【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種彩色濾光基板及其制造方法及顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

由于顯示裝置(liquidcrystaldisplay,lcd)具有省電、重量輕、低輻射及易攜帶等優(yōu)點(diǎn)，已逐漸取代傳統(tǒng)的顯示器，成為顯示器市場的主流。

請參考圖1，相關(guān)技術(shù)中的一種顯示面板包括彩色濾光基板101、與所述彩色濾光基板101相對間隔設(shè)置的陣列基板102、夾設(shè)于所述彩色濾光基板101和所述陣列基板102之間的液晶層103及兩個分別設(shè)于所述彩色濾光基板101和所述陣列基板102一側(cè)的偏光片104，兩個所述偏光片104的吸收軸垂直。所述彩色濾光基板101包括玻璃基板105、彩色濾光層106、黑矩陣107、平坦層108及公共電極層109，所述彩色濾光層106包括多個設(shè)于所述玻璃基板105表面的彩色光阻，所述黑矩陣107設(shè)于所述玻璃基板表面并定義出多個子像素區(qū)，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)，所述黑矩陣107用以吸收和遮蔽光線，所述平坦層108覆蓋所述彩色濾光層和所述黑矩陣107，用以避免所述公共電極層109高溫制程下造成所述彩色濾光層106產(chǎn)生形變，所述公共電極層109覆蓋所述平坦層108。高分辨率下的所述顯示面板由于受其結(jié)構(gòu)和厚度的限制，光線會透過所述黑矩陣107，從而產(chǎn)生混色的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種能有效解決混色問題的彩色濾光基板及其制造方法及采用該彩色濾光基板的顯示面板及采用該顯示面板的顯示裝置。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種彩色濾光基板包括：

玻璃基板；

彩色濾光層，包括多個設(shè)于所述玻璃基板表面的彩色光阻；

第一偏光膜，設(shè)于所述玻璃基板表面并定義出多個子像素區(qū)，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)；

第一光學(xué)層，覆蓋所述彩色濾光層和所述第一偏光膜；

第二光學(xué)層，覆蓋所述第一光學(xué)層；

其中，所述第一光學(xué)層和所述第二光學(xué)層的其中一方為透明導(dǎo)電膜，另一方為第二偏光膜，且所述第一偏光膜的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域。

優(yōu)選的，所述第二偏光膜包括與所述彩色光阻對應(yīng)設(shè)置的第一部分及與所述第一偏光膜對應(yīng)設(shè)置的第二部分，所述第二部分與所述第一偏光膜形成所述吸光區(qū)域，且所述第二部分朝所述玻璃基板方向突出于所述第一部分。

優(yōu)選的，所述第一偏光膜和所述第二偏光膜均為晶體薄膜。

優(yōu)選的，所述彩色濾光基板還包括設(shè)于所述第二光學(xué)層上的光阻間隙物。

本發(fā)明還提供一種顯示面板，所述顯示面板包括上述中任一項(xiàng)所述的彩色濾光基板、與所述彩色濾光基板相對間隔設(shè)置的陣列基板、夾設(shè)于所述彩色濾光基板和所述陣列基板之間的液晶層及設(shè)于所述陣列基板遠(yuǎn)離所述液晶層一側(cè)的偏光片，所述偏光片的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直。

本發(fā)明還提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括上述所述的顯示面板。

本發(fā)明還提供一種彩色濾光基板的制造方法，所述制造方法包括以下步驟：

在玻璃基板表面制作彩色濾光層和第一偏光膜，所述彩色濾光層包括多個彩色光阻，所述第一偏光膜定義出多個子像素區(qū)，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)；

在所述彩色濾光層和所述第一偏光膜上制作第一光學(xué)層以覆蓋所述彩色濾光層和所述第一偏光膜；

在所述第一光學(xué)層上制作第二光學(xué)層以覆蓋所述第一光學(xué)層，其中，所述第一光學(xué)層和所述第二光學(xué)層的其中一方為透明導(dǎo)電膜，另一方為第二偏光膜，且所述第一偏光膜的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域。

優(yōu)選的，所述第二偏光膜包括與所述彩色光阻對應(yīng)設(shè)置的第一部分及與所述第一偏光膜對應(yīng)設(shè)置的第二部分，所述第二部分與所述第一偏光膜形成所述吸光區(qū)域，且所述第二部分突出于所述第一部分。

