器等顯示裝置，也可以與顯示裝置連接。
[0152] 在控制裝置109的存儲部安裝有控制計算機(jī)系統(tǒng)的操作系統(tǒng)（OS)。在控制裝置 109的存儲部中存儲有程序，該程序通過使計算處理部控制貼合系統(tǒng)100的各部分而使貼 合系統(tǒng)100的各部分執(zhí)行用于排除不合格單片F(xiàn)13的處理?？刂蒲b置109的計算處理部能 夠讀取包括存儲于存儲部的程序在內(nèi)的各種信息?？刂蒲b置109也可以包括執(zhí)行貼合系統(tǒng) 100的各部分的控制所需要的各種處理的ASIC等邏輯電路。
[0153] 存儲部在概念上包括RAM(隨機(jī)存取存儲器）、ROM(只讀存儲器）等半導(dǎo)體存儲 器、硬盤、CD-ROM讀取裝置、光盤型存儲介質(zhì)等外部存儲裝置等。從功能上來說，存儲部設(shè) 定有存儲記載有輸送裝置101、檢測裝置105、切斷裝置106、回收裝置107、判斷裝置110、貼 合裝置108的動作的控制順序的程序軟件的存儲區(qū)域、以及其它各種存儲區(qū)域。
[0154] 如上所述，本實施方式的回收裝置107能夠有效地去除光學(xué)構(gòu)件Fl的缺陷。另 外，本實施方式的貼合系統(tǒng)100能夠有效地去除光學(xué)構(gòu)件Fl的缺陷，并將不含有缺陷的光 學(xué)構(gòu)件Fl (合格貼合片）與貼合對象物貼合。另外，本實施方式的回收方法即使不使用隔 離層F3以外的去除用膜等，也能夠去除不合格貼合片，因此能夠有效地去除光學(xué)構(gòu)件Fl的 缺陷。
[0155] 需要說明的是，本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述的實施方式。在不脫離本發(fā)明的主 旨的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行多種變形。
[0156] 上述的貼合系統(tǒng)100通過檢測裝置105檢測光學(xué)構(gòu)件Fl的缺陷，但也可以使用在 輸送前預(yù)先檢查過的光學(xué)片F(xiàn)，并且由控制裝置109使用該檢查結(jié)果來判斷是否為合格單 片F(xiàn)10。上述的檢查結(jié)果既可以用符號等形態(tài)形成在光學(xué)片F(xiàn)上，也可以作為表示缺陷距離 例如輥卷物R的長邊方向的端部的位置的數(shù)據(jù)而向控制裝置輸入。如此，在使用預(yù)先檢查 過的光學(xué)片F(xiàn)的情況下，也可以省略檢測裝置105。
[0157] 另外，上述的貼合系統(tǒng)100從卷繞光學(xué)片F(xiàn)而成的輥卷物R抽出光學(xué)片F(xiàn)，但輸送 裝置101的光學(xué)片供給部102也可以是光學(xué)片F(xiàn)的制造裝置。該光學(xué)片F(xiàn)的制造裝置既可 以是貼合系統(tǒng)100的一部分，也可以是貼合系統(tǒng)100的外部的裝置。
[0158] 以上，參照附圖對本實施方式所涉及的優(yōu)選的實施方式例進(jìn)行了說明，但本發(fā)明 不局限于所述示例是不言而喻的。在上述的示例中示出的各構(gòu)成構(gòu)件的各形狀、組合等是 一個例子，在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)可以根據(jù)設(shè)計要求等進(jìn)行各種變更。
[0159] 以下，基于實施例進(jìn)一步具體說明本發(fā)明，但本發(fā)明不局限于以下的實施例。
[0160] (電暈處理裝置）
[0161] 電暈處理裝置中的電極與處理輥之間的間隔設(shè)定為1mm。作為處理輥，使用全長為 1800mm 的棍。
[0162] (檢查裝置）
[0163] 檢查裝置中的C⑶相機(jī)使用C⑶線型傳感器相機(jī)。作為C⑶相機(jī)使用如下相機(jī)： 所使用的透鏡的焦距為24mm(f24)，光圈值（F值）為2. 8,光圈為4 ( 一級光圈），視野寬度 為約760mm，感光距離為約930mm，掃描速度為999. 9微秒。
[0164] 需要說明的是，CCD相機(jī)沿膜寬方向配置有兩個。另外，CCD相機(jī)使用膜寬方向的 分辨率為lOOym/pixel的相機(jī)。
