一種灰色調(diào)掩膜及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種灰色調(diào)掩膜及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的灰色調(diào)掩膜(Gray-tone Mask ;簡稱GTM)設(shè)計，只限制了該GTM灰階區(qū)域內(nèi)的擋光條的長度尺寸必須小于黃光曝光系統(tǒng)的最小分辨率，以獲得較為模糊化的顯影圖形；同時，限制該擋光條的長度尺寸必須大于該GTM的制作系統(tǒng)的分辨率，以保證掩膜的加工。
[0003]但是，由于傳統(tǒng)的GTM只限制了灰階區(qū)域內(nèi)的擋光條的長度尺寸，而對于灰階區(qū)域內(nèi)的縫隙寬度與擋光條的長度尺寸之間的關(guān)系沒有限制，因此，傳統(tǒng)的GTM制作工藝中，縫隙寬度與擋光條的長度尺寸的設(shè)計范圍較廣，而且不同的設(shè)計的GTM其顯影后的光阻輪廓也良莠不齊，會出現(xiàn)顯影后的GTM區(qū)域內(nèi)光阻厚度不均勻或無光阻殘留，殘留的光阻不可用的情況，從而達不到灰階掩膜的效果。因此，使用傳統(tǒng)的GTM需要對制程進行調(diào)試，從而導(dǎo)致實驗成本過高，制程時間過長。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明提供一種灰色調(diào)掩膜及其制作方法，以縮小設(shè)計范圍，直接得到合理的灰色調(diào)掩膜的設(shè)計方案，減少實驗成本。
[0005]為解決上述問題，本發(fā)明提供的一種灰色調(diào)掩膜，該灰色調(diào)掩膜包括第一擋光條和第二擋光條，任意兩個相鄰的第一擋光條之間形成第一間隙，第二擋光條設(shè)置在第一間隙內(nèi)，第一間隙包括相鄰的第一擋光條和第二擋光條之間形成的第一縫隙，其中，第二擋光條的長度為a，第一縫隙的寬度為b，第二擋光條的長度a與第一縫隙的寬度b的比值滿足:
0.9〈a/b〈l.1o
[0006]其中，第二擋光條的長度a小于曝光系統(tǒng)的分辨率，且大于灰色調(diào)掩膜制作系統(tǒng)的分辨率。
[0007]其中，第二擋光條的長度等于第一縫隙的寬度。
[0008]其中，當(dāng)?shù)谝婚g隙設(shè)置有至少兩個第二擋光條時，兩個相鄰的第二擋光條之間形成第二縫隙，第二縫隙的寬度與第一縫隙的寬度相等。
[0009]其中，在第一間隙中，第一縫隙的個數(shù)與第二縫隙的個數(shù)之和等于第二擋光條的個數(shù)加I。
[0010]其中，第一間隙的寬度為在第一間隙內(nèi)的所有第二擋光條的長度、第一縫隙的寬度及第二縫隙的寬度之和。
[0011]其中，灰色調(diào)掩膜的開口率為在第一間隙內(nèi)所有第一縫隙的寬度與第二縫隙的寬度之和與第一間隙的寬度的比值。
[0012]其中，第一擋光條的長度等于第一間隙的寬度。
[0013]本發(fā)明還提供一種灰色調(diào)掩膜的制作方法，該制作方法包括:提供基板，其中，基板上鋪設(shè)有不透光材料層；采用準(zhǔn)分子激光燒蝕工藝對基板進行刻蝕，以形成灰色調(diào)掩膜；其中，灰色調(diào)掩膜包括第一擋光條和第二擋光條，任意兩個相鄰的第一擋光條之間形成第一間隙，第二擋光條設(shè)置在第一間隙內(nèi)，第一間隙包括相鄰的第一擋光條和第二擋光條之間形成的第一縫隙，其中，第二擋光條的長度為a，第一縫隙的寬度為b，第二擋光條的長度a與第一縫隙的寬度b的比值滿足:0.9〈a/b〈l.1。
[0014]其中，當(dāng)?shù)谝婚g隙設(shè)置有至少兩個第二擋光條時，兩個相鄰的第二擋光條之間形成第二縫隙，第二縫隙的寬度與第一縫隙的寬度相等。
[0015]通過上述方案，本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的灰色調(diào)掩膜包括第一擋光條和第二擋光條，任意兩個相鄰的第一擋光條之間形成第一間隙，第二擋光條設(shè)置在第一間隙內(nèi)，第一間隙包括相鄰的第一擋光條和第二擋光條之間形成的第一縫隙，其中，第二擋光條的長度為a，第一縫隙的寬度為b，第二擋光條的長度a與第一縫隙的寬度b的比值滿足:0.9〈a/b〈l.1，并且，第二擋光條的長度a小于曝光系統(tǒng)的分辨率且大于灰色調(diào)掩膜制作系統(tǒng)的分辨率，因此，縮小了灰色調(diào)掩膜的設(shè)計范圍，能更直接地得到合理的設(shè)計方案，減少實驗成本，并且得到更好的顯影后的光阻輪廓。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。其中:
