技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種基于磁場可調控閃耀光柵的制造方法，包括以下步驟：硅模具的制造：在清洗干凈的硅片表面濺射一層金屬薄膜A，然后涂膠、曝光、顯影、腐蝕金屬薄膜A、干法刻蝕硅制備硅模具A；按照同樣的步驟，制備模具B；翻模制備柔性磁性聚合物柵線；反射面的制造：將配置好的聚合物混合物涂覆在模具B表面，再施加一個襯底，加熱固化聚合物，脫模得到柔性聚合物柵線，在柔性聚合物柵線表面濺射沉積厚度為20~300nm金屬薄膜C得到反射面；利用磁場調控反射面的轉移，實現(xiàn)閃耀光柵閃耀角的調控。本發(fā)明利用磁場精確調控閃耀光柵的閃耀角；本發(fā)明具備可精確調控閃耀角、響應快、成本低等優(yōu)點。

技術研發(fā)人員：史永勝;劉紅忠;尹磊;陳邦道
受保護的技術使用者：常州瑞豐特科技有限公司
技術研發(fā)日：2017.06.27
技術公布日：2017.09.12