技術特征:
技術總結(jié)
本發(fā)明提供一種減壓干燥設備,包括密封腔室,所述密封腔室設置有承載平臺,所述承載平臺用以承載表面涂布有光刻膠的基板,所述承載平臺上還設置有溫度調(diào)節(jié)模塊,以對所述基板進行局部溫度調(diào)控,使得所述基板表面各區(qū)域的光刻膠干燥程度均勻;本發(fā)明能夠使基板表面各區(qū)域的光刻膠干燥程度均勻,從而提高基板表面光刻膠的顯影均一性。
技術研發(fā)人員:金建龍
受保護的技術使用者:武漢華星光電技術有限公司
技術研發(fā)日:2017.06.22
技術公布日:2017.09.29