本發(fā)明涉及顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種反射式液晶顯示器及其制造方法。

背景技術(shù)：

隨著顯示行業(yè)的迅速發(fā)展，液晶顯示屏已經(jīng)遍布人們生活的方方面面，如手機(jī)、電腦、電視、手表、pad、電子標(biāo)簽等。隨著手機(jī)功能逐漸強(qiáng)大及智能穿戴產(chǎn)品的迅速發(fā)展，人們對(duì)顯示器戶(hù)外可讀性的要求越來(lái)越強(qiáng)，近年來(lái)反射式液晶顯示器得到廣泛的應(yīng)用和發(fā)展。另外，電子標(biāo)簽的應(yīng)用越來(lái)越普遍，但傳統(tǒng)電子墨水式的電子標(biāo)簽只能顯示黑白或很少的幾個(gè)顏色，而全反射液晶顯示由于其低功耗、可顯示色彩眾多、分辨率高等優(yōu)點(diǎn)，應(yīng)用越來(lái)越廣泛。全反射液晶顯示器沒(méi)有背光，利用對(duì)環(huán)境光的反射實(shí)現(xiàn)顯示。為提高反射率和視角，對(duì)入射光需要進(jìn)行散射。目前的產(chǎn)品中，薄膜晶體管(tft)面板上的反射電極一般為平坦電極，通過(guò)在面板上面增加散射膜，來(lái)提升反射率和擴(kuò)大視角，但增加散射膜后的入射光經(jīng)過(guò)的界面增加，光強(qiáng)損失增加，同時(shí)成本較高。為減少界面及降低成本，同時(shí)提升反射率，可以在tft面形成帶有凸起的反射層金屬電極。但只有tft面帶有凸起反射電極的反射式液晶顯示器，側(cè)視角觀看時(shí)，暗態(tài)容易產(chǎn)生漏光，從而使暗態(tài)亮度提升，對(duì)比度下降，視角擴(kuò)大效果有限。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種反射式液晶顯示器及其制造方法，能夠降低暗態(tài)側(cè)視角漏光，提升對(duì)比度，擴(kuò)大視角。

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種反射式液晶顯示器，包括：陣列基板，所述陣列基板上設(shè)置有多個(gè)凸起反射電極；彩膜基板，所述彩膜基板上設(shè)置有多個(gè)凸起電極；所述陣列基板和所述彩膜基板相對(duì)設(shè)置，使得所述凸起反射電極和所述凸起電極互相面對(duì)。

其中，所述凸起反射電極與所述凸起電極相互正對(duì)或相互錯(cuò)開(kāi)。

其中，所述凸起反射電極為圓形凸起或橢圓形凸起，和/或所述凸起電極為圓形凸起或橢圓形凸起。

其中，所述凸起反射電極的高度為0.5-5μm，直徑為1-20μm。

其中，所述凸起電極的高度為0.1-2.0μm，直徑為1-20μm。

本發(fā)明還一種反射式液晶顯示器的制造方法，包括：提供陣列基板，在所述陣列基板上設(shè)置多個(gè)凸起反射電極；提供彩膜基板，在所述彩膜基板上設(shè)置多個(gè)凸起電極；將所述陣列基板和所述彩膜基板對(duì)盒，使得所述凸起反射電極和所述凸起電極互相面對(duì)。

其中，所述在所述陣列基板上設(shè)置多個(gè)凸起反射電極包括：在所述陣列基板上涂覆有機(jī)層；通過(guò)掩模曝光，在所述有機(jī)層表面形成多個(gè)凸起；在所述多個(gè)凸起上濺射反射金屬，以形成所述多個(gè)凸起反射電極。

其中，所述在所述陣列基板上設(shè)置多個(gè)凸起反射電極包括：將硅球與有機(jī)材料混合；將混合后的材料涂覆在所述陣列基板上；在所述混合后的材料上濺射反射金屬，以形成所述多個(gè)凸起反射電極。

其中，所述在所述彩膜基板上設(shè)置多個(gè)凸起電極包括：在所述彩膜基板上涂覆平坦層；通過(guò)掩模曝光，在所述平坦層表面形成多個(gè)凸起；在所述多個(gè)凸起上制作透明氧化物導(dǎo)電層，形成所述多個(gè)凸起電極。