優(yōu)選的，所述第一偏光膜和所述第二偏光膜均為晶體薄膜。

優(yōu)選的，所述制造方法還包括在所述第二光學(xué)層上制作光阻間隙物。

與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果在于：通過吸收軸垂直的所述第一偏光膜和所述第二偏光膜取代黑色矩陣和平坦層，不僅可以在不增加所述彩色濾光基板的厚度的情況下增加吸光區(qū)域的厚度，而且可以有效解決高分辨率下的混色問題。同時，由于所述偏光片的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直，所述第二偏光膜可作為彩色濾光基板側(cè)偏光片使用，替代彩色光阻基板的偏光片，故在顯示面板成盒之后，也可達(dá)到節(jié)省所述彩色濾光基板側(cè)偏光片的目的。

【附圖說明】

圖1為相關(guān)技術(shù)中的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明提供的顯示面板實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的顯示面板實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖

圖4為圖1所示顯示面板的光線泄露分布圖；

圖5為圖3所示顯示面板的光線泄露分布圖；

圖6為圖2所示顯示面板中彩色濾光基板的制造方法的流程圖；

圖7為圖3所示顯示面板中彩色濾光基板的制造方法的流程圖。

【具體實(shí)施方式】

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請參閱圖2，為本發(fā)明提供的顯示面板實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖。所述顯示面板200包括彩色濾光基板1、與所述彩色濾光基板1相對間隔設(shè)置的陣列基板2、夾設(shè)于所述彩色濾光基板1和所述陣列基板2之間的液晶層3及設(shè)于所述陣列基板2遠(yuǎn)離所述液晶層3一側(cè)的偏光片4。

所述彩色濾光基板1包括玻璃基板11、彩色濾光層12、第一偏光膜13、第一光學(xué)層14及第二光學(xué)層15，所述彩色濾光層12包括多個設(shè)于所述玻璃基板11表面的彩色光阻，所述第一偏光膜13設(shè)于所述玻璃基板11表面并定義出多個子像素區(qū)，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)，所述第一光學(xué)層14覆蓋所述彩色濾光層12和所述第一偏光膜13，所述第二光學(xué)層15覆蓋所述第一光學(xué)層14。其中，所述第一光學(xué)層14和所述第二光學(xué)層15的其中一方為透明導(dǎo)電膜，另一方為第二偏光膜，且所述第一偏光膜13的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜13和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域a。

在本實(shí)施例中，所述第一光學(xué)層14為第二偏光膜，所述偏光片4的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直。

所述第二偏光膜包括與所述彩色光阻對應(yīng)設(shè)置的第一部分141及與所述第一偏光膜13對應(yīng)設(shè)置的第二部分143，所述第二部分143與所述第一偏光膜13形成所述吸光區(qū)域a，且所述第二部分143朝所述玻璃基板1方向突出于所述第一部分141。在本實(shí)施例中，所述第一偏光膜13和所述第二偏光膜均為晶體薄膜(tcf)，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成，且所述第一偏光膜13的厚度約為1.1μm，所述第二偏光膜的厚度約為1.5μm。

所述第二光學(xué)層15為透明導(dǎo)電膜，且所述透明導(dǎo)電膜呈平板狀。

進(jìn)一步的，所述彩色濾光基板1還包括設(shè)于所述第二光學(xué)層15上的光阻間隙物16。

請參閱圖3，為本發(fā)明提供的顯示面板實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。所述顯示面板300包括彩色濾光基板6、與所述彩色濾光基板6相對間隔設(shè)置的陣列基板7、夾設(shè)于所述彩色濾光基板6和所述陣列基板7之間的液晶層8及設(shè)于所述陣列基板7遠(yuǎn)離所述液晶層8一側(cè)的偏光片9。

