技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種光刻光學(xué)式疊對量測圖型結(jié)構(gòu)，所述量測圖型結(jié)構(gòu)至少包括：由垂直相交的X軸和Y軸隔成的且依次排布的第一象限區(qū)、第二象限區(qū)、第三象限區(qū)、第四象限區(qū)；其中，第一象限區(qū)和第三象限區(qū)中的圖型沿第一方向排列，第二象限區(qū)和第四象限區(qū)中的圖型沿第二方向排列；每一個象限區(qū)中圖型包括前層圖型和位于所述前層圖型上方的當(dāng)層圖型，所述前層圖型和當(dāng)層圖型間隔排列，且每一個象限區(qū)中的當(dāng)層圖型和前層圖型的圖型總根數(shù)滿足2n+1，n為大于0的整數(shù)。利用本發(fā)明的疊對量測圖型結(jié)構(gòu)可以增加量測的精準(zhǔn)度，減少量測誤差，再利用本發(fā)明的圖型結(jié)構(gòu)偏移參數(shù)回饋補(bǔ)正下一次制作的當(dāng)前層圖型，從而克服制程中的機(jī)臺誤差等引起的變異。

技術(shù)研發(fā)人員：不公告發(fā)明人
受保護(hù)的技術(shù)使用者：睿力集成電路有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.16
技術(shù)公布日：2017.08.08