本發(fā)明是關(guān)于一種顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù):
液晶顯示裝置領(lǐng)域中,液晶顯示裝置包含陣列基板,彩色濾光片及配置在其間的液晶層。聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶(Polymer Network Liquid Crystal;PNLC)包含高分子聚合物網(wǎng)絡(luò)以及液晶。液晶分布在聚合物三維網(wǎng)絡(luò)中,形成連續(xù)性的通道網(wǎng)。在不受電場(chǎng)作用下呈現(xiàn)混亂狀況,光學(xué)上呈現(xiàn)散射態(tài)(scattering or hazy type)。而在電場(chǎng)作用時(shí),液晶受上下電場(chǎng)影響而呈現(xiàn)整齊排列,光學(xué)上呈現(xiàn)穿透態(tài)(transparent type)。由于聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶具有廣視角、高反應(yīng)速度以及低驅(qū)動(dòng)電壓等優(yōu)點(diǎn),目前已廣泛地應(yīng)用于顯示器中。
目前,聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶普遍使用紫外線(UV)聚合反應(yīng)來(lái)進(jìn)行單體聚合,然而,液晶面板內(nèi)一般配置了金屬線、彩色濾光膜(color filter)與黑色矩陣(black matrix;BM)等結(jié)構(gòu),這些結(jié)構(gòu)會(huì)遮蔽或吸收紫外光并降低單體聚合反應(yīng),影響聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶的光電特性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為克服前述的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種顯示裝置及其制造方法,降低了在液晶層進(jìn)行聚合反應(yīng)階段,紫外光受到遮蔽的問(wèn)題,同時(shí)增加了整體液晶層聚合反應(yīng)的均勻程度,提高了顯示裝置的光電特性。
本發(fā)明的一實(shí)施例為一種顯示裝置,包含絕緣層、元件層、電極、對(duì)向基板以及液晶層。絕緣層具有接觸洞,其中絕緣層的材料為氧化硅、氮化硅,或氮氧化硅。元件層設(shè)置于絕緣層上,元件層包含至少一電子元件。電極設(shè)置于絕緣層相對(duì)于元件層的表面以及接觸洞內(nèi),其中電極與至少一電子元件電性連接。液晶層位于電極與對(duì)向基板之間。
本發(fā)明的另一實(shí)施例為一種顯示裝置,包含絕緣層、元件層、電極、對(duì)向基板以及液晶層。絕緣層的材料為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇、聚醚、聚丙烯、硫化聚丙烯、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺、聚苯硫醚、聚氧二甲苯、聚砜或聚鄰苯二甲酰胺。元件層設(shè)置于絕緣層上,元件層包含至少一電子元件及設(shè)置于至少一電子元件上的介電層,且介電層具有接觸洞。電極設(shè)置于元件層相對(duì)于該絕緣層的表面以及接觸洞內(nèi),其中電極與至少一電子元件電性連接。液晶層位于電極與對(duì)向基板之間。
本發(fā)明的另一實(shí)施例為一種顯示裝置的制造方法,包含形成元件層于絕緣層上,元件層包含至少一電子元件。于絕緣層上形成接觸洞,其中絕緣層的材料為氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。形成電極于絕緣層相對(duì)于元件層的表面上以及接觸洞內(nèi),電極與至少一電子元件電性連接。形成液晶層于電極與對(duì)向基板之間。
