陣列基板及制作方法、顯示面板及制作方法和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種陣列基板及其制作方法、一種顯示面板及其制作方法和一種顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在陣列基板上搭接信號(hào)線，一般采用如下制作工藝，即在AA區(qū)(像素區(qū)域)延伸出的金屬線(例如柵線和數(shù)據(jù)線)上的絕緣層上挖過孔，使金屬線裸露出一個(gè)觸點(diǎn)，然后再在其上搭接信號(hào)線(例如ΙΤ0)，這樣，信號(hào)經(jīng)過信號(hào)線傳輸至陣列基板的接線區(qū)域過孔的金屬線上，隨后傳輸至AA區(qū)域形成顯示畫面。
[0003]而一般金屬線上的絕緣層采用非金屬材料制作，非金屬材料中的過孔的深度為4000?10000埃不等，當(dāng)過孔較深時(shí)很容易發(fā)生信號(hào)線在孔邊緣的斷層，如圖1所示，信號(hào)線通過鈍化層中的過孔搭接至數(shù)據(jù)線，在箭頭處容易出現(xiàn)斷層，如圖2所示，信號(hào)線通過鈍化層中的過孔以及柵絕緣層中的過孔搭接至柵線，在箭頭處容易出現(xiàn)斷層，進(jìn)而導(dǎo)致信號(hào)線中的信號(hào)無法順利傳輸至柵線和數(shù)據(jù)線，造成像素區(qū)域點(diǎn)亮異常。另外，在信號(hào)線與柵線或數(shù)據(jù)線的接線處，由于形成的過孔較小，切割工藝的水汽較難完全揮發(fā)，在產(chǎn)線一定的溫度環(huán)境下促進(jìn)下，容易發(fā)生金屬氧化以及電氣腐蝕。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，如何避免信號(hào)線與柵線和數(shù)據(jù)線的搭接處出現(xiàn)斷層，保證信號(hào)線與柵線和數(shù)據(jù)線良好地電連接。
[0005]為此目的，本發(fā)明提出了一種陣列基板，包括:像素區(qū)域和接線區(qū)域，所述像素區(qū)域設(shè)置在所述接線區(qū)域內(nèi)側(cè)；
[0006]柵線，設(shè)置在所述像素區(qū)域，向所述接線區(qū)域延伸第一長(zhǎng)度；
[0007]數(shù)據(jù)線，設(shè)置在所述像素區(qū)域，向所述接線區(qū)域延伸第二長(zhǎng)度；
[0008]鈍化層，設(shè)置在所述柵線和所述數(shù)據(jù)線之上，在所述接線區(qū)域的柵線上方設(shè)置有第一溝道，所述第一溝道的寬度大于所述柵線的寬度，和/或在所述接線區(qū)域的數(shù)據(jù)線上方設(shè)置有第二溝道，所述第二溝道的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度；
[0009]第一信號(hào)線，設(shè)置在所述第一溝道中，并覆蓋所述柵線，寬度等于所述第一溝道的寬度，向所述柵線傳輸?shù)谝恍盘?hào)；
[0010]第二信號(hào)線，設(shè)置在所述第二溝道中，并覆蓋所述數(shù)據(jù)線，寬度等于所述第二溝道的寬度，向所述數(shù)據(jù)線傳輸?shù)诙盘?hào)。
[0011]優(yōu)選地，所述柵線向所述接線區(qū)域延伸的端點(diǎn)，以及所述數(shù)據(jù)線向所述接線區(qū)域延伸的端點(diǎn)在所述接線區(qū)域以內(nèi)。
[0012]優(yōu)選地，所述第一信號(hào)線完全覆蓋接線區(qū)域的柵線，并與接線區(qū)域的柵線直接接觸，與相鄰的柵線之間絕緣；
[0013]所述第二信號(hào)線完全覆蓋接線區(qū)域的數(shù)據(jù)線，并與接線區(qū)域的數(shù)據(jù)線直接接觸，與相鄰的數(shù)據(jù)線之間絕緣。
[0014]優(yōu)選地，還包括:
[0015]基底，其中，所述柵線設(shè)置在所述基底之上；
[0016]柵絕緣層，設(shè)置在所述柵線之上，其中，所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述柵絕緣層之上。
[0017]優(yōu)選地，所述柵線與所述第一信號(hào)線的厚度之和等于所述鈍化層和所述柵絕緣層的厚度之和，和/或
[0018]所述數(shù)據(jù)線與所述第二信號(hào)線的厚度之和等于所述鈍化層的厚度。
[0019]本發(fā)明還提出了一種顯示面板，包括上述任一項(xiàng)所述的陣列基板，還包括:
[0020]彩膜基板，對(duì)盒設(shè)置在所述陣列基板之上，
[0021]其中，所述彩膜基板的邊界與所述陣列基板的邊界之間的區(qū)域?yàn)樗鼋泳€區(qū)域。
[0022]優(yōu)選地，所述陣列基板還包括:
[0023]預(yù)留區(qū)域，設(shè)置在所述接線區(qū)域內(nèi)側(cè)，且在所述像素區(qū)域外側(cè)，
[0024]其中，所述彩膜基板的邊界與所述像素區(qū)域的邊界之間為所述預(yù)留區(qū)域。
[0025]優(yōu)選地，所述第一溝道向所述預(yù)留區(qū)域延伸第三長(zhǎng)度，且延伸端點(diǎn)不進(jìn)入所述像素區(qū)域，所述第二溝道向所述預(yù)留區(qū)域延伸第四長(zhǎng)度，且延伸端點(diǎn)不進(jìn)入所述像素區(qū)域。
