偏振相關損耗補償器的制造方法
【技術領域】
[0001] 本文所描述的實施例總體上涉及一種偏振相關損耗（PDL)補償器。
【背景技術】
[0002] 除非在本文另外指出，本文所描述的材料不是現(xiàn)有技術的，而是本申請所要求保 護的，并且不認為是包含在該部分中的現(xiàn)有技術。
[0003] 在某些光學系統(tǒng)中，穿過光學系統(tǒng)的光信號可能經歷降低所檢測的信號質量的光 學現(xiàn)象。一種這樣的現(xiàn)象是roL。PDL是由于某些光學介質的各向異性的性質，在光信號的 不同偏振狀態(tài)之間經歷的不同信號衰減。
[0004] 光通道監(jiān)控器（OCM)是光學系統(tǒng)的一個示例，其可將PDL給予穿過OCM的光信號。 某些OCM的PDL設計可導致非常低的收益率，例如，小于50%的收益率，除非在OCM中補償 PDL。
[0005] 本文要求的主題不限于解決任何缺點或僅在諸如上述那些環(huán)境的環(huán)境中操作的 實施例。相反，該【背景技術】僅提供用于例示可以實施本文所描述的一些實施例的一個示例 性技術領域。

【發(fā)明內容】

[0006] 本文所描述的技術總體上涉及一種偏振相關損耗補償器。
[0007] 在一個示例實施例中，偏振相關損耗補償器包括基板、抗反射涂層和部分反射涂 層?；寰哂休斎氡砻婧团c輸入表面相對的輸出表面?？狗瓷渫繉有纬稍谳敵霰砻嫔?。部 分反射涂層形成在輸入表面上。
[0008] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，偏振相關損耗補償器包括取決于光信號相對于部分反射 涂層的入射角的偏振相關損耗。
[0009] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，部分反射涂層包括折射率交替的材料層。
[0010] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，折射率交替的材料層包括至少一個氧化鉭（Ta205)層和 至少一個二氧化硅層。
[0011] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，至少一個氧化鉭層包括具有〇. 1523納米的四分之一波 長光學厚度和28. 24納米厚度的一個氧化鉭層，至少一個二氧化硅層包括具有0. 6920納米 的四分之一波長光學厚度和183. 66納米厚度的一個二氧化硅層。
[0012] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，偏振相關損耗補償器的偏振相關損耗是與波長相關的。
[0013] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，部分反射涂層可包括：具有1. 3450納米四分之一波長光 學厚度和249. 37納米厚度的第一氧化鉭層；具有1. 5269納米四分之一波長光學厚度和 405. 26納米厚度的第二二氧化硅層；具有1. 4674納米四分之一波長光學厚度和272. 07納 米厚度的第三氧化鉭層；具有1. 5272納米四分之一波長光學厚度和405. 34納米厚度的第 四二氧化硅層；具有1. 3236納米四分之一波長光學厚度和245. 40納米厚度的第五氧化鉭 層；以及具有1. 2590納米四分之一波長光學厚度和334. 15納米厚度的第六二氧化硅層。
[0014] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，部分反射涂層還可包括：具有I. 0269納米四分之一波長 光學厚度和190. 39納米厚度的第一氧化鉭層；具有0. 9348納米四分之一波長光學厚度和 248. 11納米厚度的第二二氧化硅層；具有0. 5283納米四分之一波長光學厚度和97. 95納 米厚度的第三氧化鉭層；具有〇. 5837納米四分之一波長光學厚度和154. 92納米厚度的第 四二氧化硅層；具有0. 9006納米四分之一波長光學厚度和166. 98納米厚度的第五氧化鉭 層；以及具有〇. 3284納米四分之一波長光學厚度和87. 16納米厚度的第六二氧化硅層。
[0015] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，抗反射涂層包括：具有0. 3208納米四分之一波長光學厚 度和59. 48納米厚度的第一氧化鉭層；具有0. 3507納米四分之一波長光學厚度和93. 08納 米厚度的第二二氧化硅層；具有1. 1100納米四分之一波長光學厚度和205. 80納米厚度的 第三氧化鉭層；以及具有1. 1049納米四分之一波長光學厚度和269. 37納米厚度的第四二 氧化硅層。