本發(fā)明的又一實(shí)施例為一種顯示裝置的制造方法,包含形成元件層于絕緣層上,元件層包含至少一電子元件及設(shè)置于至少一電子元件上的介電層,其中絕緣層的材料為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇、聚醚、聚丙烯、硫化聚丙烯、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺、聚苯硫醚、聚氧二甲苯、聚砜或聚鄰苯二甲酰胺。于介電層形成接觸洞。形成電極于元件層相對(duì)于絕緣層的表面上以及接觸洞內(nèi),電極與至少一電子元件電性連接。形成液晶層于電極與對(duì)向基板之間。
附圖說(shuō)明
閱讀以下詳細(xì)敘述并搭配對(duì)應(yīng)的圖式,可了解本發(fā)明的多個(gè)態(tài)樣。應(yīng)注意,根據(jù)業(yè)界中的標(biāo)準(zhǔn)做法,多個(gè)特征并非按比例繪制。事實(shí)上,多個(gè)特征的尺寸可任意增加或減少以利于討論的清晰性。
圖1A至圖1I為本發(fā)明的部分實(shí)施例的顯示裝置在不同制造階段的截面圖。
圖2A至圖2I為本發(fā)明的部分實(shí)施例的顯示裝置在不同制造階段的截面圖。
其中,附圖標(biāo)記:
10、20 顯示裝置
100、200 基板
110、210 絕緣層
110a、210a 表面
112、212 接觸洞
120、220 元件層
121、221 電子元件
123、223 介電層
130、142、230、242 電極
140、240、166、266 對(duì)向基板
140a 側(cè)
144、244 間隔物
150、150’、250、250’ 液晶層
160、260 遮光元件
162、262 彩色濾光片
164、264 保護(hù)層
170、270 光處理
180、280 背光模塊
1211、2211 柵極
1213、2213 柵極介電質(zhì)
1215、2215 主動(dòng)區(qū)
1217、2217 漏極
1219、2219 源極
具體實(shí)施方式
以下揭露提供眾多不同的實(shí)施例或范例,用于實(shí)施本案提供的主要內(nèi)容的不同特征。下文描述一特定范例的組件及配置以簡(jiǎn)化本發(fā)明。當(dāng)然,此范例僅為示意性,且并不擬定限制。舉例而言,以下描述“第一特征形成在第二特征的上方或之上”,于實(shí)施例中可包括第一特征與第二特征直接接觸,且亦可包括在第一特征與第二特征之間形成額外特征使得第一特征及第二特征無(wú)直接接觸。此外,本發(fā)明可在各范例中重復(fù)使用元件符號(hào)及/或字母。此重復(fù)的目的在于簡(jiǎn)化及厘清,且其自身并不規(guī)定所討論的各實(shí)施例及/或配置之間的關(guān)系。
此外,空間相對(duì)術(shù)語(yǔ),諸如“下方(beneath)”、“以下(below)”、“下部(lower)”、“上方(above)”、“上部(upper)”等等在本文中用于簡(jiǎn)化描述,以描述如附圖中所圖示的一個(gè)元件或特征結(jié)構(gòu)與另一元件或特征結(jié)構(gòu)的關(guān)系。除了描繪圖示的方位外,空間相對(duì)術(shù)語(yǔ)也包含元件在使用中或操作下的不同方位。此設(shè)備可以其他方式定向(旋轉(zhuǎn)90度或處于其他方位上),而本案中使用的空間相對(duì)描述詞可相應(yīng)地進(jìn)行解釋。
圖1A至圖1I為本發(fā)明的部分實(shí)施例的顯示裝置10在不同制造階段的截面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1A,于基板100上形成絕緣層110。于部分實(shí)施例中,基板100可為玻璃基板或其他適合的材料。絕緣層110可為單層結(jié)構(gòu)或是多層結(jié)構(gòu)。于部分實(shí)施例中,絕緣層110的材料為氧化硅(silicon oxide)、氮化硅(silicon nitride)、氮氧化硅(silicon oxynitride)或其他適合的材料。絕緣層110作為軟性基板,于后續(xù)的制程步驟當(dāng)中將與基板100分離。于部分實(shí)施例中,絕緣層110與基板100之間可形成界面層,藉此在后續(xù)的基板剝離制程中,絕緣層110與基板100可在實(shí)質(zhì)上無(wú)應(yīng)力的狀態(tài)下分離。
