具有防反射性的玻璃的制造方法及具有防反射性的玻璃的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及具有防反射性的玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002] 例如建材用玻璃、顯示器面板用玻璃、光學(xué)元件、太陽能電池板用玻璃、榻窗玻璃、 光學(xué)玻璃、和眼鏡片等各種玻璃制品中，有時(shí)需要高的透光性。該情況下，使用具有防反射 性的玻璃基板。
[0003] 具有該樣的防反射性的玻璃基板可通過例如浸潰法在玻璃基板的表面涂布低折 射率材料，或者通過蒸鍛法或瓣射法等的干式法在玻璃基板的表面形成多層膜來構(gòu)成。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)1 ;日本專利特開2009-529715號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0008] 如上所述，制造要求高的透光性的玻璃制品的情況下，可使用通過各種方法在表 面上形成了反射防止膜的玻璃基板。
[0009] 可是，如果使用形成有該樣的防反射膜的玻璃制品，有時(shí)會(huì)在玻璃的表面附著水 分、油、指紋和/或塵埃等污物，損害玻璃制品的美感。
[0010] 因此，存在對(duì)于即使長(zhǎng)時(shí)間使用，在玻璃制品的表面也不易附著污物、具有所謂 "防污性"的玻璃制品的需求。
[0011] 例如，為了應(yīng)對(duì)該需求，考慮在玻璃的表面設(shè)置氣類化合物的層。該是因?yàn)橥ǔ?類化合物具有防污性。
[0012] 但是，即使在玻璃基板的表面設(shè)置有氣類化合物的層的情況下，也會(huì)經(jīng)常確認(rèn)到 在該樣的玻璃基板中，防污效果在較短的時(shí)間內(nèi)降低或消失的現(xiàn)象。而且，如果發(fā)生該樣的 現(xiàn)象，結(jié)果由設(shè)置氣類化合物的層而產(chǎn)生的效果消失，導(dǎo)致再次在玻璃基板上開始附著污 物。
[0013] 本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的發(fā)明，本發(fā)明的目的是提供可長(zhǎng)期維持防污性的 防反射性玻璃的制造方法。此外，本發(fā)明的目的是提供長(zhǎng)期發(fā)揮防污性的防反射性玻璃。
[0014] 解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
[0015] 本發(fā)明提供具有防反射性的玻璃的制造方法，其包括；(a)在常壓、大氣氣氛下， 在250°C~650°C的溫度范圍內(nèi)，使包含氣化合物的處理氣體與玻璃基板的表面接觸的步 驟；W及化）在上述表面之上形成有機(jī)氣類化合物的層的步驟。
[0016] 該里，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，上述有機(jī)氣類化合物的層可W通過涂布 處理形成在上述表面之上。
[0017] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，上述有機(jī)氣類化合物的層可W包含氣類 聚合物和/或含氣硅烷偶聯(lián)劑。
[0018] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，作為上述處理氣體的原料，可W包含氣化 氨和/或=氣己酸。
[0019] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，上述處理氣體可W包含氣化氨氣體，且該 氣化氨氣體的濃度在0.1體積％~10體積％的范圍。
[0020] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，上述處理氣體還可W包含氮和/或氣。
[0021] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，在上述（a)的步驟中，上述玻璃基板可W 在被搬運(yùn)的狀態(tài)下與上述處理氣體接觸。
[0022] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，在上述（a)的步驟中，在上述玻璃基板的 上部配置噴射器，上述處理氣體可W從上述噴射器朝上述玻璃基板噴射。
[0023] 該情況下，上述玻璃基板通過上述噴射器的時(shí)間可W為1秒~120秒之間。
[0024] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，上述有機(jī)氣類化合物的層與水的接觸角 可W為90。W上。
[0025] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的制造方法中，在上述（a)和化）的步驟之間可W具有在 上述表面形成密合層的步驟。
[0026] 本發(fā)明還提供具有防反射性的玻璃，其包括；具有表面的玻璃基板，和在上述表面 上形成的有機(jī)氣類化合物的層；上述玻璃基板的上述表面具有納米級(jí)的凹凸；上述玻璃基 板的上述表面具有與主體相比氧化娃濃度下降、除氧化娃W外的成分較多的部分。