其中，所述在所述彩膜基板上設(shè)置多個(gè)凸起電極包括：將硅球與平坦層材料混合；在所述彩膜基板上涂覆混合了硅球的所述平坦層材料，形成包含所述硅球的平坦層；在所述平坦層上形成透明氧化物導(dǎo)電層，形成所述多個(gè)凸起電極。

本發(fā)明提供的反射式液晶顯示器及其制造方法，在加電的像素區(qū)域形成垂直電場(chǎng)的同時(shí)形成斜向電場(chǎng)，降低暗態(tài)側(cè)視角漏光，提升對(duì)比度，擴(kuò)大了視角。

附圖說(shuō)明

圖1示出現(xiàn)有技術(shù)中的反射式液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中的反射式液晶顯示器在工作狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器在工作狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的彩膜基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明?？梢岳斫獾氖牵颂幩枋龅木唧w實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，而非對(duì)本發(fā)明的限定。另外還需要說(shuō)明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與本發(fā)明相關(guān)的部分而非全部結(jié)構(gòu)。

圖1示出現(xiàn)有技術(shù)中的反射式液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。該反射式液晶顯示器為現(xiàn)有技術(shù)中普通的帶有凸起反射電極的液晶顯示器。如圖1所示，該反射式液晶顯示器包括：陣列基板1；設(shè)置在陣列基板1上的柵極層2；設(shè)置在柵極層2上的柵絕緣層3；設(shè)置在柵絕緣層3上的有源層4；設(shè)置在有源層上的源漏電極層5；設(shè)置在所述有源層4、源漏電極層5、柵絕緣層之上的鈍化層6；設(shè)置在鈍化層6上的有機(jī)層7，所述有機(jī)層包括樹(shù)脂；設(shè)置在有機(jī)層上的反射電極8，該反射電極8為凸起結(jié)構(gòu)；與陣列基板1相對(duì)設(shè)置的彩膜基板12；設(shè)置在彩膜基板12上面對(duì)陣列基板1的彩膜面11，所述彩膜面11包括透明氧化銦錫(ito)；設(shè)置在所述彩膜基板12與所述陣列基板1之間液晶9；以及設(shè)置在所述彩膜基板12與所述陣列基板1之間的隔離柱10，該隔離柱可以為ps(photospacer)，材質(zhì)為聚合后具有彈性的有機(jī)透明材料。

在該反射式液晶顯示器中，僅設(shè)置在陣列基板的面上的反射電極8為凸起反射電極，而在彩膜基板12的彩膜膜11的電極為平坦電極。

圖2示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中的反射式液晶顯示器在工作狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖。參考圖2，該反射式液晶顯示器的彩膜基板上還設(shè)置有1/4λ波片14、設(shè)置在1/4λ波片14上的1/2λ波片15以及設(shè)置在1/2λ波片15之上的上偏光片16。

在圖2中，a表示a像素區(qū)域，b表示b像素區(qū)域，c表示c像素區(qū)域，d表示a像素區(qū)域和b像素區(qū)域之間無(wú)反射金屬電極的區(qū)域，e表示b像素區(qū)域和c像素區(qū)域之間無(wú)反射金屬電極的區(qū)域。在反射式液晶顯示器的工作狀態(tài)下，為了顯示的需要，不同像素區(qū)域的加電和不加電情況不相同。在圖2所示的示例中，a像素區(qū)域和c像素區(qū)域不加電，顯示白態(tài)；b像素區(qū)域加電，顯示黑態(tài)。

對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中只有tft基板的面上帶凸起反射電極的反射式液晶顯示器，在d區(qū)域和e區(qū)域只有很輕微的傾斜電場(chǎng)，這兩個(gè)區(qū)域中液晶分子排列略微傾斜，接近于a像素區(qū)域和c像素區(qū)域不加電的液晶分子排列，當(dāng)從側(cè)視角觀察時(shí)，a像素區(qū)域和c像素區(qū)域入射光的反射光就會(huì)進(jìn)入b像素區(qū)域的人眼中，產(chǎn)生漏光，導(dǎo)致b像素區(qū)域中黑態(tài)像素的反射率提高，也就是暗態(tài)亮度提升，從而降低對(duì)比度，降低視角，影響顯示效果。

實(shí)施例一

為了解決前述現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題，本實(shí)施例提供一種反射式液晶顯示器，在薄膜晶體管(tft)基板的表面上設(shè)置有凸起反射電極，同時(shí)在彩膜基板上與tft基板相對(duì)的一面上也設(shè)置有凸起電極。

