鏡面精加工。另外，澆注有涂料的支撐體不限于金屬制，也可以是樹脂制等任何材質(zhì)。
金屬支撐體的表面溫度為-50℃～小于溶劑的沸點的溫度，溫度較高可以提高膜狀物的干燥速度，因此為優(yōu)選，若過高，則膜狀物發(fā)泡，或平面性劣化。因此，金屬支撐體的表面溫度優(yōu)選為0～40℃，更優(yōu)選為5～30℃。
控制金屬支撐體的溫度的方法沒有特別的限制，可舉出吹溫風或冷風的方法、使溫水與金屬支撐體的背面接觸的方法。使用溫水可有效地進行傳熱，因此金屬支撐體的溫度成為恒定溫度的時間短，為優(yōu)選。
使用溫風時，考慮到溶劑的蒸發(fā)潛熱所致的料片(ウェブ)的溫度下降，有時使用溶劑沸點以上的溫風，而且一邊防止發(fā)泡一邊使用比目標溫度高的溫度的風。
為了得到具有良好的平面性的膜狀物，從金屬支撐體剝離時的膜狀物的殘留溶劑量優(yōu)選為10～150質(zhì)量％，更優(yōu)選為20～40質(zhì)量％或60～130質(zhì)量％，進一步優(yōu)選為20～30質(zhì)量％或70～120質(zhì)量％。
這里，膜狀物的殘留溶劑量由下述式定義。
殘留溶劑量(質(zhì)量％)＝{(m-n)/n}×100
(上述式中，m表示膜狀物的質(zhì)量，n表示將該膜狀物在120℃加熱1小時后的質(zhì)量。)
2-3.干燥工序
干燥工序優(yōu)選將從金屬支撐體剝離的膜狀物干燥至殘留溶劑量為1質(zhì)量％以下，進一步優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選在0～0.01質(zhì)量％的范圍內(nèi)。由此，可得到光學膜。
膜干燥工序中，一般采用輥干燥方式(將膜狀物交替地通過在上下配置的多個輥而使其干燥的方式)、一邊以拉幅機方式輸送膜狀物一邊使其干燥的方式。
特別優(yōu)選在從澆注至剝離的期間變更上述金屬支撐體的溫度和干燥風的溫度，高效地進行干燥。
本發(fā)明中，認為在涂料、膜狀物中微粒與表面調(diào)節(jié)劑形成締合體，該締合體與良溶劑親和性高，從而在干燥工序中該締合體與從膜狀物揮發(fā)的良溶劑一起移動至膜的空氣界面?zhèn)鹊谋砻妫傻玫轿⒘：捅砻嬲{(diào)節(jié)劑偏在于單面?zhèn)鹊墓鈱W膜。
由此，通過以使用二種以上的溶劑的溶液澆注法制造光學膜，可以對光學膜賦予滑動性而提高輸送性，可以不使用保護膜就以高收率制作偏振片等。
2-4.拉伸工序
拉伸工序中，將剝離而得到的膜狀物進行拉伸而進行相位差的調(diào)整。
拉伸可以至少在一方向進行。拉伸方向可以是膜狀物的長邊方向(md方向)、與膜狀物的長邊方向垂直的寬邊方向(td方向)、以及相對于膜狀物的長邊方向傾斜的方向中的任一者。拉伸可以是逐次拉伸，也可以是同時拉伸。
互相垂直的雙軸方向的拉伸倍率優(yōu)選分別最終在md方向為1.0～2.0倍的范圍內(nèi)、在td方向為1.05～2.0倍的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在md方向為1.0～1.5倍的范圍內(nèi)，在td方向為1.05～2.0倍的范圍內(nèi)。例如可舉出對多個輥施加周速差，在其間利用輥周速差在md方向拉伸的方法；以布鋏或針板固定膜狀物的兩端，將布鋏或針板的間隔在行進方向擴展而在md方向拉伸的方法；同樣地在橫向擴展而在td方向拉伸的方法；或同時在md方向和td方向擴展而在兩個方向拉伸的方法等。
拉伸工序中的這些寬度保持或?qū)掃叿较虻睦靸?yōu)選通過拉幅機進行，可以是針板拉幅機也可以是布鋏拉幅機。
拉幅機等的膜輸送張力也取決于溫度，優(yōu)選在120～200n/m的范圍內(nèi)，進一步優(yōu)選在140～200n/m的范圍內(nèi)，最優(yōu)選在140～160n/m的范圍內(nèi)。