請(qǐng)參照?qǐng)D1B,形成元件層120于絕緣層110上。元件層120包含至少一電子元件121。于本實(shí)施例中,電子元件121為薄膜晶體管,包含柵極1211、柵極介電質(zhì)1213、主動(dòng)區(qū)1215、漏極1217以及源極1219。其中電子元件121的形成方法可包含在絕緣層110上形成柵極1211;于柵極1211上形成柵極介電質(zhì)1213;在柵極介電質(zhì)1213上形成主動(dòng)區(qū)1215,主動(dòng)區(qū)1215的材料包含氧化銦鎵鋅(indium gallium zinc oxide;IGZO)、非晶硅、多晶硅、單晶硅或其他適合的半導(dǎo)體材料,主動(dòng)區(qū)1215可為單層或多層;接著,在主動(dòng)區(qū)1215上形成漏極1217以及源極1219。于部分實(shí)施例中,漏極1217以及源極1219為金屬。
于部分實(shí)施例中,元件層120更包含形成于電子元件121上的介電層123。介電層123可為樹(shù)酯材料,如環(huán)氧樹(shù)脂(epoxy resin)、丙烯酸樹(shù)脂(acrylic resin)或類(lèi)似者。介電層123可為有機(jī)材料,如苯并環(huán)丁烯(benzocyclobutene)、聚對(duì)二甲苯(parylene)或類(lèi)似者。介電層123亦可為氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或上述的組合。于部分實(shí)施例中,介電層123可省略。
請(qǐng)參照?qǐng)D1C,配置色層(未標(biāo)號(hào))于介電層123上方,色層包括了遮光元件160以及彩色濾光片162。于部分實(shí)施例中,遮光元件160為黑色矩陣,其材料可為鉻(Cr)或是黑色樹(shù)酯。而彩色濾光片162可包含了紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)的彩色濾光片。遮光元件160對(duì)應(yīng)至電子元件121的位置以在絕緣層110的垂直投影上完全重疊或部分重疊電子元件121,藉此阻擋或吸收散射的光線。在本實(shí)施例中,先形成彩色濾光片162后,再形成遮光元件160于彩色濾光片162上,但不以此為限,在其他變化例中,可先形成遮光元件160后,再形成彩色濾光片162于遮光元件160上。
接下來(lái),選擇性將保護(hù)層164(overcoat layer)形成于遮光元件160以及彩色濾光片162上。保護(hù)層164可為透光的有機(jī)材料或是無(wú)機(jī)材料。保護(hù)層164具有實(shí)質(zhì)上平坦的上表面。接著,配置第一對(duì)向基板166于保護(hù)層164上。于部分實(shí)施例中,第一對(duì)向基板166為玻璃基板,或其他適合的材料。選擇性地,可利用膠合層將第一對(duì)向基板166與色層緊密貼合對(duì)組,但不以此為限。在其他變化例中,亦可先形成遮光元件160于第一對(duì)向基板166上后,再形成彩色濾光片162于遮光元件160上,之后將此具有第一對(duì)向基板166、遮光元件160以及彩色濾光片162的構(gòu)件與圖1B中的結(jié)構(gòu)對(duì)組接合,譬如是利用膠合層使其接合。
請(qǐng)參照?qǐng)D1D,執(zhí)行基板剝離制程,藉此將基板100與絕緣層110分離?;?00剝離之后,曝露出絕緣層110的一表面110a。
請(qǐng)參照?qǐng)D1E,形成接觸洞112。接觸洞112貫穿絕緣層110以及元件層120的電子元件121(如圖1B所示)的柵極介電質(zhì)1213,并暴露出電子元件121的漏極1217。詳細(xì)而言,形成接觸洞112的步驟是先將顯示裝置10(如圖1D的剝離基板100后的顯示裝置10)翻轉(zhuǎn),使得絕緣層110的表面110a朝上。接著,于絕緣層110上形成遮罩層,遮罩層經(jīng)圖案化以形成開(kāi)口,其中開(kāi)口定義接觸洞112的位置。接著,對(duì)絕緣層110以及柵極介電質(zhì)1213執(zhí)行蝕刻制程,藉此形成接觸洞112??墒褂酶晌g刻、濕蝕刻,或其他適合的蝕刻技術(shù)來(lái)形成接觸洞112,此外,可將漏極1217作用為上述絕緣層110以及柵極介電質(zhì)1213的蝕刻制程的蝕刻停止層。