所述彩色濾光基板6包括玻璃基板61、彩色濾光層62、第一偏光膜63、第一光學(xué)層64及第二光學(xué)層65，所述彩色濾光層62包括多個設(shè)于所述玻璃基板61表面的彩色光阻，所述第一偏光膜63設(shè)于所述玻璃基板61表面并定義出多個子像素區(qū)，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)，所述第一光學(xué)層64覆蓋所述彩色濾光層62和所述第一偏光膜63，所述第二光學(xué)層65覆蓋所述第一光學(xué)層64。其中，所述第一光學(xué)層64和所述第二光學(xué)層65的其中一方為透明導(dǎo)電膜，另一方為第二偏光膜，且所述第一偏光膜63的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜63和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域b。

在本實(shí)施例中，所述第二光學(xué)層65為第二偏光膜，所述偏光片9的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直。

所述第二偏光膜包括與所述彩色光阻對應(yīng)設(shè)置的第一部分651及與所述第一偏光膜63對應(yīng)設(shè)置的第二部分653，所述第二部分653與所述第一偏光膜63形成所述吸光區(qū)域b，且所述第二部分653朝所述玻璃基板61方向突出于所述第一部分651。在本實(shí)施例中，所述第一偏光膜63和所述第二偏光膜均為晶體薄膜(tcf)，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成，且所述第一偏光膜63的厚度約為1.1μm，所述第二偏光膜的厚度約為1.5μm。

所述第一光學(xué)層64為透明導(dǎo)電膜，且所述透明導(dǎo)電膜與所述彩色濾光層62、所述第一偏光膜63及所述第二光學(xué)層65的形狀相匹配。

進(jìn)一步的，所述彩色濾光基板6還包括設(shè)于所述第二光學(xué)層65上的光阻間隙物66。

實(shí)施例一和實(shí)施例二所述的顯示面板通過吸收軸垂直的所述第一偏光膜和所述第二偏光膜取代黑色矩陣和平坦層，不僅可以在不增加所述彩色濾光基板的厚度的情況下增加吸光區(qū)域的厚度，而且結(jié)合圖4和圖5可以看出所述第一偏光膜和所述第二偏光膜形成的所述吸光區(qū)域a能有效解決高分辨率下的混色問題，其中，圖4為圖1所示顯示面板的光線泄露分布圖；圖5為圖3所示顯示面板的光線泄露分布圖。同時，由于所述偏光片的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直，所述第二偏光膜可作為彩色濾光基板側(cè)偏光片使用，替代彩色濾光基板側(cè)的偏光片，故在所述顯示面板成盒之后，也可達(dá)到節(jié)省所述彩色濾光基板側(cè)偏光片的目的。

本發(fā)明還提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括實(shí)施例一和實(shí)施例二所述的顯示面板。

請參閱圖6，為圖2所示顯示面板中彩色濾光基板的制造方法的流程圖。本發(fā)明還提供一種彩色濾光基板的制造方法，所述制造方法包括以下步驟：

s1、在玻璃基板11表面制作彩色濾光層12和第一偏光膜13。在本實(shí)施例中，所述第一偏光膜13為晶體薄膜，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成。

s11、在洗凈后的所述玻璃基板11上涂布能夠形成溶致液晶的二向色性染料，同時或隨后施加外部排列作用；然后去除溶劑以形成晶體薄膜，并圖案化形成所述第一偏光膜13，圖案化形成的所述第一偏光膜13呈網(wǎng)格狀，每一網(wǎng)格圍成一個子像素區(qū)。其中，晶體薄膜圖案化形成所述第一偏光膜13的方法可以參考黑色矩陣的圖案化形成方法。如，依次經(jīng)過如下步驟處理：光罩+uv曝光→顯影+蝕刻→光阻剝離。在本實(shí)施例中，形成的所述第一偏光膜13厚度約為1.1μm。

s12、在所述玻璃基板11制作所述彩色濾光層12，所述彩色濾光層12包括多個彩色光阻，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)。所述彩色濾光層12的形成方法為現(xiàn)有技術(shù)中的rgb制程。如，依次經(jīng)過如下步驟處理：顏色光阻涂布→曝光→蝕刻→烘烤。

s2、在所述彩色濾光層12和所述第一偏光膜13上制作第二偏光膜14以覆蓋所述彩色濾光層12和所述第一偏光膜13，且所述第一偏光膜13的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜13和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域。所述第二偏光膜的厚度約為1.5μm。

s3、在所述第二偏光膜上制作透明導(dǎo)電膜以覆蓋所述第二偏光膜。所述透明導(dǎo)電膜可以為ito材料濺鍍形成，而且由于所述第二偏光膜的保護(hù)作用，可以避免濺鍍ito材料時損壞所述彩色濾光層12。在本實(shí)施例中，所述第二偏光膜也為晶體薄膜，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成。

s4、在所述透明導(dǎo)電膜上制作光阻間隙物16。所述光阻間隙物16的制作方法可以參考現(xiàn)有技術(shù)中的photo-spacer制成方法。所述photo-spacer制成方法包括涂布、曝光、顯影、蝕刻、烘烤等步驟。

