本發(fā)明涉及液晶顯示器技術領域，尤其涉及一種光罩及清潔裝置。

背景技術：

在薄膜晶體管液晶顯示器的黃光曝光制程中，目前采用光罩對電路圖形進行定義，若光罩上有異物，可能造成曝光時異物區(qū)域光路無法通過，出現(xiàn)圖形異常。目前，光罩使用過程中，在上下機臺后需要人員手動使用風槍，對光罩表面進行吹拭，以達到對光罩表面異物清潔的目的。

但是人員手動使用風槍吹風，效率低下，單次清潔需要10分鐘以上。人員使用風槍對光罩進行清潔，需要嚴格控制風槍吹風大小及吹風角度，若吹風強度大將可能導致光罩表面膜層吹破，造成光罩報廢。

技術實現(xiàn)要素：

針對上述問題中存在的不足之處，本發(fā)明提供一種光罩及清潔裝置。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種光罩，包括：

石英玻璃板、透明導電膜、半透明膜和金屬框；其中，

在所述石英玻璃板的下面設有所述金屬框，所述半透明膜設置在所述金屬框的下端，在所述石英玻璃板的上面和所述半透明膜的下面均設有所述透明導電膜。

上述的光罩，在所述石英玻璃板與所述金屬框之間設有遮光膜。

上述的光罩，所述遮光膜與所述金屬框通過黏著劑連接。

上述的光罩，所述遮光膜為多塊間隔設置。

上述的光罩，在兩側的所述遮光膜邊緣處設有夾持部。

一種清潔裝置，包括：帶有正極電極的上清潔板和下清潔板用于清潔所述光罩表面異物，所述上清潔板和所述下清潔板尺寸相同。

上述的清潔裝置，所述上清潔板和所述下清潔板對稱設置，所述上清潔板和所述下清潔板之間距離為10毫米，所述上清潔板和所述下清潔板為金屬材質。

上述的清潔裝置，還包括絕緣夾具用于夾持所述光罩。

上述的清潔裝置，還包括導電針用于對所述透明導電膜導電。

上述的清潔裝置，還包括設置在所述上清潔板一側或所述下清潔板一側的去離子裝置用于去除所述光罩表面殘留靜電。

在上述技術方案中，本發(fā)明提供的光罩和清潔裝置，與現(xiàn)有技術相比，通過在光罩表面設置透明導電膜，對透明導電膜通電，使得掉落在光罩上的異物帶電；再通過光罩清潔裝置，通過相反電性的上清潔板和下清潔板吸附異物，達到對光罩表面異物潔凈方便快捷的效果。

附圖說明

在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細的描述。

圖1為本申請的一個實施例中光罩的結構示意圖。

圖2為本申請的一個實施例中光罩的準備清潔前狀態(tài)圖。

圖3為本申請的一個實施例中清潔裝置的結構示意圖。

圖4為本申請的一個實施例中清潔裝置對光罩進行清潔的狀態(tài)圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發(fā)明作進一步說明。

如圖1所示，示意性地顯示了該光罩1，包括：石英玻璃板12、透明導電膜11、半透明膜15和金屬框16；其中，

在石英玻璃板12的下面設有金屬框16，半透明膜15設置在金屬框16的下端，在石英玻璃板12的上面和半透明膜15的下面均設有透明導電膜11。

通過在光罩1表面設置透明導電膜11，對透明導電膜11通電，使得掉落在光罩1上的異物20帶電，并通過清潔裝置將異物清除，清除異物效果好，不會產生遺漏。避免造成曝光時異物區(qū)域光路無法通過，出現(xiàn)圖形異常的問題。

特別是，在該光罩表面沉積一層透明導電膜11，透明導電膜11為ITO或有機材料等，通過PVD、CVD、涂膠設備等進行成膜，透明導電膜11厚度可根據實際工藝設計為

在一個優(yōu)選的實施例中，還包括設置在石英玻璃板11下面的遮光膜13，遮光膜13為多塊間隔設置。遮光膜13的作用使光源能通過遮光膜13均勻顯示，使光照射的強度在控制范圍之內。使用遮光膜13是用來調節(jié)和優(yōu)化電子顯示器中光達到致密和均勻，遮光膜13的功能不止是讓顯示光線達到致密和均勻而已。因為使用不同的材質制作所以不同材質的遮光膜13功能也是大同小異。遮光膜13具有導熱、緩沖、背光、防水、耐摩擦等功能和特點。