請(qǐng)參照?qǐng)D1F,形成第一電極130于絕緣層110的表面110a以及接觸洞112內(nèi)。第一電極130與元件層120內(nèi)的電子元件121電性連接。詳細(xì)而言,第一電極130是通過(guò)接觸洞112與漏極1217電性連接。從另一角度而言,第一電極130形成于絕緣層110相對(duì)于元件層120的表面110a上。于部分實(shí)施例中,第一電極130可包括金屬氧化物例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋁鋅(AZO)、氧化鋁銦(AIO)、氧化銦(InO)、氧化鎵(gallium oxide;GaO);納米碳管、納米銀顆粒;厚度小于60納米(nm)的金屬或合金、有機(jī)透明導(dǎo)電材料或其它適合的透明導(dǎo)電材料。此外,形成第一電極130的方法類(lèi)似于圖1E,先將圖1E的顯示裝置10翻轉(zhuǎn),使得絕緣層110的曝露的表面110a以及接觸洞112朝上。再藉由適合的沉積技術(shù)(如電子束蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積或物理氣相沉積等適合的技術(shù))形成第一電極130。此外,第一電極130可進(jìn)一步進(jìn)行圖案化以獲得所欲的功能電路。
請(qǐng)參照?qǐng)D1G,配置一第二對(duì)向基板140于第一電極130的對(duì)側(cè)。其中第二對(duì)向基板140上形成有第二電極142。第二電極142的材料可類(lèi)似于第一電極130的材料。此外,可在第二電極142與第一電極130之間配置間隔物144,以在第二對(duì)向基板140(或第二電極142)與第一電極130之間形成間隙G,間隙G用以在后續(xù)步驟中填充液晶材料。
請(qǐng)參照?qǐng)D1H,于間隙G內(nèi)填充液晶材料,藉此在第二對(duì)向基板140(或第二電極142)與第一電極130之間形成液晶層150。于部分實(shí)施例中,液晶層150的材料為混合單體的液晶材料或其他液晶材料。
接著,對(duì)液晶層150執(zhí)行光處理170。于本實(shí)施例中,光處理170例如經(jīng)由對(duì)液晶層150照射紫外光(UV),藉此讓液晶層150的單體進(jìn)行聚合反應(yīng)以形成液晶層150’(如圖1I),液晶層150’的材料為聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶、聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶(Polymer Network Liquid Crystal)、聚合物分散型液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal)或膽固醇液晶(Cholesteric Liquid Crystal)等等,此步驟舉例為光聚合導(dǎo)致相分離(Photopolymerization induced phase separation)。詳細(xì)而言,光處理170是由第二對(duì)向基板140遠(yuǎn)離第一電極130的一側(cè)140a對(duì)液晶層150執(zhí)行。換句話說(shuō),紫外光乃是通過(guò)第二對(duì)向基板140以及第二電極142對(duì)液晶層150中的單體進(jìn)行聚合反應(yīng)。
本實(shí)施例中,液晶層150與元件層120及遮光元件160分別配置于絕緣層110的相對(duì)兩側(cè)。因此,在單體的聚合反應(yīng)期間,紫外光可直接地通過(guò)第二對(duì)向基板140以及第二電極142對(duì)液晶層150中的單體進(jìn)行聚合反應(yīng),而不會(huì)受到元件層120中電子元件121的金屬配線、彩色濾光片162或遮光元件160的影響(如:紫外光受到遮蔽或是被吸收)。此外,將液晶層150配置于絕緣層110的另一側(cè)使得第一電極130與第二電極142提供大體上平坦的表面,讓液晶材料可均勻地分布于液晶層150內(nèi)。通過(guò)此配置,液晶層150’具有更好的光電特性。
