包括液晶調(diào)制器的基板檢查設(shè)備及液晶調(diào)制器的制造方法
【專利說明】包括液晶調(diào)制器的基板檢查設(shè)備及液晶調(diào)制器的制造方法
[0001]本申請要求于2013年12月3日提交的第10-2013-0149220號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，該韓國專利申請的全部通過引用完全包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本公開涉及一種包括液晶調(diào)制器的基板檢查設(shè)備，更具體地說，涉及一種用于檢測基板的缺陷的基板檢查設(shè)備和一種包括在該基板檢查設(shè)備中的液晶調(diào)制器的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0003]近來，已經(jīng)開發(fā)出了諸如液晶顯示器(IXD)、有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)和等離子體顯示面板(rop)的顯示裝置。這些顯示裝置具有分辨率高、超纖薄、重量輕以及優(yōu)異的視角特性。
[0004]這種顯示裝置包括用于顯示圖像的像素。每個(gè)像素可包括像素電極和諸如分別與像素電極對應(yīng)并且電連接到像素電極的薄膜晶體管的驅(qū)動(dòng)電路。存在著檢查顯示裝置的像素電極和驅(qū)動(dòng)電路的缺陷的需要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]一些實(shí)施例提供一種包括液晶調(diào)制器的基板檢查設(shè)備及一種基板檢查設(shè)備的液晶調(diào)制器的制造方法。
[0006]在一些實(shí)施例中，一種用于檢測基板缺陷的基板檢查設(shè)備可包括:液晶調(diào)制器，被構(gòu)造為設(shè)置在所述基板上；光源單元，設(shè)置為與液晶調(diào)制器分隔開；分束器，設(shè)置在液晶調(diào)制器與光源單元之間，以將來自光源單元的光束反射至液晶調(diào)制器；測量單元，適于感測從液晶調(diào)制器反射的光束。液晶調(diào)制器包括:透明基板；共電極，設(shè)置在透明基板上；液晶層，設(shè)置在透明基板上以與共電極接觸；反射層，設(shè)置在聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶上。
[0007]在一些實(shí)施例中，光源單元可包括:光源，用于發(fā)射光束；均束器，用于引導(dǎo)從光源發(fā)射的光束；反射器，用于沿分束器的方向反射從均束器發(fā)射的光束。均束器可以被設(shè)置為桿管的形式。
[0008]在一些實(shí)施例中，基板檢查設(shè)備還可以包括設(shè)置在反射層上以支撐反射層和液晶層的第一支撐部件。第一支撐部件包括第一支撐片、設(shè)置在第一支撐片的一個(gè)表面上以保護(hù)第一支撐片的保護(hù)層以及設(shè)置在第一支撐片的另一個(gè)表面上的硬涂層。保護(hù)層設(shè)置在第一支撐片與反射層之間。
[0009]在一些實(shí)施例中，反射層可包括介電鏡。介電鏡可包括具有第一折射率的多個(gè)第一介電層以及具有與第一折射率不同的折射率的多個(gè)第二介電層。第一介電層與第二介電層可以交替布置。
[0010]在一些實(shí)施例中，液晶層可以包括聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶。
[0011 ] 在一些實(shí)施例中，基板檢查設(shè)備還可以包括設(shè)置在透明基板與共電極之間的粘合層以及設(shè)置在共電極與粘合層之間以支撐共電極的第二支撐部件。
[0012]在一些實(shí)施例中，一種基板檢查設(shè)備的液晶調(diào)制器的制造方法可包括:在透明基板上形成共電極；在共電極上直接形成液晶層；在液晶層上形成反射層。
[0013]在一些實(shí)施例中，所述制造方法還可以包括在反射層上形成支撐部件?？赏ㄟ^以下步驟來形成支撐部件:準(zhǔn)備第一支撐片；在第一支撐片的一個(gè)表面上形成保護(hù)層；以及在第一支撐片的另一個(gè)表面上形成硬涂層。