將光學膜的玻璃化轉變溫度設為tg時，拉伸時的溫度優(yōu)選在(tg-30)～(tg+100)℃的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在(tg-20)～(tg+80)℃的范圍內(nèi)，進一步優(yōu)選在(tg-5)～(tg+20)℃的范圍內(nèi)。
光學膜的tg可以根據(jù)構成光學膜的材料種類和構成的材料的比率進行控制。光學膜的干燥時的tg優(yōu)選為110℃以上，進一步優(yōu)選為120℃以上，特別優(yōu)選為150℃以上。此外，光學膜的tg優(yōu)選為190℃以下，更優(yōu)選為170℃以下。光學膜的tg可以按照jisk7121中記載的方法等求出。
若將拉伸時的光學膜的溫度設為tg+10℃以上、將拉伸倍率設為1.10倍以上，則可以對光學膜的表面賦予適度的粗糙度，因此為優(yōu)選。通過對光學膜表面賦予適度的粗糙度，滑動性提高，并且表面加工性提高，因此為優(yōu)選。
2-5.卷取工序
卷取工序中，將所得的光學膜以卷取機進行卷取。卷取方法可以采用一般使用的方法，例如，可使用恒定轉矩法、恒定張力法、錐度張力法、內(nèi)部應力恒定的程序張力控制法等。
本發(fā)明的光學膜優(yōu)選為長條狀，具體而言，優(yōu)選長度為100～7000m左右。這種長條狀的光學膜通常能夠以將相對于長度方向垂直的方向作為卷取軸而卷取的卷體的形式提供。光學膜的寬度優(yōu)選為1.3～4m，更優(yōu)選為1.4～2m。通過將光學膜的長度和寬度設為該范圍內(nèi)，功能性層等的涂布中的加工特性、光學膜自身的操作性優(yōu)異。
在卷取前，切割光學膜的端部而裁成成為制品的寬度，為了防止卷取中的貼附、擦傷，也可以對兩端實施壓花加工(壓紋加工)。作為壓花加工的方法，可舉出通過使用在側面具有凹凸圖案的金屬環(huán)對光學膜進行加熱、加壓而進行加工的方法。光學膜兩端部的布鋏的把持部分通常會變形而無法作為制品使用，因此被切除，其切除片作為原料被再利用。
《3.偏振片》
本發(fā)明的偏振片的特征在于，具備起偏器和上述光學膜。
本發(fā)明的偏振片可通過一般的方法制作。例如，優(yōu)選將本發(fā)明的光學膜進行電暈處理，使用完全皂化型聚乙烯醇水溶液，將經(jīng)處理的光學膜貼附于在碘溶液中浸漬拉伸而制作的起偏器的至少一面。此外，起偏器優(yōu)選粘接于本發(fā)明的光學膜的兩面中表面粗糙度ra低的面。
可以在起偏器的另一面貼附上述光學膜、作為市售品的kc8ux、kc4ux、kc4uy、kc8uy、kc6ua、kc4ua、kc4ue、kc4cz、kc8ucr、kc4fr(konicaminolta株式會社制)、arton膜(jsr株式會社制)、zeonorfilm(nipponzeon株式會社制)等。
起偏器是僅使一定方向的極化面的光通過的元件，現(xiàn)在已知的代表性的起偏器是聚乙烯醇系偏振膜。聚乙烯醇系偏振膜有在聚乙烯醇系膜上使碘染色的偏振膜、使二色性染料染色的偏振膜。
聚乙烯醇系偏振膜可以是將聚乙烯醇系膜進行單軸拉伸后，以碘或二色性染料染色而成的膜(優(yōu)選為進一步以硼化合物實施耐久性處理的膜)，也可以是在將聚乙烯醇系膜以碘或二色性染料染色后，進行單軸拉伸而成的膜(優(yōu)選為進一步以硼化合物實施耐久性處理的膜)。起偏器的吸收軸通常與最大拉伸方向平行。
作為起偏器，例如可使用日本特開2003-248123號公報或日本特開2003-342322號公報等中記載的乙烯單元的含量1～4摩爾％、聚合度2000～4000、皂化度99.0～99.99摩爾％的乙烯改性聚乙烯醇。其中，優(yōu)選使用熱水切斷溫度為66～73℃的乙烯改性聚乙烯醇膜。
