技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法及裝置。所述釋放陣列基板的膜層應(yīng)力的方法通過(guò)將陣列基板靜置于具有弧面的載臺(tái)上，再通過(guò)載臺(tái)曲率調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)逐漸改變載臺(tái)的弧面彎曲的曲率，讓陣列基板在重力的作用下依照載臺(tái)的弧面彎曲且彎曲程度隨著載臺(tái)的弧面的曲率的變化而變化，從而使得陣列基板上的各膜層受到均勻的張應(yīng)力或者壓應(yīng)力，最終在外力的作用下釋放陣列基板在制備過(guò)程中各膜層之間積累的應(yīng)力，避免后續(xù)制程以及使用過(guò)程中的外部壓力對(duì)陣列基板上的器件性能產(chǎn)生影響，減少顯示面板的顯示不良，保證產(chǎn)品良率。

技術(shù)研發(fā)人員：不公告發(fā)明人
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.09
技術(shù)公布日：2017.09.15