在一個優(yōu)選的實施例中，遮光膜13與金屬框14通過黏著劑連接，使用粘著劑粘結效果好，不易脫離。

在一個優(yōu)選的實施例中，在兩側的遮光膜13邊緣處設有絕緣夾具40夾持部16。便于夾持，操作方便。

如圖2和圖3所示，一種清潔裝置，帶有正極電極的上清潔板51和下清潔板52，上清潔板51和下清潔板52尺寸相同。光罩清潔裝置，通過相反電性的上清潔板51和下清潔板52吸附光罩1上的異物20，達到對光罩1表面異物20潔凈方便快捷的效果。

在一個優(yōu)選的實施例中，上清潔板51和下清潔板52對稱設置，可同時對光罩1兩面進行清潔。

在一個優(yōu)選的實施例中，上清潔板51和下清潔板52之間距離為10毫米。光罩1位于上清潔板51和下清潔板52之間避免與其接觸，可更好的將光罩1表面異物20清除。上清潔板51和下清潔板52為金屬材質，通電效果好，硬度高不會輕易損壞。

在一個優(yōu)選的實施例中，清潔裝置還包括設置在上清潔板51一側或下清潔板52一側的去離子裝置53，可消除光罩1表面殘留靜電。

在一個優(yōu)選的實施例中，下清潔板52安裝在絕緣架體上，用于將下清潔板52固定避免移位。上清潔板51安裝在另一個絕緣架體上，將上清潔板51固定，該絕緣架體底部安裝有升降裝置用于將上清潔板51升起降落，控制與光罩1之間的距離。光罩1與上清潔板51、下清潔板52之間的距離為1-5mm，優(yōu)選2-3mm，可更好的對光罩1清潔。

在一個優(yōu)選的實施例中，清潔裝置還包括設置在上清潔板51一側的供電裝置，用于對上清潔板51和下清潔板52供電。

在一個優(yōu)選的實施例中，清潔裝置還包括設置絕緣夾具40，將光罩1夾住并運送到上清潔板51和下清潔板52之間。

在一個優(yōu)選的實施例中，清潔裝置還包括導電針30，用于對光罩1上的透明導電膜11導電使用。

具體使用時：首先將光罩1放置在清潔裝置的夾具40上，要求清潔裝置承載及運送光罩1的夾具40與光罩1接觸部位為硬質絕緣材料設計，避免對光罩1表面進行放電。夾持部位16設置在光罩1邊緣處對光罩1使用不造成影響區(qū)域，如圖3。

然后使用導電針30接觸光罩1上下表面透明導電膜11對光罩1正反面進行瞬間通電，電壓-50V～-100V即可，通電時間1s以內，使光罩1表面異物20帶電。將通電后的光罩1運送至上清潔板51和下清潔板52之間如圖4所示。清潔裝置還包括對光罩1上下表面進行通電的導電裝置，此導電裝置與導電針30連接，接觸通電時間可以根據實際需求進行調整。

清潔裝置的上清潔板51和下清潔板52帶電極性相反，且要求光罩1表面通電的電壓應小于上清潔板51和下清潔板52的電壓。優(yōu)選的光罩1表面通電的電壓-50V～-100V，上清潔板51和下清潔板52的電壓+150～+200V。且上清潔板51和下清潔板52與光罩1表面的間隔設計為1～5mm內，使得上清潔板51和下清潔板52更有效的對光罩1表面異物20進行吸附清潔，清潔時間可根據實際需求在1～10s以內，通過調整清潔裝置上夾具40的移動速度，進行清潔時間的調整。

清潔完成后，通過夾具40將光罩1運出，同時去離子裝置53對光罩1表面靜電進行清除，避免光罩1表面因帶電吸附空氣中微粒影響清潔效果。其中靜電清除可使用去離子風或X射線(X-ray)方式清除，實際使用中，可以將清潔裝置安裝于曝光機內光罩1必經過且不影響曝光機使用的路徑上，提高光罩1清潔效率?？商嵘庹?清潔效率，單片光罩1清潔，可控制在2分鐘內，且降低光罩1報廢風險。

雖然已經參考優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了描述，但在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其進行各種改進并且可以用等效物替換其中的部件。尤其是，只要不存在結構沖突，各個實施例中所提到的各項技術特征均可以任意方式組合起來。本發(fā)明并不局限于文中公開的特定實施例，而是包括落入權利要求的范圍內的所有技術方案。