參照?qǐng)D1I,配置背光模塊180。于本實(shí)施例中,背光模塊180配置于液晶層150’相對(duì)于遮光元件160(或彩色濾光片162)的一側(cè)。因此,背光模塊180、液晶層150、元件層120以及彩色濾光片162(或遮光元件160)于圖1I中是由下而上依序排列的。換句話說(shuō),光線先經(jīng)由背光模塊180提供后,經(jīng)由液晶層150’,再通過(guò)彩色濾光片162(或遮光元件160)射出。具體而言,光線先經(jīng)過(guò)液晶層150,再經(jīng)過(guò)彩色濾光片162會(huì)具有較佳的色彩以及光學(xué)表現(xiàn)。于部分實(shí)施例中,背光模塊180可為直下式背光模塊或側(cè)光式背光模塊。
圖2A至圖2I為本發(fā)明的部分實(shí)施例的顯示裝置20在不同制造階段的截面圖。請(qǐng)參照?qǐng)D2A,于基板200上形成絕緣層210。于部分實(shí)施例中,基板200可為玻璃基板或其他適合的材料。絕緣層210的材料舉例為聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate;PET)、聚萘二甲酸乙二醇(polyethylene naphthalate;PEN)、聚醚(polyethersulfone;PES)、聚丙烯(polypropylene)、硫化聚丙烯(polypropylene sulfide)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚醚酰亞胺(polyetherimide;PEI)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide;PPS)、聚氧二甲苯(polyphenylene oxide;PPO)、聚砜(polysulfone)或聚鄰苯二甲酰胺(polyphthalamide;PPA)。絕緣層210作為軟性基板,于后續(xù)的制程步驟當(dāng)中將與基板200分離。于部分實(shí)施例中,絕緣層210與基板200之間可形成有界面層,藉此在后續(xù)的基板剝離制程中,基板200可在實(shí)質(zhì)上無(wú)應(yīng)力的狀態(tài)下剝離。
請(qǐng)參照?qǐng)D2B,形成元件層220于基板200及絕緣層210上。元件層220包含至少一電子元件221。于本實(shí)施例中,電子元件221為薄膜晶體管,包含柵極2211、柵極介電質(zhì)2213、主動(dòng)區(qū)2215、漏極2217以及源極2219。其中電子元件221的形成方法可包含在絕緣層210上形成柵極2211。于柵極2211上形成柵極介電質(zhì)2213;在柵極介電質(zhì)2213上形成主動(dòng)區(qū)2215,主動(dòng)區(qū)2215的材料包含氧化銦鎵鋅、非晶硅、多晶硅、單晶硅或其他適合的半導(dǎo)體材料。主動(dòng)區(qū)2215可為單層或多層;接著,在主動(dòng)區(qū)2215上形成漏極2217以及源極2219。于部分實(shí)施例中,漏極2217以及源極2219為金屬。
于部分實(shí)施例中,元件層220更包含形成于電子元件221上的介電層223。介電層223可為樹(shù)酯材料,如環(huán)氧樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂或類(lèi)似者。介電層223可為有機(jī)材料,如苯并環(huán)丁烯、聚對(duì)二甲苯或類(lèi)似者。介電層223亦可為絕緣材料,如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或上述的組合。于部分實(shí)施例中,介電層223可省略。
請(qǐng)參照?qǐng)D2C,形成接觸洞212。接觸洞212貫穿介電層223,并暴露出漏極2217。詳細(xì)而言,形成接觸洞212的步驟包含先于介電層223上形成遮罩層(未繪示),遮罩層經(jīng)圖案化以形成開(kāi)口,其中開(kāi)口定義接觸洞212的位置。接著,執(zhí)行蝕刻制程以去除部分的介電層223,藉此形成接觸洞212。上述蝕刻制程包含干蝕刻、濕蝕刻或其他適合的蝕刻技術(shù)來(lái)形成接觸洞212。此外,可將漏極2217特征作用為介電層223的蝕刻停止層。
請(qǐng)參照?qǐng)D2D,形成第一電極230于介電層223的表面以及接觸洞212內(nèi)。第一電極230實(shí)質(zhì)上與元件層220內(nèi)的電子元件221電性連接。詳細(xì)而言,第一電極230通過(guò)接觸洞212與漏極2217電性連接。從另一角度而言,第一電極230形成于元件層220的介電層223相對(duì)于絕緣層210的表面。于部分實(shí)施例中,第一電極230可包括金屬氧化物例如氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化鋁鋅、氧化鋁銦、氧化銦、氧化鎵;納米碳管、納米銀顆粒;厚度小于60納米(nm)的金屬或合金、有機(jī)透明導(dǎo)電材料或其它適合的透明導(dǎo)電材料。可藉由適合的沉積技術(shù)(如電子束蒸發(fā)、化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等適合的技術(shù))形成第一電極230。此外,第一電極230可進(jìn)一步進(jìn)行圖案化以獲得所欲的功能電路。
請(qǐng)參照?qǐng)D2E,配置第一對(duì)向基板240于第一電極230的對(duì)側(cè)。其中第一對(duì)向基板240上形成有第二電極242。第二電極242的材料可類(lèi)似于第一電極230的材料。此外,可在第二電極242與第一電極230之間配置間隔物244,以在第一對(duì)向基板240(或第二電極242)與第一電極230之間形成間隙G,間隙G用以在后續(xù)步驟中填充液晶材料。
請(qǐng)參照?qǐng)D2F,于間隙G內(nèi)填充液晶材料,藉此在第一對(duì)向基板240(或第二電極242)與第一電極230之間形成液晶層250。于部分實(shí)施例中,液晶層250的材料為混合單體的液晶材料或其他液晶材料。
接著,對(duì)液晶層250執(zhí)行光處理270。于本實(shí)施例中,光處理270例如經(jīng)由對(duì)液晶層250照射紫外光(UV),藉此讓液晶層250的單體進(jìn)行聚合反應(yīng)以形成液晶層250’(如圖2G),液晶層250’的材料為聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶、聚合物分散型液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal)或膽固醇液晶(Cholesteric Liquid Crystal),此步驟舉例為光聚合導(dǎo)致相分離(Photopolymerization induced phase separation)。詳細(xì)而言,光處理270是由第一對(duì)向基板240遠(yuǎn)離第一電極230的一側(cè)對(duì)液晶層250執(zhí)行。換句話說(shuō),紫外光乃是通過(guò)第一對(duì)向基板240以及第二電極242對(duì)液晶層250中的單體進(jìn)行聚合反應(yīng)。
請(qǐng)參照?qǐng)D2G,執(zhí)行基板剝離制程,藉此將基板200與絕緣層210分離?;?00剝離之后,絕緣層210的一表面210a曝露。
請(qǐng)參照第2H圖,配置色層(未標(biāo)號(hào))于絕緣層210下方使得絕緣層210位于色層以及元件層220之間,色層包括遮光元件260以及彩色濾光片262。于部分實(shí)施例中,遮光元件260為黑色矩陣,其材料可為鉻或是黑色樹(shù)酯。而彩色濾光片262可包含紅、綠、藍(lán)的彩色濾光片。遮光元件260對(duì)應(yīng)至電子元件221的位置以在絕緣層210的垂直投影上完全重疊或部分重疊電子元件221,藉此阻擋或吸收散射的光線。
