本發(fā)明涉及液晶面板的生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種雙面ITO薄膜的光刻方法。

背景技術(shù)：

摻錫的氧化錮(Indium Tin Oxide，ITO)薄膜作為一種用半導(dǎo)體材料制備而成的透明導(dǎo)電薄膜，具有高電導(dǎo)率、高可見(jiàn)光透過(guò)率(大于90％)、抗擦傷等眾多優(yōu)良的物理性能，以及良好的化學(xué)穩(wěn)定性和一些其他的半導(dǎo)體特性，容易制備成電極圖形，己經(jīng)被廣泛地應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、固態(tài)平板顯示器件(包括LCD,OLED,FED,PDP)等許多方面。在這些應(yīng)用中，需要將ITO制成特定的圖形來(lái)充當(dāng)觸摸屏透明電極。

本發(fā)明人在實(shí)施本發(fā)明時(shí)發(fā)現(xiàn)，在傳統(tǒng)的觸摸屏的雙面ITO薄膜(ITO FILM)的光刻工藝中，在將ITO FILM的第一面(F面)朝上貼附于玻璃基板上通過(guò)預(yù)定圖形工藝蝕刻成圖形產(chǎn)品后，在進(jìn)行第二面(B面)ITO FILM光刻圖形時(shí)需要將其從玻璃基板上取下，再次將ITO FILM的B面朝上貼附于玻璃基板上，這時(shí)需要考慮ITO FILM的F面的對(duì)位Mark如何和曝光機(jī)上的B面掩膜版(MASK)的對(duì)位Mark保持一致，由于ITO FILM的B面涂布了感光膠，無(wú)論是低端無(wú)CCD對(duì)位功能的曝光機(jī)還是高端全自動(dòng)對(duì)位的曝光機(jī)均無(wú)法正常對(duì)位生產(chǎn)，CCD無(wú)法精確捕捉不到ITO FILM的F面的對(duì)位Mark，從而導(dǎo)致ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置偏差較大，因此曝光精度不高，從而影響產(chǎn)品品質(zhì)及降低生產(chǎn)效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種雙面ITO薄膜的光刻方法，能有效解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置偏差較大的問(wèn)題，既可以保證產(chǎn)品品質(zhì)，又可以提高生產(chǎn)效率。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種雙面ITO薄膜的光刻方法，包括步驟：

提供第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板，利用裝有F面掩膜版和B面掩膜版的的曝光機(jī)分別對(duì)所述第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板進(jìn)行曝光，從而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃圖形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃圖形；

提供一雙面ITO薄膜片材，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的第一面的中心與所述F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊；

在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到F面ITO圖形；

將得到F面ITO圖形的所述雙面ITO薄膜片材從所述玻璃基板上取下，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊；

在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到B面ITO圖形。

作為上述方案的改進(jìn)，所述粘貼層為雙面膠、水溶性膠黏層或紫外線膠水層。

作為上述方案的改進(jìn)，所述粘貼層為四個(gè)，且均勻分布。

作為上述方案的改進(jìn)，在還包括步驟：

在將所述雙面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上前，在所述雙面ITO薄膜片材的第二面上涂布感光膠；或/和

得到F面ITO圖形后，在所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形上涂布感光膠。

作為上述方案的改進(jìn)，還包括步驟：

在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠前，先將固定在所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材進(jìn)行電阻結(jié)晶處理后進(jìn)行前清洗；或/和

在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠前，先將固定在所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材進(jìn)行電阻結(jié)晶處理后進(jìn)行前清洗。

作為上述方案的改進(jìn)，所述粘貼層采用耐150度高溫、耐酸、耐堿的材料構(gòu)成；所述電阻結(jié)晶處理的條件為150度恒溫90分鐘。

作為上述方案的改進(jìn)，還包括步驟：在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠后，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光前，將所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化；或/和

在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠后，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光前，將所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化。

作為上述方案的改進(jìn)，還包括步驟：

將所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化前，利用風(fēng)槍將所述第一ITO玻璃基板和雙面ITO薄膜片材之間的水汽吹干；或/和

將所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化前，利用風(fēng)槍將所述第二ITO玻璃基板和雙面ITO薄膜片材之間的水汽吹干。