[0165] (光學(xué)膜）
[0166] 作為成為檢查對象的光學(xué)膜，使用由PVA等構(gòu)成的偏振膜體。作為光學(xué)膜，使用膜 寬度為1500mm的膜。
[0167] (實施例）
[0168] 如圖4A、圖4B所示，實施例1的放電輸出設(shè)定為800W。實施例2的放電輸出設(shè)定 為1200W。實施例3的放電輸出設(shè)定為1000W。實施例4的放電輸出設(shè)定為600W。實施例 5的放電輸出設(shè)定為400W。實施例6的放電輸出設(shè)定為300W。實施例7的放電輸出設(shè)定為 230W。
[0169] (電暈放電的膜寬方向上的偏差的檢查）
[0170] 對實施例2~7分別調(diào)查了光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系。對實施 例2~7分別確認(rèn)了相對于實施例1的放電輸出設(shè)定值是否具有顯著差異。
[0171] 圖8A、圖8B是示出實施例2的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的圖。
[0172] 圖9A、圖9B是示出實施例3的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的圖。
[0173] 圖10A、圖IOB是示出實施例4的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的 圖。
[0174] 圖11A、圖IlB是示出實施例5的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的 圖。
[0175] 圖12A、圖12B是示出實施例6的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的 圖。
[0176] 圖13A、圖13B是示出實施例7的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的 圖。
[0177] 圖8A)~圖13A是每隔999. 9微秒實施一次掃描（數(shù)據(jù)的獲?。┎⒁环昼姷墓?量數(shù)據(jù)、即1000次/秒X60秒= 60000次光量數(shù)據(jù)連續(xù)地繪制于同一圖表（重復(fù)寫入） 而成的圖。
[0178] 圖8B)~圖13B是示出未重復(fù)寫入的一次掃描的數(shù)據(jù)的圖。
[0179] 圖8B)~圖13B所示的圖表相當(dāng)于圖8A~圖13A所示的實線部分。
[0180] 需要說明的是，在圖8A以及圖9A中，為了方便，將實施例1(放電輸出800W)中的 光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系一并圖示。
[0181] 在圖8A、圖8B~圖13A、圖13B中，與圖4A、圖4B同樣地，不使用原始數(shù)據(jù)，使用合 理化數(shù)據(jù)。
[0182] 在圖8A、圖8B~圖13A、圖13B中，橫軸表示光學(xué)膜的寬度方向的位置，縱軸表示 光量等級。需要說明的是，橫軸與CCD相機(jī)的視野寬度（760mm)對應(yīng)，若以像素來表示，則 相當(dāng)于4096pixel?？v軸以光量等級的下限值為0、上限值為255的方式示出。在各圖中， 橫軸以及縱軸的范圍一致。
[0183] 如圖8A、圖8B~圖13A、圖13B所示，光量等級的平均值隨著放電輸出增大而增 大。另外，光量等級的變動范圍在光學(xué)膜的寬度方向整個區(qū)域內(nèi)呈帶狀擴(kuò)展。
[0184] 但是，根據(jù)光學(xué)膜的寬度方向的位置的不同，光量等級的變動范圍不同。例 如，在光學(xué)膜的寬度方向上的像素Opixel~600pixel的范圍的位置，光量等級比像素 600pixel~4096pixel的范圍的位置處的光量等級高。
