本發(fā)明涉及一種euv投射光刻的照明光學(xué)單元，用于將照明光引導(dǎo)向物場(chǎng)，其中光刻掩模為可布置的。此外，本發(fā)明涉及一種包括這樣的照明光學(xué)單元的照明系統(tǒng)，涉及一種包括這樣的照明系統(tǒng)的投射曝光設(shè)備，涉及一種借助于這樣的投射曝光設(shè)備制造微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件(尤其是半導(dǎo)體芯片)的方法，并且涉及一種由此方法制造的微結(jié)構(gòu)化納米結(jié)構(gòu)化部件。

背景技術(shù)：

一開始提出的類型的照明光學(xué)單元從wo2010/037453a1和us2010/0231880a1已知。wo2013/139635a1已經(jīng)公開了一種照明光學(xué)單元，其中第一分面不具有單片實(shí)施例，而是實(shí)施為彼此分隔的單獨(dú)的反射鏡的組。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

照明的目標(biāo)是使經(jīng)由照明光學(xué)單元的不同照明通道引導(dǎo)的照明光在照明場(chǎng)中以盡可能少的損耗重疊(superpose)。本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種照明光學(xué)單元，其提供照明的最優(yōu)化，并且尤其是經(jīng)由不同照明通道引導(dǎo)的照明光在照明場(chǎng)中的最優(yōu)化的重疊。

根據(jù)本發(fā)明，通過euv投射光刻的照明光學(xué)單元實(shí)現(xiàn)此目標(biāo)。所述照明光學(xué)單元用于將照明光從光源沿著照明光光束路徑引導(dǎo)到物場(chǎng)，其中要成像的物體為可布置的，所述照明光學(xué)單元包含：第一分面反射鏡，所述第一分面反射鏡包括多個(gè)第一單片分面，所述多個(gè)第一單片分面用于所述照明光的光束的部分光束的反射引導(dǎo)；第二分面反射鏡，所述第二分面反射鏡設(shè)置在所述照明光光束路徑中所述第一分面反射鏡的下游，且包括多個(gè)第二分面，所述多個(gè)第二分面用于由所述第一分面反射的所述部分光束的反射引導(dǎo)，使得通過反射光束引導(dǎo)分配的所述第一分面和所述第二分面中的至少一些來預(yù)定物場(chǎng)照明通道，通過所述物場(chǎng)照明通道，所述整個(gè)物場(chǎng)在每個(gè)情況下由所述照明光可照明，其中在每個(gè)情況下將恰好一個(gè)第一分面和恰好一個(gè)第二分面分配給所述物場(chǎng)照明通道；其中所述第一分面實(shí)施為將為所述光源或下游中間焦點(diǎn)的光源物成像至設(shè)置在所述第二分面上的一定數(shù)目的光源像，所述數(shù)目對(duì)應(yīng)于物場(chǎng)照明通道的數(shù)目，其中對(duì)于至少一些物場(chǎng)照明通道適用的是，分配給各自的物場(chǎng)照明通道的光源像含有：第一光源部分像，所述第一光源部分像由分配給所述各自的物場(chǎng)照明通道的所述第一分面的第一分面部分產(chǎn)生，以及至少一個(gè)第二光源部分像，所述至少一個(gè)第二光源部分像由分配給所述各自的物場(chǎng)照明通道的所述第一分面的第二分面部分產(chǎn)生，其中所述第一分面部分和所述第二分面部分彼此不重疊，其中所述至少兩個(gè)光源部分像的中心彼此之間的距離大于所述兩個(gè)光源部分像的平均1/e²直徑。

