本發(fā)明涉及掩膜圖形設(shè)計領(lǐng)域，特別涉及一種光學(xué)鄰近校正前的圖形預(yù)處理方法。

背景技術(shù)：

在精度在0.13um技術(shù)節(jié)點以下的半導(dǎo)體制造中，基于模型的opc(opticalproximitycorrection，光學(xué)鄰近校正)方法已經(jīng)廣泛地應(yīng)用在關(guān)鍵層次以及包括離子注入的光刻工藝中，基于模型的opc方法通過建立能夠很好模擬曝光過程(有時也包括蝕刻)的模型，結(jié)合根據(jù)一定規(guī)則的圖形切割，能夠很好的完成各種復(fù)雜圖形的局部圖形失真補償。

基于模型的opc基本原理是把原始圖形按一定規(guī)則切割成很多小的片段，每個小片段上有一個或者數(shù)個目標(biāo)點，通過邊模擬邊修正圖形片段使得經(jīng)過光學(xué)鄰近校正后的圖形模擬結(jié)果與目標(biāo)點一致。

然而在原始版圖中，可能存在一些符合設(shè)計規(guī)則但不利于光學(xué)鄰近校正的圖形，或在光學(xué)鄰近校正前處理過程中，也可能產(chǎn)生一些不利于光學(xué)鄰近校正的圖形，比如一些小凸起，或者小的圖形缺口，這些圖形本身并不違反設(shè)計規(guī)則，但是它們的存在會導(dǎo)致光學(xué)鄰近校正的結(jié)果不合理。原因之一是模型opc在光學(xué)鄰近校正過程中把這些小凸起或者小缺口作為目標(biāo)圖形修正，這樣容易導(dǎo)致相鄰正常圖形無法達到目標(biāo)，而我們校正的本意并不需要上述的小凸起或者小缺口等不利圖形達到目標(biāo)。

傳統(tǒng)的opc處理流程中，利用圖形填充或者圖形去除來消除圖形中的小凸起或者小缺口，圖1～圖4揭示了其中的一個處理方法，圖1為初始目標(biāo)圖形，存在小凸起，利用mentor公司的drc工具首先找到符合條件的小凸起jog，如圖2所示，jog與其鄰邊ja之間成270°角，根據(jù)jog與圖形邊ja的距離關(guān)系形成包含兩條邊的最小矩形jf，如圖3所示，合并初始目標(biāo)圖形和jf得到新的目標(biāo)圖形，結(jié)果如圖4所示。

由于常規(guī)的圖形凸起(如圖2中的jog)與圖形邊垂直(比如成90°或270°角)，且與該圖形凸起相鄰的圖形邊與坐標(biāo)系中的x軸或y軸成0°或90°角，因此利用上述的傳統(tǒng)的方法能很好的解決常規(guī)的圖形凸起，消除對opc的不利影響。

然而對于一些位于斜邊上的圖形凸起，如圖5～圖7所示，現(xiàn)有的drc工具無法直接形成jog與其相鄰圖形邊填充區(qū)域，因而不能用傳統(tǒng)的處理方法進行解決。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種光學(xué)鄰近校正前的圖形預(yù)處理方法，針對斜邊上的圖形凸起，進行預(yù)處理，得到最終用于光學(xué)鄰近校正的目標(biāo)圖形，從而去除了這種圖形中不利于光學(xué)鄰近校正的因素。

為達到上述目的，本發(fā)明提供一種光學(xué)鄰近校正前的圖形預(yù)處理方法，用于去除掩膜圖案中不利于光學(xué)鄰近校正的圖形邊緣，包括以下步驟：

步驟一：提供一個掩膜圖形，定義為初始圖形，在所述初始圖形上找出相對于所述初始圖形的邊界凸起的凸起短邊，然后選擇包含該凸起短邊的多邊形，定義為第一多邊形，所述第一多邊形中包含所述初始圖形；

步驟二：將步驟一中的所述第一多邊形朝所述初始圖形的外部移動，得到若干個第二多邊形，其中移動的距離等于所述凸起短邊的長度，將每個所述第二多邊形去除所述初始圖形得到若干個第三多邊形；

步驟三：當(dāng)所述第三多邊形中的一條邊與所述凸起短邊重合時，將該第三多邊形定義為第四多邊形，將所有所述第四多邊形與所述初始圖形合并后得到最終用于進行光學(xué)鄰近校正的目標(biāo)圖形。

作為優(yōu)選，在所述初始圖形上，以水平方向為x軸，在初始圖形所在的平面上以與水平方向垂直的方向為y軸，建立xy軸二維坐標(biāo)系，所述初始圖形具有斜邊，所述凸起短邊相對于所述斜邊凸起。

作為優(yōu)選，所述斜邊與x軸成45°或者135°的夾角，所述凸起短邊與x軸成0°或者90°夾角。

作為優(yōu)選，所述凸起短邊的長度小于10nm。

作為優(yōu)選，所述凸起短邊的長度為2nm。

作為優(yōu)選，步驟二中將所述第一多邊形分別沿著x軸向右、向左移動，然后沿著y軸向上、向下移動，分別得到四個第二多邊形。

作為優(yōu)選，通過軟件calibresvrf工具實現(xiàn)。

作為優(yōu)選，所述凸起短邊均在基于最小精度的圖形格點上。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供一種光學(xué)鄰近校正前的圖形預(yù)處理方法，用于去除掩膜圖案中不利于光學(xué)鄰近校正的圖形邊緣，具體包括三個步驟：

步驟一：提供一個掩膜圖形，定義為初始圖形，在初始圖形上找出相對于初始圖形的邊界凸起的凸起短邊，然后選擇包含該凸起短邊的多邊形，定義為第一多邊形，第一多邊形中包含初始圖形；