[0185] 認(rèn)為其理由在于，像素Opixel~600pixel的范圍相當(dāng)于輥露出區(qū)域，像素 600pixel~4096pixel的范圍相當(dāng)于膜輸送區(qū)域，因此棍露出區(qū)域與膜輸送區(qū)域的放電特 性的差異產(chǎn)生影響。換句話說，認(rèn)為原因在于，在膜輸送區(qū)域中，由于存在作為絕緣體的光 學(xué)膜，因此電暈放電變?nèi)?，放電電流密度降低?br>[0186] 表1是整理了實施例1~7的光學(xué)膜的寬度方向的位置與光量等級的關(guān)系的表。
[0187] 在表1中，"光量等級的平均值"是以實施例1的通常時的放電輸出為基準(zhǔn)時的、即 將放電輸出設(shè)定為800W的情況下的光量等級的平均值設(shè)為256灰階的大致一半的127時 的、分別設(shè)定成實施例2~7的放電輸出的情況下的光量等級的平均值。
[0188] "（變動范圍）"是光學(xué)膜的寬度方向整個區(qū)域上的光量等級的變動范圍。需要說 明的是，實施例2以及實施例3的變動范圍的下限值未能計算出，因此未進(jìn)行記載。
[0189] "與變動范圍之差"是實施例2~7的各自的光量等級的平均值與實施例1的光量 等級的變動范圍（97~156)之差（較小的一方的差）。具體地說，在實施例2~7中分別 記載有光量等級的平均值與實施例1的光量等級的變動范圍的下限值（97)之差、以及光量 等級的平均值與實施例1的光量等級的變動范圍的上限值（156)之差中的任一較小一方的 差。需要說明的是，若"與變動范圍之差"為10以上，則判斷為相對于實施例1的放電輸出 設(shè)定值具有顯著差異。
[0190] "檢測結(jié)果"示出在實施例2~7各自之中，光量等級的變動范圍是否包含在實施 例1的光量等級的變動范圍（97~156)內(nèi)。在實施例2~7各自之中，將光量等級的變動 范圍不包含于實施例1的光量等級的變動范圍（97~156)的情況以"〇（good)"表示。光 量等級的變動范圍的一部分包含于實施例1的光量等級的變動范圍（97~156)的情況以 "Λ (fair)"表示。
[0191] 【表1】
[0192]
【主權(quán)項】
1. 一種光學(xué)膜的制造裝置，包括： 輸送裝置，其輸送光學(xué)膜； 電暈處理裝置，其配置在所述光學(xué)膜的輸送路徑上，在與所述光學(xué)膜的輸送方向正交 的所述光學(xué)膜的寬度方向上產(chǎn)生電暈放電，由此對所述光學(xué)膜的表面實施電暈處理；W及 檢查裝置，其遍及所述光學(xué)膜的整個寬度方向檢查通過所述電暈放電產(chǎn)生的光的光 量。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜的制造裝置，其中， 所述檢查裝置包括CCD相機(jī)，該CCD相機(jī)對通過所述電暈放電產(chǎn)生的光進(jìn)行感光。
3. -種貼合系統(tǒng)，包括： 權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)膜的制造裝置； 判斷裝置，其判斷通過所述電暈放電產(chǎn)生的光的光量是否包含在規(guī)定的范圍內(nèi)； 切斷裝置，其將由所述判斷裝置判斷為不包含在所述規(guī)定的范圍內(nèi)的部分作為不合格 部分而從利用所述光學(xué)膜的制造裝置制造出的光學(xué)膜切去，形成不存在所述不合格部分的 光學(xué)膜； 回收裝置，其回收所述不合格部分；W及 貼合裝置，其將通過所述切斷裝置形成的不存在所述不合格部分的光學(xué)膜貼合于貼合 對象物。
【專利摘要】光學(xué)膜的制造裝置包括:輸送裝置，其輸送光學(xué)膜；電暈處理裝置，其配置在光學(xué)膜的輸送路徑上，在與光學(xué)膜的輸送萬問正交的光學(xué)膜的寬度萬問上產(chǎn)生電暈放電，由此對光學(xué)膜的表面實施電暈處理；以及檢查裝置，其遍及光學(xué)膜的整個寬度萬問檢查通過電暈放電產(chǎn)生的光的光量。
【IPC分類】C08J7-00, G02B5-30
【公開號】CN104685391
【申請?zhí)枴緾N201380051092
【發(fā)明人】池墻卓朗
【申請人】住友化學(xué)株式會社
【公開日】2015年6月3日
【申請日】2013年9月20日
【公告號】WO2014054437A1