技術(shù)總結(jié)
本公開提供了一種母模的制造方法，包括：提供基底；在所述基底上形成母模襯底層；在所述母模襯底層上形成適用于X射線曝光的掩膜層；和從所述掩膜層遠(yuǎn)離所述基底一側(cè)對(duì)所述母模襯底層進(jìn)行X射線曝光，其中，在所述X射線曝光過程中，X射線的照射方向與所述母模襯底層成預(yù)定傾斜角度。本公開還提供了一種母模。

技術(shù)研發(fā)人員：曲連杰;王飛;齊永蓮;趙合彬
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
文檔號(hào)碼：201710171849
技術(shù)研發(fā)日：2017.03.21
技術(shù)公布日：2017.06.13