據(jù)權(quán)利要求21所述的曝光裝置，其中， 使用將所述第一移動(dòng)體W及第二移動(dòng)體的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為由彈黃或者由彈黃和減震器連 結(jié)的至少兩個(gè)W上的剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P,、Pi的具體形式。
23. 根據(jù)權(quán)利要求20?22中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 所述控制部對所述N個(gè)合成量狂。。(n = 1?腳）和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)進(jìn)行 濾波處理，合成所述N個(gè)合成量狂。。(n = 1?腳）的各個(gè)的存在對應(yīng)的諧振模式的頻帶、和 所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)的所述頻帶W外的頻帶來求出所述第=控制量。
24. 根據(jù)權(quán)利要求20?23中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 由增益表示所述傳遞函數(shù)。
25. 根據(jù)權(quán)利要求18?24中任意一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中， 所述第一測量器W及第二測量器的一方W所述第一測量器W及第二測量器的另一方 的測量對象的位置為基準(zhǔn)來測量控制量。
26. -種驅(qū)動(dòng)方法，其是賦予操作量來驅(qū)動(dòng)控制對象的驅(qū)動(dòng)方法，該驅(qū)動(dòng)方法包含： 測量與所述控制對象的第一部分的位置相關(guān)的第一控制量、和與表示包含諧振模式的 行為的所述控制對象的第二部分的位置相關(guān)的第二控制量，該諧振模式相對于所述第一部 分表示的剛體模式反相；W及 對所述第一控制量W及第二控制量的測量結(jié)果進(jìn)行濾波處理來求出第=控制量，并將 使用該第=控制量求出的所述操作量賦予所述控制對象來驅(qū)動(dòng)該控制對象。
27. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，使用所述第一控制量W及第二控制量狂2、Xi)的測量結(jié)果和傳遞函數(shù) (a、P )來求出合成量狂。=a X 2+0 Xi)，并對該合成量和所述第一控制量W及第二控制量 的一方的測量結(jié)果進(jìn)行濾波處理來求出所述第=控制量。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， W與所述第一部分W及第二部分對應(yīng)的傳遞函數(shù)P2、Pi分別包含的與所述諧振模式對 應(yīng)的極點(diǎn)在傳遞函數(shù)a P2+0 Pi中被抵消的方式，來決定所述傳遞函數(shù)（a、0)。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 使用將所述第一部分W及第二部分的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為由彈黃或者由彈黃和減震器連結(jié)的 至少兩個(gè)W上的剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P2、Pi的具體形式。
30. 根據(jù)權(quán)利要求27?29中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，對所述合成量狂。）和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)進(jìn)行濾波處理，合成 所述合成量狂。）的存在所述諧振模式的頻帶、和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)的不存在所 述諧振模式的頻帶，求出所述第=控制量。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，分別經(jīng)由高通濾波器（?。┖途哂信c該高通濾波器相同的截止頻率的 低通濾波器（F1)而合成所述合成量狂。）和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)，求出所述第=控 制量化二Fh狂c)+Fl狂2、Xi))。
32. 根據(jù)權(quán)利要求27?31中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 由增益表示所述傳遞函數(shù)（a、0)。