根據(jù)本發(fā)明，認(rèn)為將物場(chǎng)照明通道中的一個(gè)的各自的第二分面上設(shè)置的光源像細(xì)分為不重疊且由相關(guān)的第一分面的非重疊部分產(chǎn)生的多個(gè)光源部分像提供補(bǔ)償光學(xué)像差的選項(xiàng)。因?yàn)槲飯?chǎng)照明通道的不同幾何布置，尤其因?yàn)槲飯?chǎng)照明通道的不同空間布置，可能造成這樣的光學(xué)像差。各自的物場(chǎng)照明通道關(guān)于光源成像散開在第二分面上，因而此物場(chǎng)照明通道的不同區(qū)域可能受第二分面的不同部分處的反射的不同影響。

光源部分像的布置和距離條件可以應(yīng)用于全部物場(chǎng)照明通道中的至少10％。此條件可以應(yīng)用于物場(chǎng)照明通道中的至少20％、至少30％、至少40％、至少50％或甚至更大比例。

可以通過第一分面的不同分面部分的形式方面的適當(dāng)設(shè)計(jì)，執(zhí)行將第二分面上的各自的光源像細(xì)分為多個(gè)光源部分像，借此，在第二分面上產(chǎn)生不同光源部分像。各自的整個(gè)第一分面的形式可能偏離圓錐截面(conicsection)，并且例如可以由扭曲橢圓(twistedellipsoid)近似地描述。也可能近似為扭曲環(huán)面。

對(duì)于所選的第一分面部分，由此產(chǎn)生的光源部分像彼此之間的距離可能為兩個(gè)光源部分像的平均直徑的兩倍。各自的光源部分像的直徑為照明光的強(qiáng)度降至在光源部分像的中心處的最大強(qiáng)度的比例1/e²處的半徑的兩倍。第一分面反射鏡的分面不離散地細(xì)分為彼此分隔的分面部分。第一分面的部分為第一分面的在其區(qū)域的邊界處連續(xù)地合并至其余第一分面的區(qū)域。此距離/直徑比可以大于二，可以大于三，可以大于四，且甚至可以更大。

由于物場(chǎng)照明通道的不同幾何引導(dǎo)，由所述第一分面中的一個(gè)的非重疊分面部分產(chǎn)生且彼此之間的距離大于其平均直徑的多于兩個(gè)光源部分像增加校正光學(xué)像差的自由度。

對(duì)應(yīng)的陳述適用于沿著所述第二分面上的彎曲路徑布置的多于兩個(gè)光源部分像的布置。

當(dāng)設(shè)計(jì)實(shí)施為將相關(guān)的物場(chǎng)照明通道的第一分面成像至物場(chǎng)的第二分面時(shí)，照明光學(xué)單元的優(yōu)點(diǎn)尤其起良好作用。特別地，借助于將光源像細(xì)分為光瞳分面上的光源部分像，可以校正或補(bǔ)償?shù)谝环置娴轿飯?chǎng)的成像的不期望的扭曲。

第二分面中的至少一些適用以下：所述第二分面的曲率在所述第二分面的范圍上變化至少10％，上述曲率變化便于校正甚至相對(duì)大的成像偏差或?qū)⒐庠聪裼心康牡胤譃楸舜朔指舻墓庠床糠窒?。在此，曲率是匹配到第二分面的?duì)應(yīng)反射表面部分的球形表面部分的曲率半徑的倒數(shù)。此曲率條件可以適用于第二分面反射鏡的第二分面的至少10％、至少20％、至少30％、至少40％、至少50％或甚至更大的比例。第二分面的曲率可以在第二分面的范圍之上變化至少15％、至少20％或至少25％。

對(duì)應(yīng)的陳述適用于以下曲率條件：第二分面中的至少一些適用以下：為了將相關(guān)的物場(chǎng)照明通道的第一分面的中點(diǎn)成像至物場(chǎng)的中點(diǎn)或要成像至物場(chǎng)的物場(chǎng)原始像的中點(diǎn)，第二分面的平均曲率從標(biāo)稱曲率ρ0偏離至少10％。

