本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,本發(fā)明涉及一種彩膜基板,同時還涉及運用了該彩膜基板的顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù):
wgp(wiregridpolarizer,即線柵偏振片)目前被廣泛應(yīng)用于顯示領(lǐng)域,其結(jié)構(gòu)如圖1所示,其線柵采用具有較高導(dǎo)電率的金屬材料,如al等。線柵偏振片的線柵采用slit分布,即相鄰線柵之間形成縫隙,通常,線柵的寬度約為50nm,縫隙寬度約為50nm,線柵高度約為150nm。線柵偏振片的分光原理為:外接自然光(可認為是與傳播方向垂直的平面內(nèi)的正交光組合而成)照射到線柵偏振片表面時,和線柵縫隙平行的光(p即光)被反射,和線柵縫隙垂直的光(即s光)發(fā)生折射。
線柵偏振片不同于常規(guī)的吸收型偏光片,常規(guī)的吸收型偏光片利用透過和吸收而得到偏振光,而線柵偏振片中面板發(fā)出的p光經(jīng)反射后被tft基板二次反射后成為s光,因此可繼續(xù)利用,所以面板的亮度得到提高。但是,當將線柵偏振片應(yīng)用于彩膜側(cè)時,環(huán)境光被線柵偏振片反射后會降低面板對比度。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的旨在提供一種彩膜基板,其特點是可降低反光作用,同時不影響經(jīng)過線柵偏振片出射的s光的亮度。
本發(fā)明的另一目的旨在提供一種顯示面板,其運用了所述彩膜基板,降低了反光作用,同時不影響顯示亮度。
本發(fā)明的再一目的旨在提供一種顯示裝置,其運用了所述顯示面板,同理,所述顯示裝置包含了所述顯示面板所具有的特點。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
本發(fā)明提供一種彩膜基板,包括依次層疊設(shè)置的彩膜層、相位差層及第一線柵偏振片,所述相位差層包括交替設(shè)置的若干第一相移結(jié)構(gòu)和第二相移結(jié)構(gòu),所述相位差層能夠使經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)的p光與經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)的p光產(chǎn)生相位差。
較佳地,經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)入射后又經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)而出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)入射后又經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)而出射的p光的相位差為π,依次經(jīng)所述相位差層、第一線柵偏振片透射的s光無相位差。
優(yōu)選地,所述第一相移結(jié)構(gòu)采用第一介質(zhì),所述第二相移結(jié)構(gòu)采用第二介質(zhì),并且所述第一介質(zhì)和第二介質(zhì)為折射率不同的單軸介質(zhì),二者滿足:(nxa-nxb)*d=λ/2,(nya-nyb)*d=0;其中,nxa、nxb分別表示第一、第二介質(zhì)中與p光偏振方向平行的方向上的折射率,nya、nyb分別表示第一、第二介質(zhì)中與s光偏振方向平行的方向上的折射率,d表示所述相位差層的厚度,λ表示入射光波長。
較佳地,所述第一相移結(jié)構(gòu)和第二相移結(jié)構(gòu)皆呈條狀。
優(yōu)選地,所述相位差層中兩相鄰的第一相移結(jié)構(gòu)和第二相移結(jié)構(gòu)之間通過掩膜法形成縫隙。
相應(yīng)地,本發(fā)明提供一種顯示面板,其包括依次層疊設(shè)置的陣列基板、液晶層及上述任意一項技術(shù)方案所述的彩膜基板。
優(yōu)選地,所述液晶層采用va或tn模式液晶,所述顯示面板還包括設(shè)于所述第一線柵偏振片下方的ito層。
具體地,所述陣列基板包括依次層疊設(shè)置的tft層、第二線柵偏振片及襯底基板,或者,所述陣列基板包括依次層疊設(shè)置的tft層、襯底基板和第二線柵偏振片。
較佳地,所述第一線柵偏振片和第二線柵偏振片的線柵相互正交。
相應(yīng)地,本發(fā)明還提供一種顯示裝置,其上述任意一項技術(shù)方案所述的顯示面板。
相比現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的方案具有以下優(yōu)點:
本發(fā)明提供的彩膜基板中,所述相位差層能夠使經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)的p光與經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)的p光產(chǎn)生相位差,從而使得經(jīng)所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)出射的p光與經(jīng)所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)出射的p光在靠近所述彩膜層的一側(cè)產(chǎn)生干涉相消,因此可降低所述彩膜基板的反光作用。