[0014]在一些實(shí)施例中，可通過以下步驟來形成液晶層:在共電極上涂覆聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶組成物；以及使聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶組成物固化。
[0015]在一些實(shí)施例中，反射層可以是介電鏡。在這種情況下，可通過交替地堆疊多個(gè)具有第一折射率的第一介電層和多個(gè)具有與第一折射率不同的折射率的第二介電層來形成反射層。
【附圖說明】
[0016]通過參照以下附圖的以下描述，上述及其它目的和特征將變得明顯，其中，除非另有說明，否則遍及各附圖同樣的標(biāo)號表示同樣的部分，其中:
[0017]圖1示出根據(jù)示例性實(shí)施例的基板檢查設(shè)備；
[0018]圖2是根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的剖視圖；
[0019]圖3是根據(jù)另一示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的剖視圖；
[0020]圖4A是示出圖3中的液晶調(diào)制器的制造方法的剖視圖；
[0021]圖4B是示出圖3中的液晶調(diào)制器的另一制造方法的剖視圖；
[0022]圖5是根據(jù)另一示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的剖視圖；
[0023]圖6是示出圖5中的液晶調(diào)制器的制造方法的剖視圖；
[0024]圖7是根據(jù)另一示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的剖視圖；
[0025]圖8是示出圖7中的液晶調(diào)制器的制造方法的剖視圖；
[0026]圖9至圖11是根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的剖視圖；
[0027]圖12是示出基于根據(jù)實(shí)施例的液晶調(diào)制器和傳統(tǒng)的液晶調(diào)制器的電壓的反射亮度的曲線圖；
[0028]圖13是示出當(dāng)在根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器中液晶層為聚合物網(wǎng)絡(luò)液晶和聚合物分散液晶時(shí)的反射率的曲線圖；
[0029]圖14是示出基于根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶調(diào)制器的厚度像素的可檢測最小間距的曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]現(xiàn)在將參照附圖更充分地描述示例性實(shí)施例，在附圖中示出了示例性實(shí)施例。然而，示例性實(shí)施例可以以許多不同的形式實(shí)施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為局限于這里闡述的實(shí)施例。相反，提供這些示例性實(shí)施例使得本公開將是徹底的和完整的，并且這些示例性實(shí)施例將向本領(lǐng)域普通技術(shù)人員充分傳達(dá)示例性實(shí)施例的構(gòu)思。在附圖中，為清晰起見，夸大了層和區(qū)域的厚度。
[0031]說明書中所使用的術(shù)語僅是為了描述特定實(shí)施例的目的，并且不意圖成為本發(fā)明的限制。如說明書中所使用的，除非上下文另外明確指出，否則單數(shù)形式的“一個(gè)(種)”和“所述(該)”也意圖包括復(fù)數(shù)形式。還將理解的是，當(dāng)在本說明書中使用術(shù)語“包含”和/或“包括”時(shí)，說明存在所述特征、整體、步驟、操作、元件和/或組件，但不排除存在或附加一個(gè)或更多個(gè)其它特征、整體、步驟、操作、元件、組件和/或它們的組。