此外,保護(hù)層264形成于絕緣層210與彩色濾光片262之間。保護(hù)層264可為透光的有機(jī)材料或是無(wú)機(jī)材料。保護(hù)層264可作為絕緣層210與彩色濾光片262之間的附著層,使彩色濾光片262附著于絕緣層210上。接著,配置第二對(duì)向基板266于彩色濾光片262上。于部分實(shí)施例中,第二對(duì)向基板266為玻璃基板或其他適合的材料。于部分實(shí)施例中,第二對(duì)向基板266與彩色濾光片262可配置有另一保護(hù)層。在其他變化例中,亦可先形成遮光元件260于第一對(duì)向基板266上后,再形成彩色濾光片262于遮光元件160上,之后將此具有第一對(duì)向基板266、遮光元件260以及彩色濾光片262的構(gòu)件與圖2G中的已與基板200分離的結(jié)構(gòu)對(duì)組接合,譬如是利用膠合層使其接合。然而,在其他變化例中,亦可先形成彩色濾光片262于第一對(duì)向基板266上后,再形成遮光元件260于彩色濾光片262上,之后將此具有第一對(duì)向基板266、彩色濾光片262以及遮光元件260的構(gòu)件與圖2G中的已與基板200分離的結(jié)構(gòu)對(duì)組接合,譬如是利用膠合層使其接合。
本實(shí)施例中,液晶層250’以及遮光元件260分別配置于絕緣層210的相對(duì)兩側(cè),且元件層220配置于液晶層250’與絕緣層210之間。因此,在液晶層250的聚合反應(yīng)期間,紫外光可直接地通過(guò)第一對(duì)向基板240以及第二電極242對(duì)液晶層250進(jìn)行聚合反應(yīng),而不會(huì)受到元件層220中電子元件221的金屬配線、彩色濾光片262或遮光元件260的影響(如:紫外光受到遮蔽或是被吸收)。此外,第一電極230與第二電極242提供大體上平坦的表面,讓液晶材料可均勻地分布于液晶層250’內(nèi)。通過(guò)此配置,液晶層250’具有更好的光電特性。
參照?qǐng)D2I,配置背光模塊280。于本實(shí)施例中,背光模塊280配置于液晶層250’相對(duì)于遮光元件260(或彩色濾光片262)的一側(cè)。因此,背光模塊280、液晶層250’、元件層220以及彩色濾光片262(或遮光元件260)于圖2I中是由上而下依序排列的。換句話說(shuō),光線是先經(jīng)由背光模塊280提供后,經(jīng)由液晶層250’,再通過(guò)彩色濾光片262(或遮光元件260)射出。具體而言,光線先經(jīng)過(guò)液晶層250’,再經(jīng)過(guò)彩色濾光片262會(huì)具有較佳的色彩以及光學(xué)表現(xiàn)。于部分實(shí)施例中,背光模塊280可為直下式背光模塊或是側(cè)光式背光模塊。
本發(fā)明通過(guò)基板分離技術(shù),將液晶層與遮光元件分別設(shè)置于絕緣層的兩側(cè)。使得液晶層在進(jìn)行聚合反應(yīng)的期間,不會(huì)受到遮光元件或是電子元件的金屬配線的影響,進(jìn)而導(dǎo)致入射光(如紫外光)遭到遮蔽或是吸收。換句話說(shuō),此配置的優(yōu)點(diǎn)在于讓液晶層中的單體可以在最低遮蔽的狀態(tài)下進(jìn)行聚合反應(yīng),使得液晶層各處能產(chǎn)生均勻的聚合反應(yīng),進(jìn)而增加顯示器整體的光電特性。
本發(fā)明基于上述結(jié)構(gòu),進(jìn)一步將背光模塊配置于液晶層相對(duì)于彩色濾光片(或遮光元件)的一側(cè)。光線先經(jīng)由背光模塊280提供后,經(jīng)由液晶層250,再通過(guò)彩色濾光片262(或遮光元件260)射出。具體而言,光線先經(jīng)過(guò)液晶層,再經(jīng)過(guò)彩色濾光片而射出。此配置可使具顯示裝置有較佳的色彩以及光學(xué)表現(xiàn)。
上文概述了若干實(shí)施例的特征,以便本領(lǐng)域熟習(xí)此項(xiàng)技藝者可更好地理解本揭示案的態(tài)樣。本領(lǐng)域熟習(xí)此項(xiàng)技藝者應(yīng)當(dāng)了解到他們可容易地使用本揭示案作為基礎(chǔ)來(lái)設(shè)計(jì)或者修改其他制程及結(jié)構(gòu),以實(shí)行相同目的及/或?qū)崿F(xiàn)相同優(yōu)勢(shì)的。本領(lǐng)域熟習(xí)此項(xiàng)技藝者亦應(yīng)當(dāng)了解到,此類(lèi)等效構(gòu)造不脫離本揭示案的精神及范疇,以及在不脫離本揭示案的精神及范疇的情況下,其可對(duì)本文進(jìn)行各種改變、取代及變更。