圖3示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，該反射式液晶顯示器包括：陣列基板301；設(shè)置在陣列基板301上的柵極層302；設(shè)置在柵極層302上的柵絕緣層303；設(shè)置在柵絕緣層303上的有源層304；設(shè)置在有源層304上的源漏電極層305；設(shè)置在所述有源層304、源漏電極層305、柵絕緣層303之上的鈍化層306；設(shè)置在鈍化層306上的有機(jī)層307，所述有機(jī)層307包括樹(shù)脂；設(shè)置在有機(jī)層307上的反射電極308，該反射電極為凸起結(jié)構(gòu)；與陣列基板301相對(duì)設(shè)置的彩膜基板312；設(shè)置在彩膜基板312上面對(duì)陣列基板301的平坦層311,平坦層一般為有機(jī)透明材料；設(shè)置在所述平坦層311面對(duì)陣列基板301的凸起電極313，所述凸起電極313的材質(zhì)可以為導(dǎo)電的透明氧化物，例如透明氧化銦錫(ito)；設(shè)置在所述彩膜基板312與所述陣列基板301之間液晶309；以及設(shè)置在所述彩膜基板312與所述陣列基板311之間的隔離柱310，該隔離柱可以為ps(photospacer)，材質(zhì)一般為聚合后具有彈性的有機(jī)透明材料。

在本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器中，在陣列基板301上設(shè)置有多個(gè)凸起反射電極308；在彩膜基板312上設(shè)置有多個(gè)凸起電極313；凸起反射電極308和凸起電極313互相面對(duì)。凸起反射電極308和凸起電極313可以正對(duì)，也就是一個(gè)凸起反射電極308與一個(gè)凸起電極313相互正對(duì)。凸起反射電極308和凸起電極313也可以相互錯(cuò)開(kāi)，也就是一個(gè)凸起反射電極308正對(duì)著相鄰的兩個(gè)凸起電極313之間的間隔位置。

圖4示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器在工作狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖。參考圖4，該反射式液晶顯示器的彩膜基板上還設(shè)置有1/4λ波片414，設(shè)置在1/4λ波片414上的1/2λ波片415以及設(shè)置在1/2λ波片415之上的上偏光片416。

在圖4中，a表示a像素區(qū)域，b表示b像素區(qū)域，c表示c像素區(qū)域，d表示a像素區(qū)域和b像素區(qū)域之間的區(qū)域，e表示b像素區(qū)域和c像素區(qū)域之間的區(qū)域。在反射式液晶顯示器的工作狀態(tài)下，為了顯示的需要，不同像素區(qū)域的加電和不加電情況不相同。在圖4所示的示例中，a像素區(qū)域和c像素區(qū)域不加電，顯示白態(tài)；b像素區(qū)域加電，顯示黑態(tài)。

在本實(shí)施例的反射式液晶顯示器中，彩膜基板帶有凸起電極313，同時(shí)tft基板帶有凸起反射電極308，由于上下電極都為凸起的結(jié)構(gòu)，在d區(qū)域和e區(qū)域會(huì)形成較強(qiáng)的傾斜電場(chǎng)，這兩個(gè)區(qū)域的液晶分子隨著實(shí)線方向呈現(xiàn)傾斜排列，即從tft基板反射回來(lái)的光線傳播方向不會(huì)改變，從而無(wú)法從上偏光片416通過(guò)，當(dāng)從側(cè)視角觀察時(shí)，a像素區(qū)域和c像素區(qū)域入射光的反射光無(wú)法進(jìn)入b區(qū)域人眼中，從而降低b區(qū)域黑態(tài)像素的反射率，提升對(duì)比度，擴(kuò)大視角。

圖5示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的彩膜基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。所述彩膜基板312的平坦層311上的凸起電極313可以為能夠?qū)щ姷耐该餮趸?，例如氧化銦錫(ito)、氧化鋁鋅(azo)、氧化鋅(zno)等，形狀為圓形或橢圓形，具體而言，截面形狀為弧形，俯視形狀為圓形或橢圓形。凸起電極311的直徑為1～20μm，高度為0.1～2.0μm。

圖6示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的反射式液晶顯示器的陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。所述陣列基板301上反射金屬像素電極315中的凸起反射電極308的材質(zhì)可以為反射率高的金屬，形狀為圓形或橢圓形，具體而言，截面形狀為弧形，俯視形狀為圓形或橢圓形。凸起反射電極308的直徑為1～20μm，高度為0.5～5μm。