33. -種曝光方法，其是利用能量束來曝光物體并在所述物體上形成圖案的曝光方法， 該曝光方法包含；通過權(quán)利要求26?32中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，將保持所述物體 并在規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對象進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
34. 根據(jù)權(quán)利要求33所述的曝光方法，其中， 所述移動(dòng)體具有；保持所述物體并移動(dòng)的第一移動(dòng)體、和保持該第一移動(dòng)體并在所述 規(guī)定面上移動(dòng)的第二移動(dòng)體， 所述控制對象的所述第一部分W及第二部分分別包含于所述第一移動(dòng)體W及第二移 動(dòng)體。
35. -種驅(qū)動(dòng)方法，其是賦予操作量來驅(qū)動(dòng)控制對象的驅(qū)動(dòng)方法，該驅(qū)動(dòng)方法包含： 測量與所述控制對象的第一部分的位置相關(guān)的第一控制量、和與表示包含諧振模式的 行為的所述控制對象的第二部分的位置相關(guān)的第二控制量，該諧振模式相對于所述第一部 分表示的剛體模式反相；W及 使用所述第一控制量W及第二控制量狂2、Xi)的測量結(jié)果和多組（N( > 2)組）傳遞函 數(shù)（a。、0 n(n = 1?腳）來求出多個(gè)合成量狂。。=a龍+ 0品(n = 1?腳），對該多個(gè)合 成量和所述第一控制量W及第二控制量的一方的測量結(jié)果進(jìn)行濾波處理來求出所述第= 控制量，并將使用該第=控制量求出的所述操作量賦予所述控制對象來驅(qū)動(dòng)該控制對象。
36. 根據(jù)權(quán)利要求35所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， W與所述第一部分W及第二部分對應(yīng)的傳遞函數(shù)P2、Pi分別包含的與第n個(gè)諧振模式 對應(yīng)的極點(diǎn)在傳遞函數(shù)a?？?+0 "Pi中被抵消的方式，來決定所述多組傳遞函數(shù)中第n組傳 遞函數(shù)（a。、0。)。
37. 根據(jù)權(quán)利要求36所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 使用將所述第一部分W及第二部分的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為由彈黃或者由彈黃和減震器連結(jié)的 至少兩個(gè)W上的剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P2、Pi的具體形式。
38. 根據(jù)權(quán)利要求36或者37所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，對所述多個(gè)合成量狂。。(n = 1?腳）和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)進(jìn) 行濾波處理，合成所述多個(gè)合成量狂。。(n= 1?腳）的各個(gè)的存在對應(yīng)的諧振模式的頻帶、 和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)的所述頻帶W外的頻帶來求出所述第=控制量。
39. 根據(jù)權(quán)利要求35?38中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 由增益表示所述傳遞函數(shù)。
40. 根據(jù)權(quán)利要求35?39中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，其中， 在所述測量中，W所述第一控制量W及第二控制量的一方為基準(zhǔn)來測量所述第一控制 量w及第二控制量的另一方。
41. 一種曝光方法，其是利用能量束來曝光物體并在所述物體上形成圖案的曝光方法， 該曝光方法通過權(quán)利要求35?40中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)方法，將保持所述物體并在 規(guī)定面上移動(dòng)的移動(dòng)體作為所述控制對象進(jìn)行驅(qū)動(dòng)。
42. 根據(jù)權(quán)利要求41所述的曝光方法，其中， 所述移動(dòng)體具有；保持所述物體并移動(dòng)的第一移動(dòng)體、和保持該第一移動(dòng)體并在所述 規(guī)定面上移動(dòng)的第二移動(dòng)體， 所述控制對象的所述第一部分W及第二部分分別包含于所述第一移動(dòng)體W及第二移 動(dòng)體。
43. -種曝光方法，其是利用能量束來曝光物體并在所述物體上形成圖案的曝光方法， 該曝光方法包含： 測量與保持所述物體并移動(dòng)的第一移動(dòng)體的位置相關(guān)的第一控制量、和與保持所述第 一移動(dòng)體并在規(guī)定面上移動(dòng)的第二移動(dòng)體的位置相關(guān)的第二控制量；W及 對所述第一控制量W及第二控制量的測量結(jié)果進(jìn)行濾波處理來求出第=控制量，并將 使用該第=控制量求出的所述操作量賦予所述移動(dòng)體從而驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體。
44. 根據(jù)權(quán)利要求43所述的曝光方法，其中， 在所述測量中，測量與表示包含諧振模式的行為的所述第二移動(dòng)體的部分的位置相關(guān) 的第二控制量，該諧振模式相對于所述第一移動(dòng)體表示的剛體模式反相。
45. 根據(jù)權(quán)利要求43或者44所述的曝光方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，使用所述第一控制量W及第二控制量狂2、Xi)的測量結(jié)果、和一組W 上、N組（N > 1)傳遞函數(shù)（a。、0 n(n = 1?腳）來求出N個(gè)合成量狂a龍+|3品(11 =1?腳），并對該合成量和所述第一控制量W及第二控制量的一方的測量結(jié)果進(jìn)行濾波 處理來求出所述第=控制量。
46. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的曝光方法，其中， W與所述第一移動(dòng)體W及第二移動(dòng)體對應(yīng)的傳遞函數(shù)P2、Pi分別包含的與第n個(gè)諧振 模式對應(yīng)的極點(diǎn)在傳遞函數(shù)a術(shù)+ 0 "Pi中被抵消的方式，來決定所述N組傳遞函數(shù)中第n 組傳遞函數(shù)（a。、0。)。
47. 根據(jù)權(quán)利要求46所述的曝光方法，其中， 使用將所述第一移動(dòng)體W及第二移動(dòng)體的運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)為由彈黃或者由彈黃和減震器連 結(jié)的至少兩個(gè)W上的剛體的運(yùn)動(dòng)的力學(xué)模型來賦予所述傳遞函數(shù)P,、Pi的具體形式。
48. 根據(jù)權(quán)利要求45?47中任意一項(xiàng)所述的曝光方法，其中， 在所述驅(qū)動(dòng)中，對所述N個(gè)合成量狂。。(n = 1?腳）和所述一方的測量結(jié)果狂2、《1)進(jìn) 行濾波處理，合成所述N個(gè)合成量狂。。(n = 1?腳）的各個(gè)的存在對應(yīng)的諧振模式的頻帶、 和所述一方的測量結(jié)果狂2、Xi)的所述頻帶W外的頻帶來求出所述第=控制量。
49. 根據(jù)權(quán)利要求45?48中任意一項(xiàng)所述的曝光方法，其中， 由增益表示所述傳遞函數(shù)。
50. 根據(jù)權(quán)利要求43?49中任意一項(xiàng)所述的曝光方法，其中， 在所述測量中，W所述第一控制量W及第二控制量的一方為基準(zhǔn)來測量所述第一控制 量W及第二控制量的另一方。
51.-種器件制造方法，包含： 使用權(quán)利要求41?50中任意一項(xiàng)所述的曝光方法，在物體上形成圖案；W及 對形成了所述圖案的所述物體進(jìn)行顯影。
【專利摘要】通過使用與第一以及第二測量器的測量結(jié)果(X2、X1)對應(yīng)的增益(或者傳遞函數(shù))(α、β)求出合成量(Xc＝αX2+βX1)，并分別經(jīng)由高通濾波器(F1)和低通濾波器(F2)合成該合成量(Xc)和第一以及第二測量器的一方的測量結(jié)果(X2、X1)，從而求出合成控制量(Xmix＝F1(Xc)+F2(X2、X1))。構(gòu)成使用合成控制量(Xmix)和目標(biāo)值(R)求出操作量(U)，并將該操作量(U)賦予控制對象的反饋控制系統(tǒng)。由此，不需要追加用于除去第一以及第二測量器的設(shè)置位置的偏移的高通濾波器，能夠與諧振出現(xiàn)的頻帶無關(guān)地設(shè)計(jì)在高頻帶強(qiáng)健的控制平板工作臺(tái)(PST)的驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。
【IPC分類】G05D3-12, G03F9-00, H01L21-68, H01L21-027
【公開號(hào)】CN104541208
【申請?zhí)枴緾N201380042747
【發(fā)明人】坂田晃一, 淺海博圭
【申請人】株式會(huì)社尼康
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2013年7月9日
【公告號(hào)】EP2871526A1, WO2014010233A1