起偏器的厚度優(yōu)選在5～30μm的范圍內(nèi)，從使偏振片薄型化的觀點等出發(fā)，更優(yōu)選在5～20μm的范圍內(nèi)。
《4.圖像顯示裝置》
本發(fā)明的圖像顯示裝置的特征在于，具備上述光學膜。由此，從可發(fā)揮可視性、不均優(yōu)異的性能的方面為優(yōu)選。作為圖像顯示裝置，可舉出反射型、透射型、半透射型液晶顯示裝置、或tn型、stn型、ocb型、va型、ips型、ecb型等各種驅(qū)動方式的液晶顯示裝置、觸控面板顯示裝置、有機el顯示裝置或等離子顯示裝置等。
此外，本發(fā)明的光學膜例如也可以使用在液晶顯示裝置(由上面?zhèn)绕衿?液晶單元/下面?zhèn)绕衿瑯嫵?的上面?zhèn)绕衿南路绞褂糜|控面板構件的內(nèi)觸控面板(インナータッチパネル)、靜電容量方式的觸控面板等。
實施例
以下，舉出實施例具體地說明本發(fā)明，但本發(fā)明不限定于它們。應予說明，實施例中使用“份”或“％”的表示，只要沒有特別說明則表示“質(zhì)量份”或“質(zhì)量％”。
首先，對本實施例中使用的各種材料進行說明。
(1)環(huán)烯烴樹脂
artong7810：arton-g7810(jsr公司制)，環(huán)烯烴樹脂(由式(a-2)表示的單體與其它單體的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量mw＝140000)
artonr5000：arton-r5000(jsr公司制)，環(huán)烯烴樹脂(由式(a-1)表示的單體與由式(a-2)表示的單體與其它單體的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量mw＝50000)
artonrx4500：arton-rx4500(jsr公司制)，環(huán)烯烴樹脂(由式(a-1)表示的單體與由式(a-2)表示的單體與其它單體的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量mw＝63000)
artonrh4900：arton-rh4900(jsr公司制)，環(huán)烯烴樹脂(由式(a-1)表示的單體與由式(a-2)表示的單體與其它單體的共聚物(上述(5)的聚合物)，重均分子量mw＝57000)
(2)微粒
(2-1)含有硅化合物的微粒
r812：以三甲基甲硅烷基進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑7nm
r816：以丙烯酸基進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
r106：以八甲基環(huán)四甲硅烷基進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑7nm
r972v：以二甲基甲硅烷基進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
200v：二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
300v：二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑7nm
ry300：以二甲基有機硅離子進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
ra200hs：以三甲基甲硅烷基和氨基進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
r711：以甲基丙烯酰氧基硅烷進行表面修飾的二氧化硅微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑12nm