[0026]本發(fā)明還提出了一種顯示裝置，包括上述任一項(xiàng)所述的顯示面板。
[0027]本發(fā)明還提出了一種陣列基板制作方法，包括:
[0028]形成柵線和數(shù)據(jù)線，其中，所述柵線設(shè)置在像素區(qū)域，向接線區(qū)域延伸第一長(zhǎng)度，所述數(shù)據(jù)線設(shè)置在所述像素區(qū)域，向所述接線區(qū)域延伸第二長(zhǎng)度，所述像素區(qū)域設(shè)置在所述接線區(qū)域內(nèi)側(cè)；
[0029]在所述柵線和所述數(shù)據(jù)線之上形成鈍化層；
[0030]對(duì)所述鈍化層進(jìn)行蝕刻，以在所述接線區(qū)域的柵線上方形成第一溝道，所述第一溝道的寬度大于所述柵線的寬度，和/或在所述接線區(qū)域的數(shù)據(jù)線上方形成第二溝道，所述第二溝道的寬度大于所述數(shù)據(jù)線的寬度；
[0031]在所述第一溝道中形成第一信號(hào)線，以覆蓋所述柵線，所述第一信號(hào)線的寬度等于所述第一溝道的寬度，向所述柵線傳輸?shù)谝恍盘?hào)；
[0032]在所述第二溝道中形成第二信號(hào)線，以覆蓋所述數(shù)據(jù)線，所述第二信號(hào)線的寬度等于所述第二溝道的寬度，向所述數(shù)據(jù)線傳輸?shù)诙盘?hào)。
[0033]優(yōu)選地，形成柵線和數(shù)據(jù)線包括:
[0034]在基底之上形成所述柵線；
[0035]在所述柵線之上形成柵絕緣層；
[0036]在所述柵絕緣層之上形成所述數(shù)據(jù)線，
[0037]所述陣列基板制作方法還包括:
[0038]在所述數(shù)據(jù)線之上形成鈍化層。
[0039]本發(fā)明還提出了一種顯示面板制作方法，包括上述陣列基板制作方法，還包括:
[0040]將彩膜基板與形成的陣列基板對(duì)盒；
[0041]對(duì)對(duì)盒后的基板進(jìn)行切割，以使所述彩膜基板的邊界與所述陣列基板的邊界相距第一距離，其中，所述彩膜基板的邊界與所述陣列基板的邊界之間為所述接線區(qū)域。
[0042]優(yōu)選地，對(duì)對(duì)盒后的基板進(jìn)行切割還包括:使所述彩膜基板的邊界與所述像素區(qū)域的邊界相距第二距離，其中，所述彩膜基板的邊界與所述像素區(qū)域的邊界之間為預(yù)留區(qū)域。
[0043]優(yōu)選地，對(duì)所述鈍化層進(jìn)行蝕刻還包括:在所述接線區(qū)域的柵線上方形成第一溝道，以使所述第一溝道向所述預(yù)留區(qū)域延伸第三長(zhǎng)度，且延伸端點(diǎn)不進(jìn)入所述像素區(qū)域，和/或在所述接線區(qū)域的數(shù)據(jù)線上方形成第二溝道，以使所述第二溝道向所述預(yù)留區(qū)域延伸第四長(zhǎng)度，且延伸端點(diǎn)不進(jìn)入所述像素區(qū)域。
[0044]通過上述技術(shù)方案，通過在柵線和數(shù)據(jù)線之上的鈍化層中設(shè)置溝道，可以使得第一信號(hào)線完全覆蓋柵線，使得第二信號(hào)線完全覆蓋數(shù)據(jù)線，保證第一信號(hào)線與柵線良好地電連接，第二信號(hào)線與數(shù)據(jù)線良好地電連接，并且能夠避免第一信號(hào)線在與柵線連接處出現(xiàn)斷裂，或第二信號(hào)線與數(shù)據(jù)線連接處出現(xiàn)斷裂而造成信號(hào)傳輸不良。
【附圖說明】
[0045]通過參考附圖會(huì)更加清楚的理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)，附圖是示意性的而不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明進(jìn)行任何限制，在附圖中:
[0046]圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中信號(hào)線與數(shù)據(jù)線的搭接示意圖；
[0047]圖2示出了現(xiàn)有技術(shù)中信號(hào)線與柵線的搭接示意圖；
[0048]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0049]圖4示出了圖3中陣列基板沿CC’的截面示意圖；
[0050]圖5示出了圖3中陣列基板沿DD’的截面示意圖；
[0051]圖6示出了圖3中陣列基板沿AA’的截面示意圖；
[0052]圖7示出了圖3中陣列基板沿BB’的截面示意圖；
[0053]圖8示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0054]圖9示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的陣列基板制作方法的示意流程圖。
[0055]附圖標(biāo)號(hào)說明:
[0056]1-柵線；2_數(shù)據(jù)線；3_鈍化層；4_第一信號(hào)線；5_第二信號(hào)線；6_基底；7_柵絕緣層；10-像素區(qū)域；20-接線區(qū)域；30-預(yù)留區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0057]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說明的是，