[0027] 該里，本發(fā)明的一種形態(tài)的玻璃中，在上述玻璃基板和上述有機(jī)氣類化合物的層 之間還可W具有密合層。
[0028] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的玻璃中，上述有機(jī)氣類化合物的層可W包含氣類聚合 物和/或含氣硅烷偶聯(lián)劑。
[0029] 此外，本發(fā)明的一種形態(tài)的玻璃中，上述玻璃基板的板厚為3mmW下，且該玻璃基 板的透射率（波長(zhǎng)400nm~700nm的范圍內(nèi)的透射率的平均值）可W為88%W上。
[0030] 發(fā)明的效果
[0031] 本發(fā)明能夠提供長(zhǎng)期維持防污性的防反射性玻璃的制造方法。此外，本發(fā)明能夠 提供長(zhǎng)期發(fā)揮防污性的防反射性玻璃。
【附圖說明】
[0032] 圖1是簡(jiǎn)略地示出本發(fā)明的一實(shí)施例的防反射性玻璃的制造方法的流程的圖。
[0033] 圖2是示出在搬運(yùn)玻璃基板的狀態(tài)下，用于實(shí)施玻璃基板的蝕刻處理的處理裝置 的一構(gòu)成例的圖。
[0034] 圖3是簡(jiǎn)略地示出本發(fā)明的一實(shí)施例的防反射性玻璃的剖視圖。
[003引圖4是蝕刻處理后的玻璃基板的截面沈M照片。
【具體實(shí)施方式】
[0036]W下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的一種形態(tài)進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0037] 本發(fā)明提供具有防反射性的玻璃的制造方法，其包括；(a)在常壓、大氣氣氛下， 在250°C~650°C的溫度范圍內(nèi)，使包含氣化合物的處理氣體與玻璃基板的表面接觸的步 驟；W及（b)在上述表面之上形成有機(jī)氣類化合物的層的步驟。
[0038] 如上所述，制造要求高的透光性的玻璃制品的情況下，可使用通過各種方法在表 面上形成了反射防止膜的玻璃基板。
[0039] 另一方面，在形成有該樣的防反射膜的玻璃制品的使用中，有時(shí)會(huì)在玻璃的表面 附著水分、油、指紋和/或塵埃等污物，損害玻璃制品的美感。因此，要求一種即使長(zhǎng)時(shí)間使 用，在玻璃制品的表面也不易附著污物、具有所謂"防污性"的玻璃制品。
[0040] 為了應(yīng)對(duì)該需求，例如考慮在玻璃的表面設(shè)置氣類化合物的層。該是因?yàn)橥ǔ?類化合物具有防污性。
[0041] 但是，根據(jù)本申請(qǐng)發(fā)明人的研究，即使在玻璃基板的表面設(shè)置氣類化合物的層，也 常常確認(rèn)防污效果在較短時(shí)間內(nèi)降低或消失。認(rèn)為其原因是，在玻璃基板的使用中，氣類化 合物的層慢慢損耗或剝離，在玻璃基板的表面存在的氣類化合物的量減少。特別是在使玻 璃基板表現(xiàn)出防反射性的情況下，在玻璃基板的表面形成防反射膜。通常，該防反射膜的膜 厚較薄，所W玻璃基板的表面必須比較平坦。該是因?yàn)?，如果不是該樣，則難W在玻璃基板 的所需的整個(gè)表面精度良好且均勻地形成防反射膜。
[0042] 但是，在玻璃基板的平坦的表面形成氣類化合物的層的情況下，氣類化合物的層 更容易發(fā)生損耗和/或剝離。此外，由于該原因，導(dǎo)致上述的現(xiàn)象、即防污效果在較短時(shí)間 內(nèi)降低或消失的問題更加顯著。
[0043] 對(duì)此，本實(shí)施方式的玻璃的制造方法具有下述特征；首先，利用包含氣化合物的處 理氣體蝕刻處理玻璃基板，之后，在該蝕刻處理后的表面形成有機(jī)氣類化合物的層。
[0044] 本實(shí)施方式中，因?yàn)樵诓ＡЩ宓谋砻嫘纬捎袡C(jī)氣類化合物的層，所W玻璃基板 籍此能夠表現(xiàn)出防污性。
[0045] 此外，作為W往的防反射膜的替代，通過用處理氣體蝕刻處理玻璃基板，在玻璃基 板的表面形成微細(xì)的凹凸，籍此使玻璃基板表現(xiàn)出防反射性。
[0046] 該情況下，有機(jī)氣類化合物的層設(shè)置在玻璃基板表面，該玻璃基板的表面不是平 坦的表面，而是通過前面工序的蝕刻處理，形成大量微細(xì)的納米級(jí)的凹凸的表面。因此，本 實(shí)施方式中，有機(jī)氣類化合物的層不易發(fā)生使用中的損耗和/或剝離，能夠長(zhǎng)期維持防污 性。
[0047] 由于W上的效果，本實(shí)施方式的制造方法能夠提供長(zhǎng)時(shí)間維持防污性的防反射性 玻璃。
[004引另外，本申請(qǐng)中，"蝕刻處理"是指與實(shí)際的蝕刻量無關(guān)，使用處理氣體使玻璃基板 的表面表現(xiàn)出防反射性的處理。因此，實(shí)際上即使是蝕刻量極少的處理（例如形成0.Inm~ 200nm級(jí)的凹凸的水平的處理），只要使玻璃基板的表面表現(xiàn)出防反射性，那么該樣的處理 也包含在"蝕刻處理"中。在該個(gè)意義上，"蝕刻處理"也可W表達(dá)為采用處理氣體的"賦予 防反射性的處理"。
[0049] 此外，"納米級(jí)的凹凸"是指1ymW下的凹凸，優(yōu)選500皿W下，更優(yōu)選300皿W 下。但是，在不損害本申請(qǐng)的效果的范圍內(nèi)，并不排除InmW下的凹凸的存在。
[0050](關(guān)于本發(fā)明的一實(shí)施例的制造方法）