在本實(shí)施例中，在彩膜基板帶有凸起電極313同時(shí)tft基板帶有凸起反射電極308的反射式液晶顯示結(jié)構(gòu)中，在加電的像素區(qū)域形成垂直電場(chǎng)的同時(shí)形成斜向電場(chǎng)，降低暗態(tài)側(cè)視角漏光，提升加電的像素區(qū)域與不加電的像素區(qū)域的對(duì)比度，擴(kuò)大了視角。

實(shí)施例二

本實(shí)施例提供一種制造方法，制造實(shí)施例一中的反射式液晶顯示器。該方法包括以下的步驟。

步驟a，在陣列基板301上依次形成柵極層302、柵絕緣層303、有源層304、源漏電極層305、鈍化層(pvx)306，然后涂覆有機(jī)層307，有機(jī)層307的材料可以是樹(shù)脂，厚度為2.0μm；

步驟b，通過(guò)掩模曝光，使步驟a中形成的有機(jī)層307的表面形成高度為1.0μm，直徑為10μm的凸起界面；

步驟c，在步驟b中形成的有機(jī)層307上濺射反射金屬，例如al、ag等，形成凸起反射電極308；

步驟d，在彩膜基板312上依次涂覆黑矩陣、藍(lán)、綠、紅色阻和平坦層(oc)311；

步驟e，通過(guò)掩模曝光，使步驟d中形成的平坦層311的表面上形成高度為0.4μm，直徑為10μm的凸起界面；

步驟f，在步驟e中形成的彩膜基板上制作ito層，覆蓋步驟e中形成的凸起界面，形成ito凸起電極313；

步驟g，將封框膠swb-73涂覆到步驟f中形成的彩膜基板312上，避光操作，混合物涂覆均勻；

步驟h，將mat-05-575液晶滴在步驟c形成的具有凸起反射電極308的陣列基板301上；

步驟i，將滴有液晶的陣列基板301和涂覆有封框膠混合物的彩膜基板312對(duì)盒后，進(jìn)行紫外聚合和熱聚合，制作高反射率和寬視角的反射式液晶顯示器。

實(shí)施例三

本實(shí)施例提供另一種制造方法，制造實(shí)施例一中的反射式液晶顯示器。該方法包括以下的步驟。

步驟a，將直徑大小為3.0μm的硅球按質(zhì)量比為5.0wt％和有機(jī)材料(例如樹(shù)脂)混合均勻；

步驟b，在陣列基板301上依次形成柵極層302、柵絕緣層303、有源層304、源漏電極層305、鈍化層(pvx)306，然后涂覆步驟a中形成的混合材料形成有機(jī)層307，涂覆的厚度為1.5μm；

步驟c，在有機(jī)層307上濺射反射金屬銀或鋁，反射金屬覆蓋上述硅球的部分形成凸起反射電極308，凸起反射電極308的直徑為3.5μm；

步驟d，在彩膜基板312上依次涂覆黑矩陣、藍(lán)、綠、紅色阻和平坦層(oc)311；

步驟e，通過(guò)掩模曝光，使步驟d中形成的平坦層311的表面上形成高度為0.6μm，直徑為5μm的凸起界面；

步驟f，在步驟e中形成的彩膜基板上制作ito層，覆蓋步驟e中形成的凸起界面，形成ito凸起電極313；

步驟g，將封框膠swb-66涂覆到步驟f中形成的彩膜基板312上，避光操作，混合物涂覆均勻；

步驟h，將zbe-5047液晶滴在步驟c形成的具有凸起反射電極308的陣列基板301上；

步驟i，將滴有液晶的陣列基板301和涂覆有封框膠混合物的彩膜基板312對(duì)盒后，進(jìn)行紫外聚合和熱聚合，制作高反射率和寬視角的反射式液晶顯示器。

實(shí)施例四

本實(shí)施例提供又一種制造方法，制造實(shí)施例一中的反射式液晶顯示器。該方法包括以下的步驟。

步驟a，在陣列基板301上依次形成柵極層302、柵絕緣層303、有源層304、源漏電極層305、鈍化層(pvx)306，然后涂覆有機(jī)層307，有機(jī)層307的材料可以是樹(shù)脂，厚度為2.0μm；