在本制造方法中，所述第二偏光膜構(gòu)成所述第一光學(xué)層14，所述透明導(dǎo)電膜構(gòu)成所述第二光學(xué)層15。

請參閱圖7，為圖3所示顯示面板中彩色濾光基板的制造方法的流程圖。本發(fā)明還提供另一種彩色濾光基板的制造方法，所述制造方法包括以下步驟：

s1、在玻璃基板61表面制作彩色濾光層62和第一偏光膜63。在本實(shí)施例中，所述第一偏光膜63為晶體薄膜，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成。

s11、在洗凈后的所述玻璃基板61上涂布能夠形成溶致液晶的二向色性染料，同時或隨后施加外部排列作用；然后去除溶劑以形成晶體薄膜，并圖案化形成所述第一偏光膜63，圖案化形成的所述第一偏光膜63呈網(wǎng)格狀，每一網(wǎng)格圍成一個子像素區(qū)。其中，晶體薄膜圖案化形成所述第一偏光膜63的方法可以參考黑色矩陣的圖案化形成方法。如，依次經(jīng)過如下步驟處理：光罩+uv曝光→顯影+蝕刻→光阻剝離。在本實(shí)施例中，形成的所述第一偏光膜63厚度約為1.1μm。

s12、在所述玻璃基板61制作所述彩色濾光層62，所述彩色濾光層62包括多個彩色光阻，所述彩色光阻位于所述子像素區(qū)內(nèi)。所述彩色濾光層62的形成方法為現(xiàn)有技術(shù)中的rgb制程。如，依次經(jīng)過如下步驟處理：顏色光阻涂布→曝光→蝕刻→烘烤。

s2、在所述彩色濾光層62和所述第一偏光膜63上制作透明導(dǎo)電膜以覆蓋所述彩色濾光層62和所述第一偏光膜63。所述透明導(dǎo)電膜可以為ito材料濺鍍形成。

s3、在所述透明導(dǎo)電膜上制作第二偏光膜以覆蓋所述透明導(dǎo)電膜，且所述第一偏光膜63的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直以使得所述第一偏光膜63和所述第二偏光膜形成吸光區(qū)域。所述第二偏光膜的厚度約為1.5μm。在本實(shí)施例中，所述第二偏光膜也為晶體薄膜，所述晶體薄膜由能夠形成溶致液晶的二向色性染料組成。

s4、在所述第二偏光膜上制作光阻間隙物66。所述光阻間隙物66的制作方法可以參考現(xiàn)有技術(shù)中的photo-spacer制成方法。所述photo-spacer制成方法包括涂布、曝光、顯影、蝕刻、烘烤等步驟。

在本制造方法中，所述透明導(dǎo)電膜構(gòu)成所述第一光學(xué)層64，所述第二偏光膜構(gòu)成所述第二光學(xué)層65。

本發(fā)明的有益效果在于：通過吸收軸垂直的所述第一偏光膜和所述第二偏光膜取代黑色矩陣和平坦層，不僅可以在不增加所述彩色濾光基板的厚度的情況下增加吸光區(qū)域的厚度，而且可以有效解決高分辨率下的混色問題。同時，由于所述偏光片的吸收軸與所述第二偏光膜的吸收軸垂直，所述第二偏光膜可作為彩色濾光基板側(cè)偏光片使用，替代彩色濾光基板的偏光片，故在顯示面板成盒之后，也可達(dá)到節(jié)省所述彩色濾光基板側(cè)偏光片的目的。

以上所述的僅是本發(fā)明的實(shí)施方式，在此應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出改進(jìn)，但這些均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。