步驟二：將步驟一中的第一多邊形朝初始圖形的外部移動，得到若干個第二多邊形，其中移動的距離等于凸起短邊的長度，將每個第二多邊形去除初始圖形得到若干個第三多邊形；

步驟三：當(dāng)?shù)谌噙呅沃械囊粭l邊與凸起短邊重合時，將該第三多邊形定義為第四多邊形，將所有第四多邊形與初始圖形合并后得到最終用于進行光學(xué)鄰近校正的目標(biāo)圖形。

通過上述步驟能夠消除位于斜邊上的圖形邊凸起，光學(xué)鄰近校正后結(jié)果一致性更好，相同目標(biāo)圖形經(jīng)過光學(xué)鄰近校正后，圖形差異在一個最小圖形格點之內(nèi)。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中初始目標(biāo)圖形示意圖；

圖2為圖1中a處放大示意圖；

圖3為現(xiàn)有技術(shù)中形成最小矩形jf示意圖；

圖4為現(xiàn)有技術(shù)中得到目標(biāo)圖形示意圖；

圖5～圖7為在斜邊上存在凸起的圖形示意圖；

圖8為本發(fā)明提供的初始圖形示意圖；

圖9為圖8中b處放大示意圖；

圖10為本發(fā)明提供的得到第一多邊形的示意圖；

圖11為本發(fā)明提供的沿x軸移動得到第二多邊形的示意圖；

圖12為本發(fā)明提供的根據(jù)圖11得到第三多邊形和第四多邊形的示意圖；

圖13為本發(fā)明提供的根據(jù)圖11得到最終目標(biāo)圖形的示意圖

圖14為本發(fā)明提供的沿y軸移動得到第二多邊形的示意圖；

圖15為本發(fā)明提供的根據(jù)圖14得到第三多邊形和第四多邊形的示意圖；

圖16為本發(fā)明提供的根據(jù)圖14得到最終目標(biāo)圖形的示意圖；

圖17為本發(fā)明提供的圖形預(yù)處理方法流程圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式做詳細(xì)的說明。

請參照圖17，以水平方向為x軸，在該平面上垂直于x軸的方向作為y軸，建立xy二維坐標(biāo)系，本發(fā)明提供一種光學(xué)鄰近校正前的圖形預(yù)處理方法，用于去除掩膜圖案中不利于光學(xué)鄰近校正的圖形邊緣，包括以下步驟：

步驟一：請參照圖8，輸入初始目標(biāo)圖形tgt，選擇符合條件的圖形邊凸起短邊ja，所謂符合條件是指該凸起短邊ja與坐標(biāo)系x軸成0°或90°角，凸起短邊ja相對于初始目標(biāo)圖形tgt上與x軸成45°或者135°的夾角的斜邊凸起，且與初始目標(biāo)圖形tgt上與凸起短邊ja相鄰的圖形邊分別成135°及225°角，凸起短邊ja本身長度等于2nm；請參照圖9，選擇所有凸起短邊ja中與坐標(biāo)系x軸成0°角的圖形邊jax，選擇所有凸起短邊ja中與坐標(biāo)系x軸成90°角的圖形邊為jay；

步驟二：請參照圖10，選擇所有包含凸起短邊ja和初始目標(biāo)圖形tgt的第一多邊形plg；請參照圖11，把第一多邊形plg沿著坐標(biāo)系x軸向右移動2nm，得到第二多邊形plgx1；把多邊形plg沿著坐標(biāo)系x軸向左移動2nm，得到第二多邊形plgx2；把多邊形plg沿著坐標(biāo)系y軸向上移動2nm，得到第二多邊形plgy3；請參照圖14，把多邊形plg沿著坐標(biāo)系y軸向下移動2nm，得到第二多邊形plgy4；

根據(jù)上述步驟得到的多邊形，將移動后得到的多邊形與初始目標(biāo)圖形tgt進行邏輯非運算,請參照圖12和圖15，得到如圖17中的填補多邊形組，也叫第三多邊形組plg_ex1，plg_ex2，plg_ex3和plg_ex4：

plg_ex1＝plgx1–tgt

plg_ex2＝plgx2–tgt

plg_ex3＝plgy3–tgt

plg_ex4＝plgy4–tgt

步驟三：上述得到的第三多邊形組，選擇第三多邊形plg_ex1與步驟一中得到的圖形邊jax接觸的多邊形為第四多邊形plg_f1(也就是說第四多邊形plg_f1中有一條邊是與圖形邊jax重合的)，如圖12所示；選擇多邊形組plg_ex2與圖形邊jax接觸的多邊形為第四多邊形plg_f2，選擇多邊形組plg_ex3與步驟一中得到的圖形邊jay接觸的多邊形為第四多邊形plg_f3，選擇多邊形組plg_ex4與圖形邊jay接觸的多邊形為第四多邊形plg_f4，如圖15所示；

請參照圖13和圖16，合并初始目標(biāo)圖形tgt和上述步驟得到的所有的第四多邊形，得到最終目標(biāo)圖形tgt_f＝tgt+((plg_f1+plg_f2)+(plg_f3+plg_f4))。

較佳地，上述方法可通過軟件calibresvrf工具實現(xiàn)，并且其中的凸起短邊ja均在基于最小精度的圖形格點上.

通過上述步驟能夠消除位于斜邊上的圖形邊凸起，光學(xué)鄰近校正后結(jié)果一致性更好，相同目標(biāo)圖形經(jīng)過光學(xué)鄰近校正后，圖形差異在一個最小圖形格點之內(nèi)。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包括這些改動和變型在內(nèi)。