作為上述方案的改進(jìn)，所述前清洗采用中性AJC類清洗劑。

作為上述方案的改進(jìn)，在CCD下通過(guò)人工對(duì)位貼合將所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開的雙面ITO薄膜的光刻方法通過(guò)預(yù)先利用裝有F面掩膜版和B面掩膜版的的曝光機(jī)分別對(duì)第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板進(jìn)行曝光，從而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃圖形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃圖形，先利用所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃圖對(duì)待光刻的雙面ITO薄膜片材進(jìn)行第一面(F面)的光刻，即：通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的第一面的中心與所述F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊；在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到F面ITO圖形；然后將得到F面ITO圖形的所述雙面ITO薄膜片材從所述玻璃基板上取下，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊；在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到B面ITO圖形。因此，本發(fā)明通過(guò)將曝光機(jī)上的F面掩膜版和B面掩膜版的對(duì)位Mark分別轉(zhuǎn)化為第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark來(lái)解決實(shí)現(xiàn)形成雙面ITO薄膜片材上F面ITO圖形和B面ITO圖形的對(duì)位問(wèn)題，從而在ITO FILM的B面涂布了感光膠導(dǎo)致CCD無(wú)法精確捕捉不到ITO FILM的F面的對(duì)位Mark的情況下，依然能夠保證ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置偏差小于0.2mm，從而提高曝光精度。實(shí)施本發(fā)明既可以保證產(chǎn)品品質(zhì)，又可以提高生產(chǎn)效率。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例中一種雙面ITO薄膜的光刻方法的流程步驟示意圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例中一種雙面ITO薄膜的光刻方法的步驟S1中的流程走向示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

參見(jiàn)圖1，圖1是本發(fā)明實(shí)施例中一種雙面ITO薄膜的光刻方法的流程步驟示意圖。本實(shí)施例提供的一種雙面ITO薄膜的光刻方法包括步驟S1～S5：

S1、提供第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板，利用裝有F面掩膜版和B面掩膜版的的曝光機(jī)分別對(duì)所述第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板進(jìn)行曝光，從而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃圖形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃圖形。

其中，結(jié)合圖2所示，第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板具有相對(duì)的兩個(gè)表面，其中一個(gè)表面用于形成ITO玻璃圖形，相對(duì)的另一個(gè)表面用于放置在曝光機(jī)的曝光工作臺(tái)上。第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板均為ITO材料構(gòu)成。另外，第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板可以為透明基板，也可為不透明基板。第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板的厚度小于等于1.1毫米，以便于安裝在曝光機(jī)的曝光工作臺(tái)上。

在該步驟中，主要是為了將曝光機(jī)上的F面掩膜版和B面掩膜版的對(duì)位Mark分別轉(zhuǎn)化為第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark，這樣就可以利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark來(lái)解決后續(xù)的在雙面ITO薄膜片材上形成F面ITO圖形和B面ITO圖形的對(duì)位問(wèn)題。

S2、提供一雙面ITO薄膜片材，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的第一面的中心與所述F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊。

在該步驟中，粘貼層設(shè)于第一ITO玻璃基板的表面上。粘貼層可以為紙狀粘結(jié)物，也可為涂覆在第一ITO玻璃基板上的可固化膠水。需要說(shuō)明的是，粘貼層可以為雙面膠、水溶性膠黏層或紫外線膠水層。粘貼層優(yōu)選為小尺寸的多個(gè)，例如四個(gè)，均勻分布在第一ITO玻璃基板的表面上(例如四個(gè)角)。

在該步驟中，將待曝光的雙面ITO薄膜片材通過(guò)粘貼層粘附于第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖形上，并使所述雙面ITO薄膜片材的第一面(F面)的中心與所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊。

例如，當(dāng)粘貼層為雙面膠時(shí)，可將先將雙面膠粘附在雙面ITO薄膜片材的第二面(B面)上，再將雙面ITO薄膜片材粘貼在第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃圖形上，或者，先將雙面膠粘貼在第一ITO玻璃基板上，再將雙面ITO薄膜片材粘貼在第一ITO玻璃基板上。當(dāng)粘貼層為水溶性膠黏層或紫外線膠水層時(shí)，可先將水溶性膠水或紫外線膠水涂覆在第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖形上，然后將雙面ITO薄膜片材貼附在第一ITO玻璃基板上并固化水溶性膠水或紫外線膠水。

可以理解的，在將所述雙面ITO薄膜片材以第一面(F面)朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上前，在所述雙面ITO薄膜片材的第二面(B面)上涂布感光膠以起保護(hù)作用。

S3、在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到F面ITO圖形。

由于所述雙面ITO薄膜片材通過(guò)粘貼層粘附于第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖形上，且所述雙面ITO薄膜片材的第一面的中心與所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊，因此，通過(guò)裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面(F面)進(jìn)行曝光時(shí)，能夠保證曝光機(jī)上的F面掩膜版的對(duì)位Mark與所述雙面ITO薄膜片材的第一面(F面)上形成的F面ITO圖形的對(duì)位Mark一致。

優(yōu)選的，在該步驟中，在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠前，先將固定在所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材進(jìn)行電阻結(jié)晶處理后進(jìn)行前清洗。并在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠后，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光前，將所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化。其中，本實(shí)施例的所述粘貼層采用耐150度高溫、耐酸、耐堿的材料構(gòu)成。所述電阻結(jié)晶處理的條件為150度恒溫90分鐘。在進(jìn)行前清洗時(shí)，由于ITO FILM的ITO膜很軟，表面不能用無(wú)塵布擦拭，不能用毛刷刷洗，否則ITO膜面會(huì)嚴(yán)重刮花。前清洗清洗劑選擇為中性AJC類洗劑，否則ITO阻值會(huì)變大。

另外，所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材經(jīng)前清洗洗工序后，不可以直接送入箱式爐子焗爐，利用風(fēng)槍將所述第一ITO玻璃基板和雙面ITO薄膜片材之間的水汽吹干后才能將所述第一ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化，否則ITO FILM在焗干后，F(xiàn)ILM會(huì)變形。

優(yōu)選的，得到F面ITO圖形后，在所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形上涂布感光膠以起保護(hù)作用

S4、將得到F面ITO圖形的所述雙面ITO薄膜片材從所述玻璃基板上取下，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊。

具體實(shí)施時(shí)，需要先將曝光后的雙面ITO薄膜片材與第一ITO玻璃基板分離。當(dāng)粘貼層為雙面膠時(shí)，可直接撕開雙面膠，使雙面ITO薄膜片材與第一ITO玻璃基板分離。當(dāng)粘貼層為水溶性膠黏層時(shí)，將第一ITO玻璃基板放置于水中時(shí)，粘貼層溶解于水中，使曝光后雙面ITO薄膜片材與第一ITO玻璃基板分離。當(dāng)粘貼層為紫外線膠水層時(shí)，采用紫外光照射第一ITO玻璃基板，粘貼層溶解，使曝光后的雙面ITO薄膜片材與第一ITO玻璃基板分離。

然后，將所述雙面ITO薄膜片材翻轉(zhuǎn)，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第二面(B面)朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上。其中，粘貼層可以為紙狀粘結(jié)物，也可為涂覆在第二ITO玻璃基板上的可固化膠水。需要說(shuō)明的是，粘貼層可以為雙面膠、水溶性膠黏層或紫外線膠水層。粘貼層優(yōu)選為小尺寸的多個(gè)，例如四個(gè)，均勻分布在第一ITO玻璃基板的表面上(例如四個(gè)角)。

例如，當(dāng)粘貼層為雙面膠時(shí)，可將先將雙面膠粘附在雙面ITO薄膜片材的第一面(F面)上，再將雙面ITO薄膜片材粘貼在第二ITO玻璃基板上形成的B面ITO玻璃圖形上，或者，先將雙面膠粘貼在第二ITO玻璃基板上，再將雙面ITO薄膜片材粘貼在第二ITO玻璃基板上。當(dāng)粘貼層為水溶性膠黏層或紫外線膠水層時(shí)，可先將水溶性膠水或紫外線膠水涂覆在第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖形上，然后將雙面ITO薄膜片材貼附在第二ITO玻璃基板上并固化水溶性膠水或紫外線膠水。

