本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板、顯示面板、顯示裝置。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有產(chǎn)品的掩膜板(mask)上設(shè)計(jì)有曝光間隙控制窗口(Gap Window)，Gap Window用于測(cè)量曝光時(shí)mask與基板表面的距離?，F(xiàn)有技術(shù)針對(duì)一些Dummy區(qū)較窄的產(chǎn)品，這里的Dummy區(qū)指相鄰兩次曝光之間的區(qū)域，一般該區(qū)域?yàn)闆](méi)有圖案的空白區(qū)，在設(shè)計(jì)時(shí)會(huì)將相鄰兩次曝光之間的Gap Window設(shè)計(jì)為錯(cuò)位式設(shè)計(jì)，如圖1所示，這樣就導(dǎo)致mask設(shè)計(jì)時(shí)除了設(shè)計(jì)非對(duì)稱的兩組Gap Window21外，還需設(shè)計(jì)未開(kāi)口區(qū)域22，如圖2所示。

如圖1和圖2所示，在第一次曝光11時(shí)，mask未開(kāi)口區(qū)域22對(duì)應(yīng)位置在基板上為空白，無(wú)圖案，這樣在相鄰的第二次曝光12時(shí)，還能在此位置進(jìn)行第二次曝光的間隙(Gap)測(cè)量。

但是這樣的設(shè)計(jì)，會(huì)導(dǎo)致圖1中基板邊緣的區(qū)域01到區(qū)域08這八個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)位置處因曝光被遮擋而無(wú)法形成圖案，后續(xù)在顯示面板13切割時(shí)，區(qū)域01到區(qū)域08會(huì)因無(wú)圖案而導(dǎo)致支撐力不足，玻璃形變形成應(yīng)力積累，造成應(yīng)力性Gap差異，導(dǎo)致Panel周邊不良的發(fā)生。

具體如圖3所示，在顯示面板切割時(shí)，切割位置(圖中箭頭方向所示的位置)附近因?yàn)闊o(wú)圖案而導(dǎo)致支撐力不足，彩膜基板形變形成應(yīng)力積累，造成應(yīng)力性Gap差異。顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，以及位于陣列基板和彩膜基板之間的液晶層33和隔墊物34，以及密封陣列基板和彩膜基板的封框膠35；圖3中陣列基板僅示出了位于襯底基板31上的金屬層32，彩膜基板僅示出了位于襯底基板31上的紅色(R)彩膜層36、綠色(G)彩膜層37、藍(lán)色(B)彩膜層38和黑矩陣39。

綜上所述，現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)顯示面板切割時(shí)，由于切割區(qū)域無(wú)圖案而導(dǎo)致支撐力不足，造成應(yīng)力性Gap差異，導(dǎo)致顯示面板周邊不良的發(fā)生。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種基板、顯示面板、顯示裝置，用以降低顯示面板切割位置附近應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板，包括襯底基板，其中，還包括位于所述襯底基板上的光刻膠阻塊；

在任一次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域，所述光刻膠阻塊的位置，與對(duì)該基板曝光時(shí)使用的掩膜板上設(shè)置的至少一曝光間隙控制窗口的位置對(duì)應(yīng)；以及

所述光刻膠阻塊的形狀與所述曝光間隙控制窗口的形狀相匹配。

由本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板，由于基板上設(shè)置有光刻膠阻塊，光刻膠阻塊的位置，與對(duì)該基板曝光時(shí)使用的掩膜板上設(shè)置的至少一曝光間隙控制窗口的位置對(duì)應(yīng)，因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型實(shí)施例的光刻膠阻塊的設(shè)置能夠起到一定的支撐作用，進(jìn)而能夠降低顯示面板切割位置附近應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

較佳地，所述光刻膠阻塊關(guān)于所述基板的中心對(duì)稱軸對(duì)稱分布。

較佳地，在相鄰兩次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的兩曝光區(qū)域，行方向上相鄰的兩曝光區(qū)域之間的所述光刻膠阻塊呈一列分布。

較佳地，在每一次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域，每一所述光刻膠阻塊的位置，與所述掩膜板上設(shè)置的每一曝光間隙控制窗口的位置一一對(duì)應(yīng)。

較佳地，相鄰的兩曝光區(qū)域之間的所述光刻膠阻塊的高度與其它位置處的所述光刻膠阻塊的高度相等。

較佳地，所述光刻膠阻塊的高度為3.6微米到3.8微米。

較佳地，所述光刻膠阻塊的材料為透明感光有機(jī)材料。

較佳地，還包括位于所述襯底基板上的隔墊物，所述光刻膠阻塊的材料與所述隔墊物的材料相同。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括上述的基板。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述的顯示面板。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)曝光后基板與掩膜板Gap Window對(duì)應(yīng)位置處的示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)掩膜板的Gap Window設(shè)計(jì)示意圖；