通過將所述第一相移結(jié)構(gòu)采用為第一介質(zhì),第二相移結(jié)構(gòu)采用第二介質(zhì),一方面,由于(nxa-nxb)*d=λ/2,因此經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)入射后由所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)而出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)入射后由所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)而出射的p光在靠近所述彩膜層的一側(cè)產(chǎn)生相位差τp=2*π*λ/2/λ=π,即經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)入射后由所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)入射后由所述第一線柵偏振片反射并經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)而出射的p光完全相消;另一方面,由于(nya-nyb)*d=0,因此經(jīng)所述相位差層及第一線柵偏振片透射的s光滿足τs=0,即s光無相位差,無相消作用,故不影響s光的顯示亮度。
本發(fā)明的顯示裝置和顯示面板均包括所述彩膜基板,因此皆具有所述彩膜基板所具有的優(yōu)點,即,降低了反光作用,并且不影響顯示亮度。
本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出,這些將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實踐了解到。
附圖說明
本發(fā)明上述的和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結(jié)合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中線柵偏振片的分光原理示意圖;
圖2為本發(fā)明的彩膜基板的一種典型實施例的分解示意圖;
圖3為本發(fā)明的顯示面板的一種典型實施例的分解示意圖。
具體實施方式
下面詳細描述本發(fā)明的實施例,所述實施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的,僅用于解釋本發(fā)明,而不能解釋為對本發(fā)明的限制。此外,如果已知技術(shù)的詳細描述對于示出本發(fā)明的特征是不必要的,則將其省略。
請參閱圖2,本發(fā)明的彩膜基板100,包括依次層疊設(shè)置的上基板層40、彩膜層30、相位差層20及第一線柵偏振片10。具體地,所述相位差層20包括交替設(shè)置的若干第一相移結(jié)構(gòu)201和第二相移結(jié)構(gòu)202,優(yōu)選地,所述第一相移結(jié)構(gòu)201和第二相移結(jié)構(gòu)202沿所述相位差層20的寬度方向交替設(shè)置。所述第一線柵偏振片10包括若干線柵101,且相鄰兩線柵101之間形成線柵縫隙102。公知地,入射光可以認為是處于與其傳播方向垂直平面內(nèi)的正交光(即p光和s光)組合而成。當入射光照射到所述第一線柵偏振片10表面時,與所述線柵縫隙102平行的光(即沿圖中x方向的p光)被反射,與所述線柵縫隙102垂直的光(即沿圖中y方向的s光)發(fā)生折射通過所述第一線柵偏振片10。所述相位差層20能夠使分別經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201的p光與經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)202的p光產(chǎn)生相位差,圖中x(ψ-τ)和x(ψ)分別表示分別經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201入射后又經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)201而出射的p光、經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202入射后又經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202而出射的p光的波動函數(shù),其中,τ表示相位差。
可見,本發(fā)明提供的彩膜基板100中,所述相位差層20能夠使分別經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201的p光與經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)202的p光產(chǎn)生相位差,從而使得經(jīng)所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201而出射的p光與經(jīng)所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202而出射的p光在靠近所述彩膜層30一側(cè)產(chǎn)生干涉相消,降低了所述彩膜基板100的反光作用。
