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      用于量測(cè)系統(tǒng)的光學(xué)布置的制作方法

      文檔序號(hào):40397481發(fā)布日期:2024-12-20 12:20閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種量測(cè)系統(tǒng),包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,約50%的所述輻射透射穿過(guò)所述至少一個(gè)多孔圖案的兩個(gè)透射象限,所述兩個(gè)透射象限形成所述至少一個(gè)多孔圖案的所述透射部分。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,來(lái)自所述衍射光柵目標(biāo)的正第一衍射階衍射輻射和負(fù)第一衍射階衍射輻射由所述至少多孔圖案上的兩個(gè)反射象限反射,所述兩個(gè)反射象限位于所述光學(xué)元件的背側(cè)或不面向輻射源的一側(cè)上,所述兩個(gè)反射象限形成所述至少一個(gè)多孔圖案的所述反射部分。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述光學(xué)元件為照射模式選擇器。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述照射模式選擇器能夠移動(dòng)以促進(jìn)從其它不同的可能的多孔圖案中選擇所述至少一個(gè)多孔圖案。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述照射模式選擇器為可旋轉(zhuǎn)輪,在所述可旋轉(zhuǎn)輪中形成有所述至少一個(gè)多孔圖案和所述其它不同的可能的多孔圖案。

      7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述至少一個(gè)多孔圖案包括四個(gè)象限,其中,相對(duì)的第一象限和第三象限包括形成所述透射部分的兩個(gè)相對(duì)的孔,并且相對(duì)的第二象限和第四象限包括所述至少一個(gè)多孔圖案的所述反射部分。

      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述兩個(gè)相對(duì)的孔被配置成:將所述輻射拆分成第一子束和第二子束,引導(dǎo)所述第一子束穿過(guò)所述量測(cè)系統(tǒng)的第一光學(xué)支路以形成第一斑,以及引導(dǎo)所述第二子束穿過(guò)所述量測(cè)系統(tǒng)的第二光學(xué)支路以形成第二斑。

      9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述反射部分被配置成使衍射的正一階輻射和負(fù)一階輻射沿著所述第二光學(xué)路徑反射通過(guò)所述量測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)器支路并反射至所述檢測(cè)器;其中所述檢測(cè)器被配置成接收所述衍射的一階輻射且產(chǎn)生檢測(cè)信號(hào)。

      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的量測(cè)系統(tǒng),還包括配置成透射來(lái)自所述至少一個(gè)多孔圖案的所述透射部分的透射輻射的對(duì)準(zhǔn)支路分束器,其中,所述對(duì)準(zhǔn)支路分束器與所述檢測(cè)器支路不位于共同路徑中。

      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述對(duì)準(zhǔn)支路分束器為透射型光學(xué)立方體。

      12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述對(duì)準(zhǔn)支路分束器定位在所述光學(xué)元件與所述衍射光柵目標(biāo)之間,并且其中所述光學(xué)元件未聯(lián)接至所述量測(cè)系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)支路。

      13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述至少一個(gè)多孔圖案包括形成所述透射部分的兩個(gè)相對(duì)的孔,每個(gè)相對(duì)的孔包括被成形為圓的扇區(qū)的孔口。

      14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述光學(xué)元件被配置成替換所述量測(cè)系統(tǒng)中的四象限非偏振分束器。

      15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述反射部分是通過(guò)將反射涂層涂覆在光學(xué)元件的主體的被選擇的部分上而被形成的。

      16.根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),還包括所述輻射源,所述輻射源被配置成產(chǎn)生沿著所述第一光學(xué)路徑的所述輻射。

      17.根據(jù)權(quán)利要求1至16中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),還包括所述檢測(cè)器,所述檢測(cè)器被配置成從在衍射光柵目標(biāo)上的第一照射斑和第二照射斑接收衍射和反射的一階輻射且產(chǎn)生檢測(cè)信號(hào)。

      18.根據(jù)權(quán)利要求1至17中的任一項(xiàng)所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述光學(xué)元件形成對(duì)準(zhǔn)傳感器和/或重疊檢測(cè)傳感器的一部分。

      19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的量測(cè)系統(tǒng),其中,所述對(duì)準(zhǔn)傳感器和/或所述重疊檢測(cè)傳感器被配置用于半導(dǎo)體晶片并在半導(dǎo)體制造過(guò)程中被使用。

      20.一種量測(cè)系統(tǒng),包括:


      技術(shù)總結(jié)
      一種光學(xué)布置,其消除了四象限非偏振分束器(QNPBS)的使用和對(duì)圖像拼接的需要。如同QNPBS一樣,光學(xué)布置提供增強(qiáng)的透射增益以優(yōu)化系統(tǒng)生產(chǎn)量。量測(cè)系統(tǒng)(600)包括照射模式選擇器(IMS),其包括具有透射部分和反射部分的多孔圖案。IMS(650)定位在系統(tǒng)(600)的光瞳平面(655)中并被配置成:使輻射(604)的透射部分(671)朝向衍射光柵目標(biāo)(610)透射;和使來(lái)自目標(biāo)(610)的衍射輻射沿第二光學(xué)路徑(631)朝向檢測(cè)器(662)反射。IMS(650)上的透射部分和反射部分的區(qū)域解耦同時(shí)優(yōu)化照射光強(qiáng)度和檢測(cè)光強(qiáng)度。來(lái)自目標(biāo)(610)的正、負(fù)第一衍射階衍射輻射可以由多孔圖案的兩個(gè)反射象限反射,這兩個(gè)反射象限位于IMS(650)的背側(cè)或不面向輻射源的一側(cè)(651)上。

      技術(shù)研發(fā)人員:楊光宇,羅克珊娜·雷茲瓦尼納拉吉,尹昶植
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:ASML荷蘭有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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