優(yōu)選的，在CCD下通過(guò)人工對(duì)位貼合將所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊。從而在ITO FILM的B面涂布了感光膠導(dǎo)致CCD無(wú)法精確捕捉不到ITO FILM的F面的對(duì)位Mark的情況下，也能夠保證曝光機(jī)的B面掩膜版的對(duì)位Mark能夠與雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊。

S5、在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到B面ITO圖形。

由于將所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊，因此，通過(guò)裝有B面掩膜版的的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面(B面)進(jìn)行曝光時(shí)，能夠保證曝光機(jī)的B面掩膜版的對(duì)位Mark能夠與雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊，從而能夠保證ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置對(duì)齊。經(jīng)多次試驗(yàn)得到，通過(guò)實(shí)施本發(fā)明，能夠保證ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置偏差小于0.2mm。

優(yōu)選的，在該步驟中，在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠前，先將固定在所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材進(jìn)行電阻結(jié)晶處理后進(jìn)行前清洗。以及在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠后，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光前，將所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化。其中，本實(shí)施例的所述粘貼層采用耐150度高溫、耐酸、耐堿的材料構(gòu)成。所述電阻結(jié)晶處理的條件為150度恒溫90分鐘。在進(jìn)行前清洗時(shí)，由于ITO FILM的ITO膜很軟，表面不能用無(wú)塵布擦拭，不能用毛刷刷洗，否則ITO膜面會(huì)嚴(yán)重刮花。前清洗清洗劑選擇為中性AJC類洗劑，否則ITO阻值會(huì)變大。

另外，所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材經(jīng)前清洗洗工序后，不可以直接送入箱式爐子焗爐，利用風(fēng)槍將所述第二ITO玻璃基板和雙面ITO薄膜片材之間的水汽吹干后才能將所述第二ITO玻璃基板上的所述雙面ITO薄膜片材送入箱式焗爐對(duì)感光膠進(jìn)行固化，否則ITO FILM在焗干后，F(xiàn)ILM會(huì)變形。

綜上，本發(fā)明公開的雙面ITO薄膜的光刻方法通過(guò)預(yù)先利用裝有F面掩膜版和B面掩膜版的的曝光機(jī)分別對(duì)第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板進(jìn)行曝光，從而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃圖形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃圖形，先利用所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃圖對(duì)待光刻的雙面ITO薄膜片材進(jìn)行第一面(F面)的光刻，即：通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的第一面的中心與所述F面ITO玻璃圖形的中心對(duì)齊；在所述雙面ITO薄膜片材的第一面涂上感光膠，采用裝有F面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第一面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到F面ITO圖形；然后將得到F面ITO圖形的所述雙面ITO薄膜片材從所述玻璃基板上取下，通過(guò)若干粘貼層將所述雙面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述雙面ITO薄膜片材的F面ITO圖形的對(duì)位Mark與所述B面ITO玻璃圖形的對(duì)位Mark對(duì)齊；在所述雙面ITO薄膜片材的第二面涂上感光膠，采用裝有B面掩膜版的曝光機(jī)對(duì)所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行曝光，并對(duì)曝光完成后的所述雙面ITO薄膜片材的第二面進(jìn)行顯影、蝕刻后，得到B面ITO圖形。因此，本發(fā)明通過(guò)將曝光機(jī)上的F面掩膜版和B面掩膜版的對(duì)位Mark分別轉(zhuǎn)化為第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃圖的對(duì)位Mark來(lái)解決實(shí)現(xiàn)形成雙面ITO薄膜片材上F面ITO圖形和B面ITO圖形的對(duì)位問(wèn)題，從而在ITO FILM的B面涂布了感光膠導(dǎo)致CCD無(wú)法精確捕捉不到ITO FILM的F面的對(duì)位Mark的情況下，依然能夠保證ITO FILM的F面、B面這兩面的ITO FILM光刻圖形mark的位置偏差小于0.2mm，從而提高曝光精度。實(shí)施本發(fā)明既可以保證產(chǎn)品品質(zhì)，又可以提高生產(chǎn)效率。

需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。