較佳地,所述相位差層20能夠經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)201入射后又經(jīng)第一相移結(jié)構(gòu)201而出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202入射后又經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202而出射的p光的相位差為π,換言之,經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)201入射后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201而出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202入射后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第二相移結(jié)構(gòu)202而出射的p光的相位差為π,因此,經(jīng)所述第一相移結(jié)構(gòu)201入射后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第一相移結(jié)構(gòu)201而出射的p光與經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202入射后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)所述第二相移結(jié)構(gòu)202而出射的p光在靠近所述彩膜層30的一側(cè)能夠完全干涉相消,從而降低反光作用。并且,經(jīng)所述相位差層20、第一線柵偏振片10透射的s光無相位差,故不影響s光的顯示亮度。
較佳地,所述第一相移結(jié)構(gòu)201采用第一介質(zhì),所述第二相移結(jié)構(gòu)202采用第二介質(zhì),并且所述第一介質(zhì)201和第二介質(zhì)202為折射率不同的單軸介質(zhì),二者滿足如下條件:(nxa-nxb)*d=λ/2,(nya-nyb)*d=0。其中,nxa、nxb分別表示第一、第二介質(zhì)中與p光偏振方向平行的方向上的折射率,nya、nyb分別表示第一、第二介質(zhì)中與s光偏振方向平行的方向上的折射率,d表示所述相位差層的厚度,λ表示入射光波長。
由于(nxa-nxb)*d=λ/2,因此經(jīng)所述第一介質(zhì)201入射后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第一介質(zhì)201而出射的p光與經(jīng)所述第二介質(zhì)202后由所述第一線柵偏振片10反射并經(jīng)過所述第二介質(zhì)202而出射的p光在靠近所述彩膜層30的一側(cè)產(chǎn)生相位差τp=2*π*λ/2/λ=π,即經(jīng)所述第一介質(zhì)201入射后又經(jīng)所述第一介質(zhì)201而出射的p光與經(jīng)所述第二介質(zhì)202入射后又經(jīng)所述第二介質(zhì)而出射的p光完全相消;同時,由于(nya-nyb)*d=0,因此經(jīng)過所述相位差層20及第一線柵偏振片10透射的s光滿足τs=0,即s光無相位差,無相消作用,故不影響s光的顯示亮度。
較佳地,所述第一相移結(jié)構(gòu)201和第二相移結(jié)構(gòu)202皆呈條狀。
優(yōu)選地,所述相位差層20中,兩相鄰的第一相移結(jié)構(gòu)201和第二相移結(jié)構(gòu)202間通過掩膜法形成縫隙,以形成毗鄰的條狀縫隙。
進一步地,請參閱圖3,本發(fā)明還提供一種顯示面板1000。所述顯示面板1000可以為led面板或oled面板等。所述顯示面板1000包括依次層疊設(shè)置的陣列基板300、液晶層200以及所述彩膜基板100。
由于所述顯示面板1000運用了所述彩膜基板100,因此所述顯示面板1000具有所述彩膜基板所具有的優(yōu)點,即,降低了反光作用,并且不影響所述顯示面板1000的顯示亮度。
具體地,所述液晶層200可采用ips、va或tn模式的液晶。而當所述液晶層采用va或tn模式液晶時,所述顯示面板1000還包括設(shè)于所述第一線柵偏振片10下方的ito層(indiumtinoxide,摻稀氧化銦,未圖示),以提高透光率。
具體地,所述陣列基板300包括依次層疊設(shè)置的tft層(thinfilmtransistor,薄膜晶體管)301、第二線柵偏振片302及襯底基板303。其中,所述第二偏振片302和襯底基板303的位置可對調(diào),而當所述襯底基板303處于所述tft層301和所述第二線柵偏振片302之間時,所述第二線柵偏振片302可用常規(guī)的偏光片代替。所述襯底基板303可以為玻璃基板或柔性基板。
進一步地,所述第一線柵偏振片10和第二線柵偏振片302的線柵相互正交,亦即二者的線柵縫隙正交,從而可選擇偏振方向特定的偏振光。
對應(yīng)地,本發(fā)明還提供一種顯示裝置。所述顯示裝置可以為電子紙、手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。由于運用了所述顯示面板1000,因此所述顯示裝置也具有所述顯示面板1000所具有的優(yōu)點,故不贅述。
以上所述僅是本發(fā)明的部分實施方式,應(yīng)當指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍。