一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)鄰域，尤其涉及一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示 裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在薄膜晶體管液晶顯不面板（ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay， 簡(jiǎn)稱TFT-LCD)的成盒工藝中，為防止陣列基板和彩膜基板之間的液晶流出，需要在陣列基 板和彩膜基板的四周邊緣處涂覆封框膠，從而形成液晶盒，達(dá)到液晶導(dǎo)光和顯示的目的。這 樣就要求液晶面板四周的封框膠在最短時(shí)間內(nèi)固化，以防液晶受到未固化封框膠的污染， 影響產(chǎn)品品質(zhì)?，F(xiàn)有的封框膠固化包括紫外固化和熱固化，在封紫外固化中需要采用紫外 光進(jìn)行選擇性地照射。一般都是專門制作一張對(duì)應(yīng)相應(yīng)產(chǎn)品的紫外線掩膜板UVmask實(shí)現(xiàn) 封框膠的固化，但是設(shè)計(jì)一張UVmask需要較長的時(shí)間而且成本也較高。
[0003] 為了節(jié)省生產(chǎn)時(shí)間，降低成本，現(xiàn)有技術(shù)中多采用如下方法來形成封框膠固化使 用的掩膜板：先使用具有遮擋紫外線的掩膜板對(duì)基板進(jìn)行拼接曝光和刻蝕工藝，形成與紫 外線對(duì)位標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的掩膜層；然后在基板上沉積保護(hù)層保護(hù)該掩膜層；之后沉積金屬薄 膜，采用特定曝光設(shè)備進(jìn)行曝光形成與封框膠膜層中需要固化的區(qū)域?qū)?yīng)的紫外線掩膜圖 形，并刻蝕得到對(duì)應(yīng)的紫外線掩膜圖案。但是，現(xiàn)有技術(shù)中形成掩膜板的這種方法需要多次 成膜、曝光和刻蝕工藝，流程較為復(fù)雜，而且，形成的掩膜板中具有多層膜層，使用的生產(chǎn)材 料也較多，相應(yīng)的成本也較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的實(shí)施例提供一種紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置，解決了現(xiàn) 有的封框膠固化時(shí)需要的紫外線掩膜板的制作需要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問 題，降低了生產(chǎn)成本，減少了工藝流程，降低了復(fù)雜度。
[0005] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：
[0006] 第一方面，提供一種紫外線固化掩膜板，所述紫外線固化掩膜板包括襯底基板，待 固化膜層的面板上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)，所述紫外線固化掩膜板還包括：掩膜層，其 中：
[0007] 所述掩膜層設(shè)置在所述襯底基板上，且與所述對(duì)位標(biāo)識(shí)、選擇標(biāo)識(shí)和所述待固化 膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的位置；
[0008] 所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0009] 可選的，所述掩膜層的材料包括金屬材料。
[0010] 可選的，所述金屬材料包括：鉬、鋁、銅、鎢中的至少一種。
[0011] 可選的，所述掩膜層的厚度為2000?4000人。
[0012] 第二方面，提供一種紫外線固化掩膜板的制作方法，所述方法包括：
[0013]提供一襯底基板；
[0014] 通過一次構(gòu)圖工藝在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形；
[0015] 其中，所述掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料。
[0016] 可選的，待固化膜層的面板上具有對(duì)位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)，所述通過一次構(gòu)圖工藝 在所述襯底基板上形成掩膜層的圖形，包括：
[0017] 在所述襯底基板上形成掩膜層材料薄膜；
[0018] 通過一次構(gòu)圖工藝處理所述掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖形；其中，所述 第一掩膜層圖形為所述掩膜層上具有與所述對(duì)位標(biāo)識(shí)和所述選擇標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的圖形；
[0019] 處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖 形。
[0020] 可選的，所述通過一次構(gòu)圖工藝處理所述掩膜層材料薄膜，形成為第一掩膜層圖 形，包括：
[0021] 在形成有掩膜層材料薄膜的基板上，涂布光刻膠；
[0022] 利用掩膜板對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，再對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影，顯影后形成 光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域；其中，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)所述對(duì) 位標(biāo)識(shí)和選擇標(biāo)識(shí)的區(qū)域，其他區(qū)域?yàn)楣饪棠z完全去除區(qū)域；
[0023] 去除位于光刻膠完全去除區(qū)域的掩膜層材料薄膜。
[0024] 可選的，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng) 的掩膜層圖形，包括：
[0025] 利用激光掃描設(shè)備，通過激光掃描工藝處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待 固化膜層膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
[0026] 可選的，所述處理所述第一掩膜層圖形，形成與所述待固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng) 的掩膜層圖形，包括：
[0027] 利用掩膜板處理所述第一掩膜層圖形，形成紫外圖形制作區(qū)；
[0028] 利用激光掃描設(shè)備，通過激光掃描工藝處理所述紫外圖形制作區(qū)，形成與所述待 固化膜層未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的掩膜層圖形。
[0029] 第三方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置中的待固化膜層采用第一方面所述 的任一紫外線固化掩膜板進(jìn)行固化。
[0030] 本發(fā)明的實(shí)施例提供的紫外線固化掩膜板及其制作方法和顯示裝置，通過采用一 次構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成掩膜層圖形，同時(shí)形成的紫外線固化掩膜板中只有襯底基板 和掩膜層，且掩膜層的材料為具有阻擋紫外光作用的材料，這樣，在制作該紫外線固化掩膜 板時(shí)只需要進(jìn)行一次成膜、曝光和刻蝕工藝即可，解決了現(xiàn)有的封框膠固化工藝中使用的 紫外線掩膜板的制作需要進(jìn)行多次成膜、曝光和刻蝕工藝的問題，降低了生產(chǎn)成本，減少了 工藝流程，降低了復(fù)雜度。
【附圖說明】
[0031] 為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以 根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0032]圖1為本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種紫外線固化掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033] 圖2為本發(fā)明的實(shí)施例提供的另一種紫外線固化掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034] 圖3為本發(fā)明的實(shí)施例提供的又一種紫外線固化掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035] 圖4為本發(fā)明的另一實(shí)施例提供的一種紫外線固化掩膜板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖5為本發(fā)明的實(shí)施例提供的一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意圖；
[0037]圖6為本發(fā)明的實(shí)施例提供的另一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意 圖；
[0038] 圖7為本發(fā)明的實(shí)施例提供的又一種紫外線固化掩膜板的制作方法的流程示意 圖；
[0039]圖8為制作圖1所示紫外線固化掩膜板的過程中，在掩膜層層材料薄膜上涂一層 光刻膠后的示意圖；
[0040] 圖9為制作圖1所示陣列基板的過程中，對(duì)圖8中的光刻膠進(jìn)行顯影后的示意圖。
[0041] 附圖標(biāo)記：1-襯底基板；2-掩膜層；3-掩膜層中與對(duì)位標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的區(qū)域；4-掩 膜層中與選擇標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)的區(qū)域；5-掩膜層中與待固化的封框膠未覆蓋區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域； 21-掩膜層材料薄膜；22-光刻膠。
【具體實(shí)施方式】
[0042] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施