圖3為現(xiàn)有技術(shù)對(duì)顯示面板切割時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為曝光時(shí)測(cè)量掩膜板與基板表面的間距大小的原理結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的掩膜板的Gap Window設(shè)計(jì)示意圖；

圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的基板包括的光刻膠阻塊的分布示意圖；

圖9為對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示面板切割時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種基板、顯示面板、顯示裝置，用以降低顯示面板切割位置附近應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

下面首先介紹測(cè)量曝光時(shí)mask與基板表面距離的方式。

如圖4所示，曝光機(jī)以目前常用的接近式曝光機(jī)為例，曝光時(shí)掩膜板41與基板42表面的間距大小是決定曝光后形成的圖案尺寸的關(guān)鍵參數(shù)。掩膜板41與基板42表面的間距(Gap)測(cè)量時(shí)利用光的干涉原理進(jìn)行測(cè)量，通過(guò)電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)捕捉測(cè)量掩膜板41下表面和基板42上表面的反射光線，根據(jù)光程差換算得到Gap值。圖4中示出了接近式曝光機(jī)測(cè)量Gap時(shí)的結(jié)構(gòu)件43，該結(jié)構(gòu)件43包括發(fā)出白光的有機(jī)發(fā)光二極管431、負(fù)壓mask432和測(cè)試部件433，結(jié)構(gòu)件43的具體工作原理與現(xiàn)有技術(shù)相同，這里不再贅述。

下面結(jié)合附圖詳細(xì)介紹本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的基板。

附圖中各膜層厚度和區(qū)域大小、形狀不反應(yīng)各膜層的真實(shí)比例，目的只是示意說(shuō)明本實(shí)用新型內(nèi)容。

如圖5所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供了一種基板，包括襯底基板50，位于襯底基板50上的光刻膠阻塊51，在任一次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域，光刻膠阻塊51的位置，與對(duì)該基板曝光時(shí)使用的掩膜板61上設(shè)置的至少一曝光間隙控制窗口611的位置對(duì)應(yīng)；以及光刻膠阻塊51的形狀與曝光間隙控制窗口611的形狀相匹配。

如圖6所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的曝光間隙控制窗口611關(guān)于掩膜板61的中心對(duì)稱軸612對(duì)稱，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中采用的掩膜板不需要設(shè)計(jì)未開(kāi)口區(qū)域。

本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基板上設(shè)置有光刻膠阻塊，光刻膠阻塊的位置，與對(duì)該基板曝光時(shí)使用的掩膜板上設(shè)置的至少一曝光間隙控制窗口的位置對(duì)應(yīng)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，光刻膠阻塊的設(shè)置能夠起到一定的支撐作用，進(jìn)而能夠降低顯示面板切割位置附近應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

具體地，如圖5所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊51關(guān)于基板的中心對(duì)稱軸52對(duì)稱分布設(shè)置，這樣，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊51能夠更好的起到支撐作用。

具體地，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊的高度為3.6微米(μm)到3.8μm，目前對(duì)基板曝光時(shí)，掩膜板與基板表面的間距在百微米數(shù)量級(jí)，而本實(shí)用新型具體實(shí)施例中設(shè)置的光刻膠阻塊的高度為3.6μm到3.8μm，因此本實(shí)用新型具體實(shí)施例曝光過(guò)程中的間距測(cè)量時(shí)，曝光間隙控制窗口611對(duì)應(yīng)位置處存在光刻膠阻塊51不會(huì)影響間距測(cè)量的準(zhǔn)確性。因此，本實(shí)用新型具體實(shí)施例能夠在不影響間距測(cè)量的前提下，改善窄Dummy產(chǎn)品與mask未開(kāi)口區(qū)域?qū)?yīng)位置處無(wú)支撐力，切割應(yīng)力異常導(dǎo)致的周邊發(fā)黃不良的產(chǎn)生。

具體地，如圖7所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基板還包括位于襯底基板50上的黑矩陣39、彩膜層(紅色彩膜層36、綠色彩膜層37和藍(lán)色彩膜層38)和隔墊物34，即本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基板為彩膜基板，其中黑矩陣、彩膜層和隔墊物的具體設(shè)置方式與現(xiàn)有技術(shù)相同，這里不再贅述。當(dāng)然，實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的基板還可以為陣列基板，即將光刻膠阻塊51設(shè)置在陣列基板一側(cè)，不過(guò)陣列基板一側(cè)綁定有各種電路板，以及陣列基板與彩膜基板相比距離切割位置更遠(yuǎn)，因此為了使得在切割時(shí)光刻膠阻塊51能夠起到更好的支撐作用，優(yōu)選將光刻膠阻塊51設(shè)置于彩膜基板一側(cè)。