[0017]圖1是本發(fā)明第一實施例的灰色調(diào)掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2是本發(fā)明第二實施例的灰色調(diào)掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖3是本發(fā)明灰色調(diào)掩膜的制作方法流程示意圖。
具體實施例
[0020]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性的勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0021]請參看圖1，圖1是本發(fā)明第一實施例的灰色調(diào)掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實施例的灰色調(diào)掩膜I由基板2及不透光材料層3組成，基板2通常為透明的石英玻璃，不透光材料層3通過濺射的方法鍍在基板2表面上，不透光材料層3通常為鉻層。灰色調(diào)掩膜I包括第一擋光條11和第二擋光條12，其中，第一擋光條11與第二擋光條12由不透光材料層3通過激光刻蝕形成，第一擋光條11的長度大于第二擋光條12的長度。任意兩個相鄰的第一擋光條11之間形成第一間隙13，第二擋光條12設(shè)置在第一間隙13內(nèi)，在本實施例中，兩個相鄰的第一擋光條11之間包含一個第二擋光條12，第二擋光條12與兩側(cè)的兩個第一擋光條11等寬間隔，換句話說，任意相鄰的第一擋光條11與第二擋光條12之間形成第一縫隙14，這些第一縫隙14的寬度相等，第一間隙13包括第一縫隙14和第二擋光條12。其中，第二擋光度12的長度為a，第一縫隙14的寬度為b，第二擋光條12的長度為a與第一縫隙14的寬度b的比值滿足:0.9〈a/b〈l.1。
[0022]在本實施例中，第一擋光條11形成灰色調(diào)掩膜I的不透光區(qū)域，由第一縫隙14與第二擋光條12形成的第一間隙13為灰色調(diào)掩膜I的灰階區(qū)域，可半透光，其透光率受第二擋光條12的長度與第一縫隙14的寬度影響。并且，限制第二擋光條12的長度a必須小于曝光系統(tǒng)的最小分辨率，這里指的是黃光機臺的最小分辨率，以保證利用該灰色調(diào)掩膜I曝光顯影后的圖形具有模糊化的作用；為了保證灰色調(diào)掩膜I正常加工，第二擋光條12的長度a還必須大于該灰色調(diào)掩膜I的制作系統(tǒng)的分辨率。
[0023]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)，本實施例的灰色調(diào)掩膜I包括第一擋光條11和第二擋光條12，其中，任意兩個相鄰的第一擋光條11之間形成第一間隙13，該第一間隙13為該灰色調(diào)掩膜I的灰階區(qū)域，第二擋光條12位于第一間隙13內(nèi)，第二擋光條12與第一擋光條11之間等寬間距形成第一縫隙14，并且，第二擋光條12的長度a滿足小于曝光系統(tǒng)的最小分辨率且大于灰色調(diào)掩膜I的制作系統(tǒng)的分辨率，此外，第二擋光條12的長度a與第一縫隙14的寬度b的比值范圍滿足:0.9〈a/b〈l.1o因而，本實施例揭示的灰色調(diào)掩膜I的縮小了設(shè)計范圍，可以直接地得到合理的設(shè)計方案，得到可用的光阻輪廓，實現(xiàn)灰階掩膜的效果，減少實驗成本。
[0024]請參看圖2，圖2是本發(fā)明第二實施例的灰色調(diào)掩膜的結(jié)構(gòu)示意圖。本實施例提示的灰色調(diào)掩膜4與第一實施例提示的灰色調(diào)掩膜I的不同之處在于任意兩個相鄰的第一擋光條11之間包含至少兩個第二擋光條12，本實施例以包含兩個第二擋光條12為例說明。這里需要說明的是，圖2中與圖1所示的相同標(biāo)號的元件，其作用大致相同，在此不再贅述。如圖2所示，兩個相鄰的第一擋光條11之間包含兩個第二擋光條12，其中，相鄰的任意兩個擋光條之間等寬設(shè)置，也就是說，第一擋光條11與第二擋光條12之間形成的第一縫隙14，第二擋光條12與第二擋光條12之間形成的第二縫隙15，第一縫隙14的寬度和第二縫隙15的寬度相等。其中，本實施例中第二擋光條12的長度與第一縫隙14或第二縫隙15的寬度相等，即a:b = 1
[0025]其中，在灰色調(diào)掩膜4的第一間隙13中，第一縫隙14的個數(shù)與第二縫隙15的個數(shù)之和等于第二擋光條的個數(shù)加I ;并且，第一間隙1