[0032]圖1示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的基板檢查設(shè)備?；鍣z查設(shè)備檢測顯示裝置的缺陷，更具體地說，在用于顯示裝置中的顯示基板上進(jìn)行檢測。顯示裝置的類型不受限制。例如，顯示裝置可以是液晶顯示器(IXD)、電潤濕顯示器、電泳顯示器或有機(jī)發(fā)光顯示器(OLED)。
[0033]顯示裝置可包括多個(gè)像素。顯示裝置可包括形成有多個(gè)與像素對應(yīng)的薄膜晶體管的顯不基板DV、面對顯不基板DV的對向基板(未不出)以及設(shè)直在顯不基板DV與對向基板之間的圖像顯示層(未示出)。在液晶顯示器的情況下，圖像顯示層可以是液晶層；在電潤濕顯示器的情況下，圖像顯示層可以是電潤濕層；在電泳顯示器的情況下，圖像顯示層可以是電泳層；在有機(jī)發(fā)光顯示器的情況下，圖像顯示層可以是有機(jī)發(fā)光層。根據(jù)顯示裝置的類型和結(jié)構(gòu)，可以將對向基板替換為包封膜。
[0034]在示例性實(shí)施例中，顯示基板DV可以用在液晶顯示器中。例如，顯示基板DV可以被用在諸如面線轉(zhuǎn)換(PLS)模式IXD、邊緣場轉(zhuǎn)換(FFS)模式IXD、垂直取向(VA)模式IXD、扭轉(zhuǎn)向列(TN)模式LCD、圖案垂直取向(PVA)模式LCD和面內(nèi)轉(zhuǎn)換(IPS)模式LCD的不同模式LCD中。
[0035]顯示基板DV可包括形成有薄膜晶體管的陣列基板AS和設(shè)置在陣列基板AS上的靶電極EL’。靶電極EL’可以設(shè)置為多個(gè)，以與每個(gè)像素相對應(yīng)。
[0036]盡管在圖中未示出，但陣列基板AS可包括絕緣基板。薄膜晶體管設(shè)置絕緣基板上。薄膜晶體管可以電連接到至少一些靶電極EL’，以將預(yù)定電壓(例如，約10伏特)施加到靶電極EL’。
[0037]在下文中，現(xiàn)在將詳細(xì)描述基板檢查設(shè)備的構(gòu)造和工作原理。
[0038]根據(jù)實(shí)施例的基板檢查設(shè)備包括光源單元LU、分束器BS、液晶調(diào)制器MD、測量單元MU和圖像處理單元IPU。
[0039]光源單元LU輸出光。在示例性實(shí)施例中，光源單元LU可包括發(fā)射光束的光源LS、引導(dǎo)從光源LS發(fā)射的光束并且使被引導(dǎo)的光束均化的均束器BH以及反射器MR。
[0040]光源LS不受限制并且可包括發(fā)射光束的組件中的任意組件。在示例性實(shí)施例中，光源LS可以是發(fā)光二極管或激光器等。
[0041]均束器BH將從光源LS發(fā)射的光束引導(dǎo)至反射器MR，以將點(diǎn)光源均化為表面光源的形式。在不例性實(shí)施例中，均束器BH可以被設(shè)置為具有一端和另一端的桿管(rod pipe)的形式。光源LS可以與所述一端相對，反射器MR可以與所述另一端相對。在示例性實(shí)施例中，光源LS可以以管的形狀設(shè)置在均束器BH的一側(cè)處。在這種情況下，可以降低因在均束器的一端處的反射導(dǎo)致的光損失的可能性。
[0042]光束從所述一端傳播到所述另一端并且通過均束器BH的另一端被發(fā)射到反射器MR。從光源LS發(fā)射的光束在其從均束器BH出射之前在均束器BH中進(jìn)行兩次或更多次全反射。因此，從均束器BH出射的光束在預(yù)定的區(qū)域內(nèi)具有均勻的密度。
[0043]反射器MR設(shè)置在均束器BH與分束器BS之間，以反射光。換言之，光路被改變使得從均束器BH的另一端發(fā)射的光束朝向分束器BS的方向傳播。在示例性實(shí)施例中，當(dāng)均束器BH的另一端與分束器BS正對時(shí)，從均束器BH發(fā)射的光束在沒有反射器MR的情況下可傳播到分束器BS。在這種情況下，可以省略反射器MR。
[0044]還可以在分束器BS與反射器MR之間設(shè)置光學(xué)透鏡，以使光束聚集或擴(kuò)展。例如，在實(shí)施例中，擴(kuò)束器(未不出)可以設(shè)置在分束器BS與反射器MR之間，以使光束擴(kuò)展。
[0045]分束器BS在將光束分解為多個(gè)光元素之后將從光源單元LU發(fā)射的光束提供到液晶調(diào)制器MD的一側(cè)。分束器BS可以是偏振分束器，以將入射光束分解為兩種線性偏振束(例如，S波和P波)。
[0046]還可以將偏振器(未示出)設(shè)置在分束器BS的至少一側(cè)處，