mox170：二氧化硅/氧化鋁微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑13nm
(2-2)其它微粒
alu130：氧化鋁微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑20nm
tio2p90：二氧化鈦微粒(日本aerosil公司制)，平均一次粒徑20nm
kratonrp6935：苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(kratonpolymerjapan株式會社制)，平均一次粒徑18nm
(3)表面調(diào)節(jié)劑
(3-1)有機硅材料
gl-01：丙烯酸改性有機硅(共榮社化學公司制)，重均分子量mw＝5200
gl-03：丙烯酸改性有機硅(共榮社化學公司制)，重均分子量mw＝4100
gl-04r：丙烯酸改性有機硅(共榮社化學公司制)，重均分子量mw＝4700
sag005：聚醚改性有機硅(日信化學工業(yè)社制，silfacesag005)，重均分子量mw＝2800
sag008：聚醚改性有機硅(日信化學工業(yè)社制，silfacesag008)，重均分子量mw＝7900
(3-2)氟系材料
lebron：四氟乙烯樹脂(daikin公司制)，重均分子量mw＝2000
(3-3)乙烯基系材料
p-410ef：乙烯基聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量mw＝4500
(3-4)丙烯酸系材料
lf-1984：丙烯酸聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量mw＝3000
230：丙烯酸聚合物(楠本化成公司制)，重均分子量mw＝3500
《光學膜101的制作》
(二氧化硅分散稀釋液的制備)
將10質(zhì)量份的aerosilr812和80質(zhì)量份的乙醇以溶解器攪拌混合30分鐘后，以mantongaulin(均質(zhì)機)進行分散，制備二氧化硅分散液。一邊攪拌一邊在制備的二氧化硅分散液中投入80質(zhì)量份的二氯甲烷，以溶解器攪拌混合30分鐘后，以微粒分散稀釋液過濾器(advantechtoyo株式會社：polypropylenewindcartridgefiltertcw-pps-1n)進行過濾而制備二氧化硅分散稀釋液。
(涂料的制備)
將以上成分投入密閉容器，一邊加熱、攪拌一邊使其完全溶解，使用安積濾紙株式會社制的安積濾紙no.24進行過濾，制備涂料。
接著，使用帶澆注制膜裝置均勻地澆注至不銹鋼帶支撐體上。在不銹鋼帶支撐體上使溶劑蒸發(fā)至殘留溶劑量為80質(zhì)量％為止，從不銹鋼帶支撐體上剝離。將所得的料片保持在35℃而進一步蒸發(fā)溶劑，切割成1.15m寬度，在160℃的干燥溫度下使其干燥。其后，一邊以多個輥使其在130℃的干燥裝置內(nèi)輸送一邊干燥15分鐘后，切割成1.0m寬度，對膜兩端實施寬度10mm、高度5μm的滾花加工，卷取為卷芯，得到光學膜101。光學膜101的厚度為20μm，卷長為5000m。另外，由不銹鋼帶支撐體的轉速和拉幅機的運行速度算出的md方向的拉伸倍率為1.01倍。
《光學膜102～109的制作》
在上述光學膜101的制作中，將表面調(diào)節(jié)劑變更為如表1所述，除此以外，同樣地制作光學膜102～109。
《光學膜110～116的制作》
在上述光學膜102的制作中，以最終得到的膜的微粒和表面調(diào)節(jié)劑的含量成為如表1所述的方式變更微粒和表面調(diào)節(jié)劑的添加量，除此以外，同樣地制作光學膜110～116。
《光學膜117～128的制作》