步驟b，通過(guò)掩模曝光，使步驟a中形成的有機(jī)層307的表面形成高度為1.5μm，直徑為8μm的凸起界面；

步驟c，在步驟b中形成的有機(jī)層307上濺射反射金屬，例如al、ag等，形成凸起反射電極308；

步驟d，將直徑大小為2.5μm的硅球按質(zhì)量比為3.0wt％和形成平坦層(oc)的材料混合均勻，得到包含硅球的平坦層；

步驟e，在彩膜基板312上依次涂覆黑矩陣、藍(lán)、綠、紅色阻和步驟d中形成平坦層；

步驟f，在步驟e中形成的彩膜基板312上制作ito層，所述ito層覆蓋在步驟e中形成的平坦層中的硅球上，形成ito凸起電極313，直徑為3μm；

步驟g，將封框膠swb-73涂覆到步驟f中形成的彩膜基板312上，避光操作，混合物涂覆均勻；

步驟h，將slc10t12l01液晶滴在步驟c形成的具有凸起反射電極308的陣列基板301上；

步驟i，將滴有液晶的陣列基板301和涂覆有封框膠混合物的彩膜基板312對(duì)盒后，進(jìn)行紫外聚合和熱聚合，制作高反射率和寬視角的反射式液晶顯示器。

實(shí)施例五

本實(shí)施例提供又一種制造方法，制造實(shí)施例一中的反射式液晶顯示器。該方法包括以下的步驟。

步驟a，將直徑大小為3.0μm的硅球按質(zhì)量比為5.0wt％和有機(jī)材料(例如樹(shù)脂)混合均勻；

步驟b，在陣列基板301上依次形成柵極層302、柵絕緣層303、有源層304、源漏電極層305、鈍化層(pvx)306，然后涂覆步驟a中形成的混合材料形成有機(jī)層307，涂覆的厚度為2.0μm；

步驟c，在有機(jī)層307上濺射反射金屬銀或鋁，反射金屬覆蓋硅球的部分形成凸起反射電極308，凸反射電極308的直徑為5.5μm；

步驟d，將直徑大小為4.0μm的硅球按質(zhì)量比為3.0wt％和形成平坦層(oc)的材料混合均勻，得到包含硅球的平坦層；

步驟e，在彩膜基板312上依次涂覆黑矩陣、藍(lán)、綠、紅色阻和步驟d中形成平坦層；

步驟f，在步驟e中形成的彩膜基板312上制作ito層，所述ito層覆蓋在步驟e中形成的平坦層中的硅球上，形成ito凸起電極313，直徑為4.5μm；

步驟g，將封框膠swb-66涂覆到步驟f中形成的彩膜基板312上，避光操作，混合物涂覆均勻；

步驟h，將boe-81201液晶滴在步驟c形成的具有凸起反射電極308的陣列基板301上；

步驟i，將滴有液晶的陣列基板301和涂覆有封框膠混合物的彩膜基板312對(duì)盒后，進(jìn)行紫外聚合和熱聚合，制作高反射率和寬視角的反射式液晶顯示器。

在上述實(shí)施例二至實(shí)施例五提供的制造本發(fā)明反射式液晶顯示器的方法中，彩膜基板的凸起電極可以通過(guò)在彩膜基板上形成凸起平坦層(oc)界面，然后涂覆ito，進(jìn)行掩模曝光形成ito凸起電極；也可以在平坦層中摻雜硅球，在平坦層表面形成可控的弧度較大、高度較高的平坦層凸起界面，進(jìn)一步在凸起界面處涂覆ito形成弧度和高度可控的ito凸起電極。

陣列基板的凸起反射電極，可以通過(guò)在tft基板上通過(guò)掩模曝光形成凸起有機(jī)層界面，然后在凸起處濺射反射金屬形成凸起反射電極；也可以在有機(jī)層中摻雜硅球，在有機(jī)層表面形成可控的弧度較大、高度較高的有機(jī)凸起界面，進(jìn)一步在有機(jī)凸起界面處濺射反射金屬形成弧度和高度可控的凸起反射電極。

注意，上述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例及所運(yùn)用技術(shù)的原理。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于這里所述的特定實(shí)施例，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)能夠進(jìn)行各種明顯的變化、重新調(diào)整和替代而不會(huì)脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，雖然通過(guò)以上實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了較為詳細(xì)的說(shuō)明，但是本發(fā)明不僅僅限于以上實(shí)施例，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的情況下，還可以包括更多其他等效實(shí)施例，而本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求決定。