曲率偏差可以為至少12.5％、至少15％、至少17.5％或至少20％。

如果此成像直接由各自的第二分面執(zhí)行，即，在沒有其他下游成像部件的情況下，則實(shí)現(xiàn)了變體“成像到物場(chǎng)的中點(diǎn)中”。當(dāng)通過相關(guān)的第二分面將第一分面的中點(diǎn)成像至物場(chǎng)原始像且物場(chǎng)原始像通過后續(xù)的成像部件作為實(shí)像或虛像成像到物場(chǎng)中點(diǎn)中時(shí)，實(shí)現(xiàn)了變體“成像到物場(chǎng)原始像中”。

作為第一分面反射鏡的場(chǎng)分面反射鏡已經(jīng)在euv投射光刻的照明光學(xué)單元中證明其價(jià)值。

在第一分面可傾斜，用于預(yù)定各種物場(chǎng)照明通道的情況下，由于光源部分像的細(xì)分促進(jìn)的光學(xué)像差校正尤其良好地進(jìn)行。

作為第二分面反射鏡的光瞳分面反射鏡已經(jīng)在euv投射光刻的照明光學(xué)單元中證明其價(jià)值。

一種照明系統(tǒng)，包括上述任一所述的照明光學(xué)單元和將物場(chǎng)成像至像場(chǎng)的投射光學(xué)單元。一種投射曝光設(shè)備，包括：上述照明系統(tǒng)；euv光源；在物場(chǎng)中保持物體的物體保持器，所述物體保持器為通過物體位移驅(qū)動(dòng)器沿著位移方向可位移的；以及在像場(chǎng)中保持晶片的晶片保持器，所述晶片保持器為通過晶片位移驅(qū)動(dòng)器沿著位移方向可位移的。一種投射曝光的方法，包括以下步驟：提供上述投射曝光設(shè)備；提供晶片；提供光刻掩模；借助于所述投射曝光設(shè)備的投射光學(xué)單元，將所述光刻掩模的至少一部分投射到所述晶片的光敏層的區(qū)域上。一種由上述方法制造的微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件。上述照明系統(tǒng)，上述投射曝光設(shè)備，上述制造方法以及上述微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件的優(yōu)點(diǎn)對(duì)應(yīng)于上面已經(jīng)參考根據(jù)本發(fā)明的照明光學(xué)單元解釋的那些。能夠以高結(jié)構(gòu)分辨率制造上述微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件。

以此方式，可以例如制造具有高集成度或存儲(chǔ)密度的半導(dǎo)體芯片。

附圖說明

基于附圖在下面更詳細(xì)解釋了本發(fā)明的示例性實(shí)施例。在附圖中：

圖1示意性地示出了穿過euv投射光刻的投射曝光設(shè)備的子午截面；

圖2非常示意性地示出了中間焦平面與物平面之間的投射曝光設(shè)備的可替代的照明光學(xué)單元的光束路徑；

圖3非常示意性地示出了根據(jù)圖1或圖2的投射曝光設(shè)備的照明光學(xué)單元的第一分面反射鏡的第一分面，此照明光學(xué)單元的三個(gè)第二分面和通過照明光學(xué)單元照明的物場(chǎng)，其中對(duì)于第一分面的三個(gè)不同傾斜位置，且因此對(duì)于具有第一分面與物場(chǎng)之間的分別分配的第二分面的三個(gè)對(duì)應(yīng)選擇的物場(chǎng)照明通道，圖示了從第一分面上的三個(gè)所選位置行進(jìn)的光束路徑。

具體實(shí)施方式

圖1在子午截面中示意性地示出了微光刻的投射曝光設(shè)備1。投射曝光設(shè)備1包括光源或輻照源2。投射曝光設(shè)備1的照明系統(tǒng)3具有用于曝光與物平面6中的物場(chǎng)5重合的照明場(chǎng)的照明光學(xué)單元4。照明場(chǎng)也可以大于物場(chǎng)5。在此情況下，曝光設(shè)置在物場(chǎng)5中的掩模母版7形式的物體，通過物體或掩模母版保持器8固定所述掩模母版。掩模母版7也稱為光刻掩模。通過物體位移驅(qū)動(dòng)器9，物體保持器8沿著位移方向?yàn)榭晌灰频?。投射光學(xué)單元10用于將物場(chǎng)5成像至像平面12中的像場(chǎng)11中。掩模母版7上的結(jié)構(gòu)成像到設(shè)置在像平面12中的像場(chǎng)11的區(qū)域中的晶片13的光敏層上。通過晶片保持器14(同樣未示出)固定晶片13。通過晶片位移驅(qū)動(dòng)器15以與物體保持器8同步的方式，晶片保持器14同樣沿著位移方向?yàn)榭晌灰频摹?/p>

輻照源2為具有在5nm至30nm之間的范圍中的發(fā)射的使用輻射的euv輻照源。這可以為等離子體源，例如gdpp(氣體放電產(chǎn)生的等離子體)源或lpp(激光產(chǎn)生的等離子體)源?；谕郊铀倨骰蜃杂呻娮蛹す馄?fel)的輻射源也可以用于輻射源2。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠從例如us6,859,515b2找到關(guān)于這樣的輻射源的信息。從輻射源2發(fā)出的euv輻射16通過集光器(collector)17聚焦。對(duì)應(yīng)的集光器從ep1225481a已知。在集光器17的下游，euv輻射16在入射在場(chǎng)分面反射鏡19上之前傳播穿過中間焦平面18。場(chǎng)分面反射鏡19是照明光學(xué)單元4的第一分面反射鏡。場(chǎng)分面反射鏡19包括多個(gè)場(chǎng)分面20(見圖2)，其未在圖1中示出。場(chǎng)分面20實(shí)施為單片分面。從而，場(chǎng)分面20中的每一個(gè)的反射表面是完整的，尤其不細(xì)分為多個(gè)單獨(dú)的小反射鏡。

場(chǎng)分面反射鏡19設(shè)置在照明光學(xué)單元4的關(guān)于物平面6光學(xué)共軛的平面中。

euv輻射16在后文中也稱為照明光或成像光。

在場(chǎng)分面反射鏡19的下游，通過光瞳分面反射鏡21反射euv輻射16。光瞳分面反射鏡21為照明光學(xué)單元4的第二分面反射鏡。光瞳分面反射鏡21設(shè)置在照明光學(xué)單元4的關(guān)于中間焦平面18和關(guān)于投射光學(xué)單元10的光瞳平面光學(xué)共軛或與所述光瞳平面重合的光瞳平面中。光瞳分面反射鏡21包括多個(gè)光瞳分面22(見圖2)，其未在圖1中示出。借助于光瞳分面反射鏡21的光瞳分面和其下游的成像光學(xué)組件，將場(chǎng)分面反射鏡19的場(chǎng)分面20成像到物場(chǎng)5中，成像光學(xué)組件的形式為具有按光束路徑的順序由24、25以及26指代的反射鏡的傳輸光學(xué)單元23。傳輸光學(xué)單元23的最后的反射鏡26為掠入射反射鏡(grazingincidencemirror)。部件24至26用于將由各自的光瞳分面22產(chǎn)生的物場(chǎng)原始虛像成像至物場(chǎng)中。

為了簡(jiǎn)化位置關(guān)系的描述，附圖繪制了笛卡爾xyz坐標(biāo)系統(tǒng)作為用于物平面6與像平面12之間的投射曝光設(shè)備1的各部件的位置關(guān)系的描述的全局坐標(biāo)系統(tǒng)。在圖1中，x軸垂直于附圖的平面行進(jìn)并進(jìn)入其中。在圖1中，y軸朝右且平行于物體保持器8和晶片保持器14的的位移方向行進(jìn)。在圖1中，z軸朝下行進(jìn)，即垂直于物平面6且垂直于像平面12。

物場(chǎng)5或像場(chǎng)11之上的x尺寸也指定為場(chǎng)高度。

圖2示出了當(dāng)使用照明光學(xué)單元27時(shí)，中間焦平面18與像平面5之間的照明光16的可替代的引導(dǎo)，照明光學(xué)單元27為照明光學(xué)單元4的替代，且可以用于投射曝光設(shè)備1中。非常示意性地圖示的是中間像平面18與物平面6之間的照明光3的光束路徑。對(duì)應(yīng)于照明光學(xué)單元4的那些部件的照明光學(xué)單元27的部件以相同附圖標(biāo)記指代，且不再詳細(xì)討論。與照明光學(xué)單元4中不同，光瞳分面反射鏡21是照明光學(xué)單元27中的傳輸光學(xué)單元23的僅有部件。

也就是說，照明光學(xué)單元27的光瞳分面反射鏡21的光瞳分面22將場(chǎng)分面反射鏡19的場(chǎng)分面直接(即，在沒有插設(shè)的物場(chǎng)原始像的情況下)以彼此重疊的方式成像至物場(chǎng)5中。在照明光學(xué)單元27的情況下，光瞳分面反射鏡21直接設(shè)置在后面的投射光學(xué)單元10的光瞳平面中。

在場(chǎng)分面反射鏡19處的反射的情況下，由于多個(gè)場(chǎng)分面20處的反射，照明光16的總光束分為對(duì)應(yīng)的多個(gè)照明光部分光束。通過場(chǎng)分面20和通過反射光束引導(dǎo)分別分配的光瞳分面22預(yù)定物場(chǎng)照明通道28(見圖3)。經(jīng)由所述照明通道28，在每種情況下整個(gè)物場(chǎng)5是由照明光16可照明的。恰好一個(gè)場(chǎng)分面20和恰好一個(gè)光瞳分面22分配給物場(chǎng)照明通道28中的每一個(gè)。

借助于圖3中示意性指示的傾斜驅(qū)動(dòng)器29，場(chǎng)分面20中的每一個(gè)在各傾斜位置之間可重定位。這些傾斜位置不同，取決于照明光學(xué)單元4、27的實(shí)施例。這可以涉及兩個(gè)、三個(gè)、四個(gè)、五個(gè)或甚至更大數(shù)目的場(chǎng)分面20的傾斜位置。場(chǎng)分面反射鏡19的場(chǎng)分面20也可以重定位到不同數(shù)目的傾斜位置。最終，場(chǎng)分面20中的至少一些可能是不可傾斜的。場(chǎng)分面反射鏡19的具有不可傾斜場(chǎng)分面20的區(qū)域可以總體上具有單片實(shí)施例。

圖3非常示意性地示出了對(duì)于場(chǎng)分面20中的一個(gè)的總共三個(gè)傾斜位置的照明光的選擇的單獨(dú)光線16i的引導(dǎo)，其在圖3的左側(cè)圖示。恰好一個(gè)物場(chǎng)照明通道28¹、28²、28³與恰好一個(gè)分配的光瞳分面22¹、22²、22³屬于這些三個(gè)傾斜位置中的每一個(gè)。

場(chǎng)分面20可以具有矩形或彎曲的實(shí)施例。光瞳分面22可以具有圓形、正方形、矩形或六邊形實(shí)施例。場(chǎng)分面20和光瞳分面22兩者都圖示在圖3的平面圖中，未考慮場(chǎng)分面20的不同傾斜位置。

物場(chǎng)5圖示在圖3的右側(cè)。三個(gè)光瞳分面22¹至22³圖示在場(chǎng)分面20與物場(chǎng)5之間。三個(gè)光瞳分面22¹至22³與首先場(chǎng)分面20和其次物場(chǎng)5之間的距離在圖3中不是真實(shí)比例且大大縮小。

此外，圖3圖示了對(duì)于各物場(chǎng)照明通道28¹至28³的光瞳分面22¹至22³與物場(chǎng)5之間的各單獨(dú)光線16i的光束路徑的延續(xù)。

場(chǎng)分面20與物場(chǎng)5之間的單獨(dú)光線16i的引導(dǎo)的示意性圖示中假定照明光學(xué)單元27類型的照明光學(xué)單元，其中光瞳分面22將各自的場(chǎng)分面20直接成像到物場(chǎng)5中。在可替代的照明光學(xué)單元4中，仍將存在光束引導(dǎo)，光束引導(dǎo)經(jīng)由各光瞳分面22ⁱ與物場(chǎng)5之間的單獨(dú)光線16i的光束路徑中的傳輸光學(xué)單元23的其他反射鏡。

場(chǎng)分面20用于成像光源物體，在圖示的實(shí)施例中，將中間焦平面18(見圖1)中的中間焦點(diǎn)30成像為分別設(shè)置在光瞳分面22ⁱ上的一定數(shù)目的光源像31ⁱ，所述光源像的數(shù)目對(duì)應(yīng)于物場(chǎng)照明通道28ⁱ的數(shù)目。如從圖3可以看出的，分配給各自的物場(chǎng)照明通道28ⁱ的光源像31ⁱ細(xì)分為不同光源部分像在圖3中由虛線圖像輪廓指示各光瞳分面22ⁱ上的各自的總光源像31ⁱ，其中內(nèi)接(inscribe)光源部分像

在圖3中通過照明光的選擇的單獨(dú)光線16闡述了光源像31ⁱ至光源部分像的該細(xì)分，所述光線發(fā)源于場(chǎng)分面20的三個(gè)不同的、彼此間隔的場(chǎng)分面部分a1、a2以及a3。在下面用場(chǎng)分面部分a1、a2以及a3來解釋光源像31ⁱ的細(xì)分。來源于場(chǎng)分面部分a1、a2以及a3的照明光光束路徑，所述照明光光束路徑分別滿足特定成像條件，其將在下面解釋。在圖示中隨機(jī)選擇各自的場(chǎng)分面部分ai的部分邊界，并且連續(xù)地合并到其余場(chǎng)分面20中。

關(guān)于x坐標(biāo)，第一場(chǎng)分面部分a1設(shè)置在場(chǎng)分面20的左手邊三分之一中。關(guān)于x坐標(biāo)，第二場(chǎng)分面部分a2設(shè)置在場(chǎng)分面20的中間三分之一中。關(guān)于x坐標(biāo)，第三場(chǎng)分面部分a3設(shè)置在場(chǎng)分面20的右手邊三分之一中。三個(gè)場(chǎng)分面部分a1、a2以及a3彼此不重疊。

取決于場(chǎng)分面20的傾斜位置，來源于第一場(chǎng)分面部分a1的單獨(dú)光線16將光源部分像b1ⁱ投射在各自的光瞳分面22ⁱ上。對(duì)應(yīng)的陳述適用于來源于第二場(chǎng)分面部分a2和第三場(chǎng)分面部分a3且投射光源部分像b2ⁱ和b3ⁱ的單獨(dú)光線16。在每種情況下，光源部分像在各自的光瞳分面22ⁱ上彼此不重疊。從而，相鄰光源部分像之間的距離大于光源部分像的平均直徑。

如圖3所示，對(duì)于由傾斜位置分配給恰好一個(gè)場(chǎng)分面20的各種光瞳分面22ⁱ，光源部分像在光瞳分面22ⁱ上的布置可以不同。

在圖3中的上光瞳分面221上，由場(chǎng)分面20的第一傾斜位置中的三個(gè)場(chǎng)分面部分a1、a2以及a3的撞擊產(chǎn)生的光源部分像b¹1、b¹2以及b¹3直接位于彼此之下，即，具有充分近似的相同x坐標(biāo)。在中央光瞳分面222上，在場(chǎng)分面20的第二傾斜位置中產(chǎn)生的對(duì)應(yīng)的三個(gè)光源部分像b²1、b²2以及b²3沿著斜向串狀分布。在較低的光瞳分面22³上，在場(chǎng)分面20的第三傾斜位置中產(chǎn)生的三個(gè)光源部分像b³1、b³2、b³3沿著近似c形路徑串狀分布。

物場(chǎng)5中的場(chǎng)分面部分ai的像部分ci位于物場(chǎng)5中對(duì)應(yīng)于場(chǎng)分面20上的場(chǎng)分面部分ai的布置的位置處。特別地，就其尺寸和位置而言，像部分ci與場(chǎng)分面反射鏡20的選擇的傾斜位置無關(guān)。在此，在每種情況下關(guān)于x坐標(biāo)(即，場(chǎng)高度)，像部分c1位于物場(chǎng)5的左手邊三分之一中，像部分c2位于物場(chǎng)5的中央三分之一中，并且像部分c3位于物場(chǎng)5的右手邊三分之一中。

通?？梢赃m用的是，各自的光瞳分面22ⁱ上的光源部分像可以沿著彎曲路徑布置。

為使得光瞳分面22ⁱ確保經(jīng)由光源部分像的各自的撞擊區(qū)域?qū)⒎置娌糠謅j成像到像部分cj上，光瞳分面22ⁱ具有曲率，曲率在各自的光瞳分面22ⁱ的反射表面的x范圍上和/或y范圍上變化至少10％。

為使得從各場(chǎng)分面部分aj將單獨(dú)光線16引導(dǎo)到各光源部分像上，場(chǎng)分面20的反射表面具有可近似描述為扭曲橢圓的形狀，其相應(yīng)地偏離圓錐截面，尤其偏離橢圓表面。在場(chǎng)分面20的反射表面的可替代的實(shí)施例中，這些可以近似描述為扭曲環(huán)面。在本文中，扭曲(扭曲橢圓/扭曲環(huán)面)理解為各自的三維形狀關(guān)于軸的局部扭曲，此局部扭曲的幅度取決于沿扭曲軸的位置，尤其以近似線性的方式。

為了將相關(guān)的物場(chǎng)照明通道28ⁱ的場(chǎng)分面20的中點(diǎn)(即，中央分面部分a2)成像至物場(chǎng)的中點(diǎn)(即，中央像部分c2)(在照明光學(xué)單元4的情況下，成像至要成像到物場(chǎng)5中的物場(chǎng)原始像的中點(diǎn))，對(duì)于光瞳分面22ⁱ適用的是，光瞳分面22ⁱ的平均曲率與標(biāo)稱曲率ρ0偏差至少10％。

以下適用于此標(biāo)稱曲率ρ0：

ρ0＝1/2[1/a+1/b]

在此，a是中央分面部分a2與光瞳分面22之間的距離，且b是光瞳分面22與物場(chǎng)5的中央部分c2之間的距離。

上面結(jié)合圖3解釋的成像條件不一定適用于全部場(chǎng)分面20，并且也不一定適用于全部光瞳分面22。

由于將光源像31ⁱ細(xì)分為光源部分像產(chǎn)生光學(xué)像差校正的選項(xiàng)，產(chǎn)生所述選項(xiàng)是因?yàn)檎彰鞴鈱W(xué)單元4或27中的物場(chǎng)照明通道28ⁱ的不同三維范圍。在物場(chǎng)5中產(chǎn)生場(chǎng)分面20的像的精確重疊，上面結(jié)合圖3解釋的成像條件對(duì)于其適用。

在借助于投射曝光設(shè)備1的投射曝光期間，借助于上面解釋的設(shè)定方法初始設(shè)定照明幾何形狀。然后，物場(chǎng)5中的掩模母版7中的至少一部分成像到像場(chǎng)11中的晶片13上的光敏層上的區(qū)域上，用于微結(jié)構(gòu)化或納米結(jié)構(gòu)化部件的光刻法制造，尤其是半導(dǎo)體部件，例如微芯片的光刻法制造。在此情況下，在掃描器操作中，在y方向上連續(xù)地以時(shí)間上同步的方式移動(dòng)掩模母版7和晶片13。