在上述光學膜102的制作中，將微粒變更為如表2所述，除此以外，同樣地制作光學膜117～128。
《光學膜129～131的制作》
在上述光學膜102的制作中，將環(huán)烯烴樹脂變更為如表2所述，除此以外，同樣地制作光學膜129～131。
《光學膜132的制作(比較例)》
在上述光學膜102的制作中，以最終得到的膜的微粒和表面調(diào)節(jié)劑的含量為如表2所述的方式變更微粒和表面調(diào)節(jié)劑的添加量，除此以外，同樣地制作光學膜132。
《光學膜133的制作(比較例)》
在上述光學膜101的制作中，在制備涂料時不添加表面調(diào)節(jié)劑，除此以外，同樣地制作光學膜133。
《光學膜134的制作(比較例)》
在上述光學膜101的制作中，在制備涂料時不添加微粒和表面調(diào)節(jié)劑，除此以外，同樣地制作光學膜134。
《光學膜135的制作(比較例)》
以將保護膜從市售的nipponzeon公司制的zeonorfilmzf14剝離·除去而成的膜為光學膜135。
《光學膜101～135的物性測定和評價》
對制作的光學膜101～135進行以下的物性測定和評價。將測定結果和評價結果示于表1和表2。
(表面粗糙度ra的測定)
將制作的各光學膜的兩面的算術表面粗糙度ra的值按照jisb0601在23℃·55％rh的條件下以光學干涉式表面粗糙度計rst/plus(wyko公司制)進行測定。
此時，在各光學膜的兩面中，將在制作光學膜時與空氣界面接觸的面作為a面，將在制作光學膜時與不銹鋼帶支撐體接觸的面作為b面。
(霧度值的評價)
將制作的各光學膜切成3.0cm×3.0cm的尺寸而制成試驗片。將該試驗片按照jisk7136在23℃·55％rh的條件下以霧度計ndh-2000(日本電色工業(yè)株式會社制)測定霧度值，基于以下基準進行評價。
○：霧度值小于2.0。
△：霧度值為2.0以上且小于5.0。
×：霧度值為5.0以上。
【表1】
【表2】
《圖像顯示裝置的制作201》
(起偏器的制作)
將厚度120μm的聚乙烯醇膜在膜的長邊方向進行單軸拉伸(溫度110℃，拉伸倍率5倍)。將其浸漬于由碘0.075g、碘化鉀5g、水100g構成的水溶液中60秒，接下來，浸漬于由碘化鉀6g、硼酸7.5g、水100g構成的68℃的水溶液中。將其進行水洗、干燥而得到厚度20μm的起偏器。起偏器的吸收軸與其長邊方向平行。
(第1偏振片(可視側偏振片)的制作)
接下來，按照下述工序1～4，在上述制作的起偏器的一面貼合上述制作的光學膜102，在另一面貼合konicaminolta公司制的kc4ua(起偏器保護膜)而制作偏振片。
工序1：對制作的光學膜102的b面進行電暈放電，實施電暈處理。另外，將konicaminolta公司制kc4ua(起偏器保護膜)在60℃的2摩爾/l的氫氧化鈉溶液中浸漬90秒后，進行水洗和干燥而將與起偏器貼合的一側的面皂化。
工序2：將起偏器在固體成分2質(zhì)量％的聚乙烯醇粘接劑槽中浸漬1～2秒。接下來，輕輕拭去附著于起偏器的過量的粘接劑后，配置于在工序1中實施了電暈處理的光學膜102的b面上。
工序3：將光學膜102和起偏器、以及在工序1中進行了皂化處理的起偏器保護膜在壓力20～30n/cm2、輸送速度約為2m/分鐘下貼合，得到層疊體。
工序4：使在工序3中得到的層疊體在80℃的干燥機中干燥2分鐘干燥，得到具有kc4ua(起偏器保護膜)/起偏器/光學膜102的層疊結構的第1偏振片。
(第2偏振片(背光側偏振片)的制作)
與第1偏振片的制作同樣地制作具有光學膜102/起偏器/kc4ua(起偏器保護膜)的層疊結構的第2偏振片。
(圖像顯示裝置的制作)
準備ips方式的xperiaz2d6502(sony株式會社制)作為便攜用液晶顯示裝置。從該裝置剝離2片偏振片，介由粘接劑在液晶單元的可視側的面貼附上述制作的第1偏振片，在背光側的面貼附上述制作的第2偏振片而制作圖像顯示裝置1。