具體地，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊的材料為透明感光有機(jī)材料，優(yōu)選光刻膠阻塊的材料與隔墊物的材料相同，這樣在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，能夠?qū)⒐饪棠z阻塊與隔墊物在同一次構(gòu)圖工藝中制作形成，且能夠降低光刻膠阻塊的材料選取成本。

具體地，如圖8所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中在相鄰兩次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的兩曝光區(qū)域(如曝光區(qū)域81和曝光區(qū)域82)，本實(shí)用新型具體實(shí)施例以基板需要進(jìn)行四次曝光為例；每一曝光區(qū)域與掩膜板(參見(jiàn)圖6所示)對(duì)應(yīng)，實(shí)際曝光過(guò)程中，掩膜板需要移動(dòng)四次，行方向上相鄰的兩曝光區(qū)域81和82之間的光刻膠阻塊51呈一列分布。具體實(shí)施時(shí)，本實(shí)用新型具體實(shí)施例在每一次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域，每一光刻膠阻塊51的位置，與掩膜板上設(shè)置的每一曝光間隙控制窗口的位置一一對(duì)應(yīng)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具體實(shí)施例并不存在因曝光被遮擋而無(wú)法形成圖案的情況，并且由于光刻膠阻塊51的設(shè)置，能夠很好的降低光刻膠阻塊51位置附近切割應(yīng)力的積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

圖8中本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊51對(duì)稱設(shè)置，這種對(duì)稱設(shè)計(jì)同樣可以達(dá)到節(jié)省占位面積的目的，在滿足基板最大化有效利用的同時(shí)還可以改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

具體實(shí)施時(shí)，如圖8所示，針對(duì)圖中虛線區(qū)域示出的相鄰的兩曝光區(qū)域81和82，相鄰的兩曝光區(qū)域81和82之間的光刻膠阻塊51的高度與其它位置處的光刻膠阻塊51的高度相等，即在該相鄰的兩曝光區(qū)域81和82之間的對(duì)應(yīng)位置處，Gap Window區(qū)域第一次曝光過(guò)程中進(jìn)行曝光，第二次曝光過(guò)程中遮擋不曝光，以保持光刻膠阻塊51在基板內(nèi)的高度均一性，具體實(shí)施時(shí)，第二次曝光過(guò)程中可以通過(guò)曝光設(shè)備中設(shè)置的遮擋部件進(jìn)行遮擋。

基于同一實(shí)用新型構(gòu)思，本實(shí)用新型具體實(shí)施例還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的上述基板。

下面結(jié)合附圖說(shuō)明本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的光刻膠阻塊的設(shè)置能夠降低顯示面板切割位置附近的應(yīng)力積累。

如圖9所示，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的顯示面板包括本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的上述基板，與該基板相對(duì)設(shè)置的對(duì)向基板91，以及位于該基板與對(duì)向基板91之間的液晶層33和隔墊物34，以及密封對(duì)向基板91和該基板的封框膠35，具體地，對(duì)向基板91為陣列基板；該基板包括襯底基板50、位于襯底基板50上的黑矩陣39和光刻膠阻塊51，圖中箭頭方向表示顯示面板切割的位置。

本實(shí)用新型具體實(shí)施例中的顯示面板在切割時(shí)，與現(xiàn)有技術(shù)相比，即如圖9和圖3所示，光刻膠阻塊51的設(shè)置能夠起到一定的支撐作用，進(jìn)而能夠降低顯示面板切割位置附近處應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

基于同一實(shí)用新型構(gòu)思，本實(shí)用新型具體實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供的上述顯示面板，該顯示裝置可以為：手機(jī)、平板電腦、液晶電視、有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)電視、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。對(duì)于該顯示裝置的其它必不可少的組成部分均為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解具有的，在此不予贅述。

綜上所述，本實(shí)用新型具體實(shí)施例提供一種基板，包括襯底基板，以及位于襯底基板上的光刻膠阻塊；在任一次曝光時(shí)對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域，光刻膠阻塊的位置，與對(duì)該基板曝光時(shí)使用的掩膜板上設(shè)置的至少一曝光間隙控制窗口的位置對(duì)應(yīng)；以及光刻膠阻塊的形狀與曝光間隙控制窗口的形狀相匹配。因此，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具體實(shí)施例設(shè)置的光刻膠阻塊能夠起到一定的支撐作用，進(jìn)而能夠降低顯示面板切割位置處應(yīng)力積累，改善顯示面板周邊不良的發(fā)生。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。