[0016] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，基板包括烙融石英。
[0017] 在另一不例實施例中，一種補償偏振相關損耗的方法包括在偏振相關損耗補償器 處接收在傳播通道內經受偏振相關損耗的輸入信號，在傳播通道內，輸入信號的兩個偏振 狀態(tài)中的第一偏振狀態(tài)比兩個偏振狀態(tài)中的第二偏振狀態(tài)衰減得多。該方法還包括旋轉 偏振相關損耗補償器，以使輸入信號相對于偏振相關損耗補償器輸入表面的入射角是有效 的，以補償輸入信號在傳播通道內的偏振相關損耗。該方法還包括補償輸入信號的偏振相 關損耗。
[0018] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，補償輸入信號的偏振相關損耗包括，使輸入信號的兩個 偏振狀態(tài)中的第二偏振狀態(tài)衰減得比兩個偏振狀態(tài)中的第一偏振狀態(tài)多。
[0019] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，使輸入信號的兩個偏振狀態(tài)中的第二偏振狀態(tài)衰減得比 兩個偏振狀態(tài)中的第一偏振狀態(tài)多包括，通過偏振相關損耗補償器使輸入信號的兩個偏振 狀態(tài)中的第二偏振狀態(tài)衰減的量等于兩個偏振狀態(tài)中的第一偏振狀態(tài)通過傳播通道的衰 減，減去兩個偏振狀態(tài)中的第一偏振狀態(tài)通過偏振相關損耗補償器的衰減。
[0020] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，旋轉偏振相關損耗補償器包括如下至少一個：繞與輸入 信號的傳播方向正交的第一旋轉軸旋轉偏振相關損耗補償器、或繞與輸入信號的傳播方向 和第一旋轉軸正交的第二旋轉軸旋轉偏振相關損耗補償器。
[0021] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，補償輸入信號的偏振相關損耗包括，通過包括折射率交 替的材料層的部分反射涂層、基板、和包括折射率交替的材料層的抗反射涂層傳輸所述輸 入信號。
[0022] 在又一示例實施例中，一種光通道監(jiān)控器包括傳播通道和偏振相關損耗補償器。 傳播通道包括偏振相關損耗和多個光學元件。偏振相關損耗補償器放置在傳播通道中，并 配置為至少部分地補償傳播通道的偏振相關損耗。偏振相關損耗補償器包括基板，所述基 板具有輸入表面和與所述輸入表面相對的輸出表面。偏振相關損耗補償器還包括抗反射涂 層，所述抗反射涂層形成在所述基板的輸出表面上。偏振相關損耗補償器還包括部分反射 涂層，所述部分反射涂層形成在所述輸入表面上。
[0023] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，多個光學元件包括：鏡子，所述鏡子定位為接收并反射來 自所述光通道監(jiān)控器的輸入的光信號；成像透鏡，所述成像透鏡定位為接收被所述鏡子反 射之后的光信號；擴大棱鏡，所述擴大棱鏡定位為接收通過所述成像透鏡傳輸之后的光信 號；向下指向的鏡子，所述向下指向的鏡子定位為接收通過所述擴大棱鏡傳輸之后的光信 號，并第一次反射所述光信號；微機電系統(tǒng)鏡子，所述微機電系統(tǒng)鏡子定位為接收被所述向 下指向的鏡子第一次反射之后的光信號，并將所述光信號反射回所述向下指向的鏡子，用 于第二次反射所述光信號；以及棱柵，所述棱柵定位為接收被所述向下指向的鏡子第二次 反射之后的光信號。
[0024] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，偏振相關損耗補償器放置在光通道監(jiān)控器的輸入與成像 透鏡之間。
[0025] 根據(jù)一個優(yōu)選實施方式，光通道監(jiān)控器還包括：基板，鏡子、成像透鏡、擴大棱鏡、 向下指向的鏡子、微機電系統(tǒng)鏡子以及棱柵安裝在所述基板上；以及旋轉組件，所述旋轉組 件將偏振相關損耗補償器連接到基板，并且旋轉組件配置為使偏振相關損耗補償器繞一個 或多個旋轉軸旋轉。
[0026] 該
【發(fā)明內容】
提供用來以簡要形式介紹概念的選擇，這些將在下文的具體實施例中 進一步描述。該
【發(fā)明內容】
不用來等同于要求保護主題的關鍵特征或本質特性，也不用來幫 助確定要求保護主題