第1偏振片的貼附是以kc4ua成為可視側的方式進行。此外，第2偏振片的貼附是以kc4ua成為背光側的方式進行。
《圖像顯示裝置202～216的制作》
在上述液晶顯示裝置201的制作中如表3中記載的那樣變更光學膜102，除此以外，同樣地制作圖像顯示裝置202～216。
《圖像顯示裝置217的制作》
在上述液晶顯示裝置201的制作中使用保護膜被剝離·除去之前的狀態(tài)的光學膜135(表3中表示為“135(有pf)”)代替光學膜102，除此以外，同樣地制作圖像顯示裝置217。
《圖像顯示裝置201～217的評價》
對制作的圖像顯示裝置201～217進行以下評價。將評價結果示于表3。
(輸送時的表面凹凸不平的評價)
在制作上述第1偏振片時，剛與起偏器貼合前的輸送中以目視確認光學膜，按照以下基準進行評價。
○：完全無法觀察到表面凹凸不平。
△：在膜端確認表面凹凸不平。
×：在膜整體確認表面凹凸不平。
(輸送時的起皺的評價)
在制作上述第1偏振片時，在剛與起偏器貼合前的輸送中以目視確認光學膜，按照以下基準進行評價。
○：完全無法觀察到起皺。
△：在膜端確認起皺。
×：在膜整體確認起皺。
(缺陷轉印的評價)
以下述方式對保護膜起因的缺陷轉印進行評價。
即，將上述制作的第1偏振片切成1m2尺寸而制成試驗片，在將該試驗片朝向光源的狀態(tài)下，以目視測定點狀的亮點的個數(shù)，按照以下基準進行評價。將測定的點狀的亮點作為從保護膜轉印的缺陷。
○：缺陷的個數(shù)小于1個/m2
×：缺陷的個數(shù)為1個/m2以上
(漏光的評價)
在23℃、55％rh的環(huán)境下，將上述制作的圖像顯示裝置201～217的背光燈連續(xù)點燈1周后，測定在從該圖像顯示裝置的顯示畫面的法線方向傾斜60°的方向的對比度(60°對比度)。具體而言，分別測定使用eldim公司制的ez-contrast160d使圖像顯示裝置白顯示時的60°方向的亮度以及使其黑顯示時的60°方向的亮度，求出它們的比(60°對比度＝在60°方向的白顯示時的亮度/在60°方向的黑顯示時的亮度)。將來自正面的對比度作為100時，基于以下基準評價60°對比度。
○：60°對比度為90以上且小于100。
△：60°對比度為80以上且小于90。
×：60°對比度小于80。
【表3】
圖像顯示裝置201～208、212、213中，所用的光學膜的a面和b面的表面粗糙度ra為適當?shù)姆秶?，且具有良好的滑動性，因此不會產(chǎn)生表面凹凸不平和起皺。此外，在制作第1和第2偏振片時未使用保護膜，因此也不會產(chǎn)生缺陷轉印。
此外，光學膜的b面的ra值與a面相比非常小，光學膜與起偏器充分粘接，因此不會產(chǎn)生漏光。
在圖像顯示裝置209中，所用的光學膜的a面和b面的表面粗糙度ra非常高，因此滑動性良好，不會產(chǎn)生表面凹凸不平和起皺，但b面的表面粗糙度ra不在優(yōu)選范圍，因此在光學膜與起偏器的粘接界面產(chǎn)生間隙，產(chǎn)生輕微漏光。
在圖像顯示裝置210、211中，所用的光學膜的b面的表面粗糙度ra不充分，因此在光學膜輸送中產(chǎn)生輕微表面凹凸不平和起皺，但未達到實際損害的水平。此外，未確認漏光。
在圖像顯示裝置214中，所用的光學膜的a面和b面為充分的表面粗糙度ra，因此滑動性高，不會產(chǎn)生表面凹凸不平和起皺，但在光學膜與起偏器的粘接界面產(chǎn)生間隙，產(chǎn)生明顯的漏光。
在圖像顯示裝置215、216中，使用的光學膜的a面和b面的表面粗糙度ra不充分，因此在光學膜輸送中產(chǎn)生明顯的表面凹凸不平和起皺。因此，無法進行圖像顯示裝置215、216的漏光的評價。
此外，在圖像顯示裝置217中使用貼合有保護膜的光學膜，確認了明顯的轉印缺陷。因此，可觀測到來自該缺陷的漏光。