防塵薄膜組件的貼附方法以及使用該方法的貼附裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及LSI、超LSI等的半導(dǎo)體裝置或液晶表示板制造時的光刻用光掩模的 防塵裝置、光刻用防塵薄膜組件的貼附方法以及使用該方法的貼附裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在LSI、超LSI等的半導(dǎo)體制造或液晶表示板等的制造中，要對半導(dǎo)體晶片或液晶 用原版僅光照射以進行圖案制作，該場合所用曝光原版如有灰塵附著，灰塵就會吸收光或 使光彎曲，轉(zhuǎn)印的圖案就會變形，邊不就會不齊，并且會基底烏黑，從而產(chǎn)生尺寸、品質(zhì)、外 觀等受損的問題。此外，在本發(fā)明中，所謂"曝光原版"為光刻用光掩模以及中間掩模的總 稱。
[0003] 因此，這樣的作業(yè)通常在無塵室中進行，但即使如此，也難免曝光原版的經(jīng)常的清 潔，因此，一般使用在曝光原版的表面貼附可以使曝光用的光良好通過的防塵薄膜組件。該 場合中，灰塵不在曝光原版的表面上直接附著，而是在防塵薄膜上附著，由此，只要在光刻 時將焦點對準(zhǔn)曝光原版的圖案，防塵薄膜上的灰塵就和轉(zhuǎn)印無關(guān)系了。
[0004] 這樣的防塵薄膜組件的基本構(gòu)造為在防塵薄膜組件框架以及在其上繃緊設(shè)置的 防塵薄膜構(gòu)成。該防塵薄膜為用可以良好地使曝光使用光（g線，i線，248nm，193nm，157nm 等）透過硝化纖維素、醋酸纖維素、氟系聚合物等制成。另外，防塵薄膜組件框架由進行了 黑色防氧化膜處理等的A7075、A6061、A5052等的鋁合金、不銹鋼、聚乙烯等制成。
[0005] 在防塵薄膜組件框架的上部，涂布防塵薄膜的良溶媒，將防塵薄膜風(fēng)干接著，或通 過丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂和氟樹脂等的接著劑來進行接著。在防塵薄膜組件框架的下部，為 了進行曝光原版的安裝，要設(shè)置由聚丁烯樹脂，聚醋酸乙烯基樹脂，丙烯酸樹脂以及硅氧烷 樹脂等組成的粘著層以及以粘著層的保護為目的設(shè)置掩模粘著劑保護用襯層。
[0006] 如此制作的防塵薄膜組件以將曝光原版的表面形成的圖案領(lǐng)域包圍的形式設(shè)置， 該防塵薄膜組件是為了防止在曝光原版上有灰塵附著而設(shè)置的，該圖案領(lǐng)域和防塵薄膜組 件外部被隔離開，以不使防塵薄膜組件外部的塵埃在圖案面附著。
[0007] 近年來，LSI的設(shè)計規(guī)則正在向微米以下的細(xì)微化前進，由此，曝光光源的短波長 化也在前進，即，曝光光源從迄今作為主流的水銀燈的g線（436nm)、i線（365nm)變?yōu)镵rF 準(zhǔn)分子激光（248nm)、ArF準(zhǔn)分子激光（193nm)、F2激光（157nm)等。細(xì)微化的結(jié)果，防塵薄 膜組件貼附的光掩?；鍒D案面的平坦度被嚴(yán)格地管理，由此對防塵薄膜組件在光掩模上 貼附時發(fā)生的光掩?；宓呐でM行抑制的必要性就增加了。
[0008] 特別是防塵薄膜組件的貼附造成的光掩模的扭曲在很大程度上依賴于防塵薄膜 組件框架的平坦度、防塵薄膜組件光掩模貼附用粘著劑的材質(zhì)（柔軟度）以及形狀。由此， 迄今都是對將粘著劑的形狀進行了平坦加工的防塵薄膜組件和框架的平坦度進行管理，并 且作為粘著劑的材質(zhì)，為了抑制貼附時的光掩模扭曲采用柔軟的粘著劑等而進行了一定的 改善。
[0009] 例如在專利文獻1中公開了將防塵薄膜組件的粘著劑的形狀控制在平坦度15 μ m 以下的平坦面的防塵薄膜組件。但是，即使采取這些對策，也難于完全將貼附了防塵薄膜組 件了光掩模的扭曲。
[0010] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0011] 專利文獻1 :日本特開2009-25560號。
[0012] 因此，鑒于上述情況，本發(fā)明的目的是提供一種在將防塵薄膜組件貼附于光掩模 基板時，使光掩?；宓呐で冃螠p低的防塵薄膜組件的貼附方法以及實施該方法的貼附 裝直。
