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      一種高品質(zhì)因子的全介質(zhì)超材料諧振裝置的制作方法

      文檔序號:11580532閱讀:665來源:國知局
      一種高品質(zhì)因子的全介質(zhì)超材料諧振裝置的制造方法
      本發(fā)明涉及一種諧振裝置,屬于超材料
      技術領域
      。
      背景技術
      :全介質(zhì)超材料是一種人工設計制作的亞波長周期性介質(zhì)諧振結構材料。由于全介質(zhì)超材料能夠非常容易操控電磁波的響應和極低的損耗,可以獲得自然界介質(zhì)不能獲得的特性而受到廣泛重視。目前在生物傳感、隱身衣、負折射率、光子器件等領域具有非常重要的應用。目前對金屬超材料諧振器,由于金屬的歐姆損耗和諧振輻射損耗使提高q值(qualityfactory,品質(zhì)因子,諧振峰中心頻率除以諧振峰寬度,諧振寬度以fwhm(fullwidthathalfmaxium)計算)成為非常難以解決的問題。而全介質(zhì)超材料可以克服金屬損耗和輻射損耗,為實現(xiàn)高q諧振提供了可能性。但目前高品質(zhì)因子及實現(xiàn)高q電磁諧振的全介質(zhì)超材料設計方法還很少。技術實現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的是提供一種具有高品質(zhì)因子的全介質(zhì)超材料諧振裝置。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所采取的技術方案是:本發(fā)明高品質(zhì)因子的全介質(zhì)超材料諧振裝置包括基底和位于基底的上表面上的二維周期性介質(zhì)諧振單元,所述基底由介質(zhì)材料制作,每個所述介質(zhì)諧振單元為橫截面為矩形的介質(zhì)條,所述介質(zhì)條的長度、寬度和高度滿足以下條件:a≥2b,a≥2.5h,1.6a≤λ≤2.4a,其中,a表示介質(zhì)條的長度,b表示介質(zhì)條的寬度,h表示介質(zhì)條的高度,λ為所述諧振裝置的諧振中心波長,所述介質(zhì)諧振單元的介電常數(shù)大于基底的介電常數(shù)。進一步地,入射電磁波與所述介質(zhì)條的上表面垂直,且入射電磁波的電場偏振方向與所述介質(zhì)條的第一側面垂直,第一側面的長度為a、寬度為h。與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點:本發(fā)明的二維周期性介質(zhì)諧振單元結構簡單,由于介質(zhì)條的橫截面為矩形,當介質(zhì)條的幾何參數(shù)滿足以下條件:a≥2b,a≥2.5h,1.6a≤λ≤2.4a(a、b、h分別表示介質(zhì)條的長度、寬度、高度,λ為所述諧振裝置的諧振中心波長)并且諧振單元的介電常數(shù)高于基底時,若入射電磁波與介質(zhì)條的上表面垂直,且入射電磁波的電場偏振方向與介質(zhì)條的第一側面垂直,能夠產(chǎn)生mie高階電磁諧振,獲得很高的諧振品質(zhì)因子。本發(fā)明實現(xiàn)了在傳感、濾波及光納米器件等方面的重要應用。附圖說明圖1為本發(fā)明高品質(zhì)因子的全介質(zhì)超材料諧振裝置的一種結構示意圖。圖2為圖1的俯視圖。圖3為圖1的左視圖。圖4為本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置在入射電磁波的電場偏振方向為x方向的情況下由有限元算法計算得到在580納米—740納米的透射率譜曲線。圖5為本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置在介質(zhì)條的高度和寬度固定,長度變化時,入射電磁波的電場偏振方向為x方向的情況下由有限元法計算得到在585納米—740納米的透射率譜曲線。圖6為本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置在介質(zhì)條的高度和長度固定,寬度變化時,入射電磁波的電場偏振方向為x方向的情況下由有限元法計算得到在585納米—780納米的透射率譜曲線。具體實施方式以下結合附圖進一步詳細說明本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置的結構。如圖1至圖3所示,本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置包括基底21和位于基底21的上表面上的二維周期性介質(zhì)諧振單元。基底21由介質(zhì)材料制作而成。所謂二維周期性介質(zhì)諧振單元是由多個介質(zhì)諧振單元按二維周期性分布構成(參見圖2)。在本發(fā)明中,每個介質(zhì)諧振單元為一介質(zhì)條12,該介質(zhì)條12的橫截面為矩形。具體地說,如圖1至圖3所示,若以a表示介質(zhì)條12的長度,b表示介質(zhì)條12的寬度,h表示介質(zhì)條12的高度,則介質(zhì)條12的橫截面的長度為a、寬度為b。并且,介質(zhì)條12的長度、寬度和高度滿足以下條件:a≥2b,a≥2.5h,1.6a≤λ≤2.4a,其中,λ為本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置的諧振中心波長。此外,在本發(fā)明中,介質(zhì)諧振單元的介電常數(shù)大于基底21的介電常數(shù)。如圖3所示,本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置使用時,入射電磁波朝著介質(zhì)條12的上表面射入,并且與介質(zhì)條12的上表面垂直,且入射電磁波的電場偏振方向與介質(zhì)條12的第一側面121垂直。如圖3所示,第一側面121的長度為a、寬度為h。在圖1和圖2中,第一側面121為介質(zhì)條12的左側面。需要說明的是,如圖1至圖3所示,入射電磁波的電場偏振方向與介質(zhì)條12的第一側面121垂直是指入射電磁波的電場偏振方向與x軸方向相同。圖3中,k為波矢,即為入射電磁波的傳播方向,e為電場偏振方向,h為磁場偏振方向。以下以基底21的材料為石英、介質(zhì)條12為硅條為例對本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置作進一步的說明。在本實施例中,硅條的介電常數(shù)為11.9,硅條的長度a為340納米、寬度b為150納米、高度h為100納米?;?1的材料為石英,其折射率n為1.46(介電常數(shù)為2.1316)。如圖2所示,在本實施例中,四個硅條構成二維周期性介質(zhì)諧振單元,其中,沿y軸方向的周期長度py為440納米,沿x軸方向的周期長度px為400納米。將本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置用有限元法計算得到在580納米—740納米范圍的透射率譜圖(如圖4所示)。從圖4中可以看出,在中心波長為594納米和674.5納米處各有一個諧振,即為介質(zhì)mie諧振。由mie諧振理論和電磁場空間矢量圖(未示出)可以判斷,該兩個諧振分別為mie磁偶極諧振和電偶極諧振。其中,594納米處磁諧振的q值較低,為44,對諧振單元的幾何參數(shù)不敏感;674.5納米處電諧振的q值較高,為218,受介質(zhì)諧振單元的幾何參數(shù)(如介質(zhì)條的長、寬等幾何參數(shù))的影響較大。圖5為本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置在介質(zhì)條12的高度(100nm)和寬度(150nm)固定,而長度變化時,入射電磁波的電場偏振方向與介質(zhì)條12的第一側面121垂直(即沿著x軸方向)的情況下由有限元法計算得到在585納米—740納米的透射率譜曲線。從圖5中可以看出,本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置在中心波長590納米~610納米范圍內(nèi)為磁諧振,670納米~720納米范圍內(nèi)為電諧振;并且,本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置的諧振中心波長隨介質(zhì)條12的長度增大而變大,其中電諧振的q值隨介質(zhì)條12的長度的變化而有較大的變化。表1中示出了在硅條的寬度和高度不變時,本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置的電諧振中心波長和品質(zhì)因子隨硅條長度的變化而發(fā)生變化。表1由表1可以看出,本實施例獲得的全介質(zhì)超材料諧振裝置當介質(zhì)諧振單元的長度a從340納米增大到430納米時,相應的電諧振品質(zhì)因子從218增大至25660,且介質(zhì)諧振單元的長度a越接近py時,電諧振q值越大。圖6為本實施例獲得的諧振裝置在介質(zhì)諧振單元的高度(100nm)和長度(420nm)固定,而寬度變化時,入射電磁波e的電場偏振方向為x軸方向的情況下,由有限元法計算得到在585納米—780納米的透射率譜曲線。從圖6中可以看出,全介質(zhì)超材料諧振裝置在580納米—630納米范圍內(nèi)為磁諧振,在670納米—760納米范圍內(nèi)為電諧振,其中,全介質(zhì)超材料諧振裝置的諧振中心波長隨著介質(zhì)諧振單元的寬度的變化而變化,且電諧振q值的變化較大,可以實現(xiàn)很高q值。表2中示出了硅條在不同寬度時,全介質(zhì)超材料諧振裝置的電諧振中心波長和品質(zhì)因子的變化。表2b(納米)λ(納米)電諧振q值120656.512100130676.78800140697.77270150718.36080160737.951501707564560由表2可以看出,當介質(zhì)諧振單元的寬度變小時,全介質(zhì)超材料諧振裝置的電諧振品質(zhì)因子變大;當介質(zhì)諧振單元的寬度為120納米時,全介質(zhì)超材料諧振裝置的電諧振品質(zhì)因子為12100,已具有極高的電諧振品質(zhì)因子。由上可知,本發(fā)明全介質(zhì)超材料諧振裝置通過改變介質(zhì)條12的長、寬、高等幾何參數(shù),可以在不同程度上調(diào)節(jié)電諧振中心波長的大小和電諧振品質(zhì)因子的大小,獲得極高的電諧振品質(zhì)因子。本發(fā)明高品質(zhì)因子的全介質(zhì)諧振裝置可以應用于濾波器、超靈敏傳感器、負折射率等領域,用于制作光波段、太赫茲及微波等波段的高性能器件和超靈敏度傳感器等。當前第1頁12
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