[0013] 發(fā)明人為了實現(xiàn)上述目的而進行深入研究，得知在防塵薄膜組件在貼附于光掩模 基板時如將粘著劑層和光掩模基板進行加熱，粘著劑的柔軟度就會增加，由此就可以用更 弱的負(fù)荷壓力來將防塵薄膜組件貼附于光掩?；迳?，以減小貼附時的光掩?；宓呐で?變形，從而得到了本發(fā)明。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014] 即，本發(fā)明是一種將在防塵薄膜組件框架的一個端面通過接著劑進行防塵薄膜的 繃緊設(shè)置，在另一個端面設(shè)置粘著層的光刻用防塵薄膜組件貼附于光掩?；宓馁N附方 法，其特征為將光掩?；寮訜帷Ｔ搱龊系募訜釡囟葍?yōu)選35°C以上80°C以下。
[0015] 另外，本發(fā)明的另一特征為貼附負(fù)荷在100N以下進行防塵薄膜組件在光掩?；?板上的貼附，此時優(yōu)選在達(dá)到貼附負(fù)荷的時間為1分鐘以上。
[0016] 進一步，在本發(fā)明中，以至少分為1個以上的加壓步驟使貼附負(fù)荷斷續(xù)上升為特 征，在這種情況下優(yōu)選在各加壓步驟的之間，設(shè)置使貼附負(fù)荷釋放的時間，優(yōu)選該釋放時間 為30秒以上。
[0017] 本發(fā)明的貼附裝置為實施上述防塵薄膜組件的貼附方法的裝置，其包括將光掩模 基板以及防塵薄膜組件的粘著層加熱的熱源、將防塵薄膜組件貼附于光掩模基板的負(fù)荷裝 置、對至少1個以上的加壓步驟的貼附負(fù)荷量、負(fù)荷施加時間以及負(fù)荷釋放時間進行控制 的控制裝置。
[0018] 發(fā)明效果
[0019] 根據(jù)本發(fā)明，可以使防塵薄膜組件在光掩?；迳腺N附時的光掩?；宓呐で?形降低，從而防止光掩?；宓腜ID的變差。
【附圖說明】
[0020] 附圖1為表示防塵薄膜組件的基本結(jié)構(gòu)的概要圖。
【具體實施方式】
[0021] 以下對本發(fā)明的實施方式進行說明，但本發(fā)明不限于這些實施方式。
[0022] 本發(fā)明方法的特征為，將在防塵薄膜組件框架的一端面通過接著劑繃緊設(shè)置防塵 薄膜，在防塵薄膜組件框架的另一端面設(shè)置光掩模粘著層的光刻用防塵薄膜組件在光掩模 基板上貼附時，對粘著層和光掩|吳基板進行加熱。
[0023] 本發(fā)明所使用的防塵薄膜組件10的基本的構(gòu)造如圖1所示。在該防塵薄膜組件 10中，防塵薄膜組件框架3的上端面上，防塵薄膜1被通過接著劑2繃緊設(shè)置。在防塵薄膜 組件框架3的下端面，設(shè)置將防塵薄膜組件10粘著在光掩模基板或中間掩模5 (曝光原版） 的光掩模粘著劑4。另外，在該粘著劑4的下端面，通常，粘附可以剝離的襯層（未圖示）， 進一步，氣壓調(diào)整用孔6 (通氣口）被在防塵薄膜組件框架3上設(shè)置，根據(jù)需要，設(shè)置除塵用 過濾器7。
[0024] 這樣的防塵薄膜組件10的構(gòu)成部材的大小，與通常的防塵薄膜組件如半導(dǎo)體光 刻用防塵薄膜組件和大型液晶表示板制造光刻工程用防塵薄膜組件等同樣，其材質(zhì)可以采 用上述公知的材質(zhì)。
[0025] 防塵薄膜1的種類沒有特別的限制，可以使用例如準(zhǔn)分子激光用的非晶質(zhì)氟聚合 物等。作為該非晶質(zhì)氟聚合物，例如可以使用CYTOP(旭硝子公司的商品的名稱）、特氟隆 (注冊商標(biāo)）AF(杜邦公司的商品的名稱）等。這樣的聚合物可以在防塵薄膜1制作時根據(jù) 需要溶解于溶劑中使用，例如可以用氟系溶劑等進行適宜溶解。
[0026] 作為防塵薄膜組件框架3的材質(zhì)，可以使用常用的鋁合金，優(yōu)選使用JISA7075、 JISA606UJISA5052材料，在使用鋁合金材的場合，只要作為防塵薄膜組件框架3的強度能 得到保障，就沒有特別的限制。防塵薄膜組件框架3的表面，在設(shè)置聚合物被膜前，優(yōu)選進 行噴砂以及化學(xué)研磨來進行粗化，該防塵薄膜組件框架3的表面的粗化方法，可以使用公 知的方法。特別是，對于鋁合金，優(yōu)選在用不銹鋼、碳化硅以及玻璃珠等進行表面噴砂處理 后，進一步用NaOH等進行化學(xué)研磨，由此來使表面粗糙化。
[0027] 作為粘著層4中使用的接著劑，可以適宜地選擇各種接著劑，但優(yōu)選丙烯酸接著 劑和硅氧烷系接著劑。另外，作為粘著劑的形狀，優(yōu)選貼附于光掩?；宓拿鏋槠教姑?。
[0028] 在本發(fā)明中，在將防塵薄膜組件貼附于光掩模基板時，為了減輕光掩?；宓呐?曲等的影響，有必要對貼附的殘余應(yīng)力進行抑制，防塵薄膜組件10優(yōu)選進行貼附時變形的 少的平坦加工。
[0029] 以下，對本發(fā)明的防塵薄膜組件的貼附方法，按照具體例進行說明。
[0030] 首先，將防塵薄膜組件10安裝在防塵薄膜組件貼附裝置的臺子上的防塵薄膜組 件托上，使光掩模粘著劑向上，將粘著劑保護膜剝離后，將其向光掩模基板安裝，使防塵薄 膜組件貼附面向下，如按