感光性樹脂組合物、使用其的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法及觸摸面板的制造方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明設及感光性樹脂組合物、使用其的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法及觸 摸面板的制造方法。
【背景技術】
[0002] 在半導體集成電路、液晶顯示元件、印刷配線板等電子部件的制造中，作為形成 導體的微細圖形的方法，提出了使用含有酪醒清漆型酪醒樹脂和1，2-釀二疊氮化合物的 正型感光性樹脂組合物的方案（例如，參照日本特開2007-316577號公報或國際公開第 2007/026475 號）。
[0003] 近年來，由于智能手機、平板終端等便攜設備的普及，觸摸面板的需求提高。在觸 摸面板中，在傳感器部位、引出配線部位等形成有數ym寬的微細導體圖形。在該圖形形成 中，也使用正型感光性樹脂組合物。
[0004] 就正型感光性樹脂組合物而言，由于照射了光的部分（曝光部）能夠用堿性水溶 液溶解去除，未照射光的部分（未曝光部）不被堿性水溶液溶解而未去除，因此能夠形成圖 形。由此，研究了如下內容；通過反復進行針對由正型感光性樹脂組合物形成的感光層的曝 光處理和顯影處理、W及針對導體的蝕刻處理，來形成多層導體圖形。
[0005] 為了形成多層導體圖形，提出了使用含有特定酪醒樹脂的正型感光性樹脂組合物 的方案（例如，參照日本特開2012-252095號公報）。

【發(fā)明內容】

[0006] 另一方面，在形成觸摸面板用途的導體圖形時，伴隨著圖形的微細化、稀有金屬替 代金屬的使用、傳感器部位的小型化、觸摸面板的低成本化、觸摸面板的生產率提高等，使 用了多種導體。進而，該導體的表面處理方法也多種多樣。因此，對于形成圖形所使用的正 型感光性樹脂組合物，要求與各種導體表面的密合性優(yōu)異。
[0007] 然而，就由W往的正型感光性樹脂組合物形成的感光層而言，不能說其充分滿足 了與具有各種導體的基板的密合性，有在形成了抗蝕圖形時產生缺口等不良的情況。根據 W往的正型感光性樹脂組合物，難W形成能夠在維持上述密合性的同時兼顧反復顯影時未 曝光部的耐顯影液性和曝光部的顯影性的感光層。
[000引本發(fā)明的目的在于，提供正型感光性樹脂組合物W及使用其的感光性元件，所述 正型感光性樹脂組合物能夠形成如下感光層，所述感光層與具有各種導體的基板的密合性 優(yōu)異，并且即使在反復進行使用堿性水溶液的顯影的情況下，曝光部的顯影性和未曝光部 的耐顯影液性也充分優(yōu)異。
[0009] 本發(fā)明提供一種正型感光性樹脂組合物，其含有：具有不飽和姪基且重均分子量 為500~15000的改性酪醒樹脂、重均分子量為5000~30000的間-對甲酪樹脂、鄰甲酪 樹脂和通過光生成酸的化合物。
[0010] 上述鄰甲酪樹脂的重均分子量W500~5000為佳。
[0011] 上述改性酪醒樹脂所具有的不飽和姪基的碳原子數W4~100為佳。
[0012] 此外，上述正型感光性樹脂組合物可W進一步含有氣系表面活性劑，也可W進一 步含有密合性賦予劑。
[0013] 本發(fā)明還提供一種感光性元件，其具備支撐體和設置于該支撐體上的由上述本發(fā) 明的正型感光性樹脂組合物形成的感光層。
[0014] 本發(fā)明進一步提供一種抗蝕圖形的形成方法，其具備如下工序；使用上述正型感 光性樹脂組合物或上述感光性元件，在基板上形成感光層的工序；對感光層的規(guī)定部分照 射活性光線，形成曝光部的工序；W及將曝光部去除而形成由未曝光部的感光層構成的圖 形的工序。
[0015] 在上述抗蝕圖形的形成方法中，可W進一步具備如下工序；對由上述未曝光部構 成的感光層的規(guī)定部分照射活性光線，形成曝光部的工序；W及將曝光部去除而形成由未 曝光部的感光層構成的圖形的工序。
[0016] 本發(fā)明還提供一種觸摸面板的制造方法，其具備對通過上述抗蝕圖形的形成方法 形成了抗蝕圖形的基板進行蝕刻處理的工序。
[0017] 根據本發(fā)明，能夠提供正型感光性樹脂組合物W及使用其的感光性元件，所述正 型感光性樹脂組合物能夠形成如下感光層，所述感光層與具有各種導體的基板的密合性優(yōu) 異，并且即使在反復進行使用堿性水溶液的顯影的情況下，曝光部的顯影性和未曝光部的 耐顯影液性也充分優(yōu)異。
【附圖說明】
[0018]圖1是表示本發(fā)明感光性元件的一個實施方式的示意截面圖。
[0019] 圖2是表示使用負型感光性樹脂組合物的觸摸面板的制造方法的示意截面圖。
[0020] 圖3是表示使用正型感光性樹脂組合物的觸摸面板的制造方法的一個方式的示 意截面圖。
[0021] 圖4是表示利用本發(fā)明得到的觸摸面板的一個方式的俯視圖。
[00巧附圖標記說明：
[0023] 2 ;支撐體，4 ;感光層，6 ;保護層，10 ;感光性元件，22 ;支撐基材，24 ;透明導電層， 26 ;金屬層，28;感光層，29 ;抗蝕圖形，30 ;感光層，31 ;抗蝕圖形，40 ;感光層，40a、40b;抗 蝕圖形，52 ;透明電極狂電極），54 ;透明電極（Y電極），56、57 ;引出配線，100 ;觸摸面板。
【具體實施方式】
[0024] W下，根據需要一邊參照附圖，一邊對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。予W說明 的是，附圖中，對同一要素附上同一附圖標記，并省略重復說明。此外，關于上下左右等位置 關系，只要沒有特別指出，就設為基于附圖所示位置關系的位置關系。而且，附圖的尺寸比 率并不限于圖示比率。此外，在W下的實施方式中，關于其構成要素（也包括步驟要素等）， 除了特別明確表示的情況W及認為原理上顯然需要的情況等之外并不一定是必須的，該是 自不待言的。該對于數值和范圍也是同樣的，應解釋為不會不合理地限制本公開內容。
[002引予W說明的是，在本說明書中，關于"層"該一用語，在W平面圖進行觀察時，除了 整面形成的形狀的結構之外，還包含部分形成的形狀的結構。在本說明書中，"工序"該一用 語不僅包括獨立的工序，即使在與其它工序不能明確區(qū)別的情況下，如果能實現該工序的 預期目的，則也包含在本用語中。在本說明書中，使用"~"表示的數值范圍表示包含"~" 前后所記載的數值分別作為最小值和最大值的范圍。本說明書中階段性記載的數值范圍 中，某一階段的數值范圍的上限值或下限值可W置換成其他階段的數值范圍的上限值或下 限值。本說明書中記載的數值范圍中，該數值范圍的上限值或下限值可W置換成實施例所 示的值。此外，"一面"、"第1"、"第2"等用語是為了將一個構成要素與其它構成要素區(qū)別 開而使用的，構成要素并不受上述用語限定。
[0026] 本實施方式的正型感光性樹脂組合物的特征在于，含有：作為（A)成分的具有不 飽和姪基且重均分子量為500~15000的改性酪醒樹脂、作為炬）成分的重均分子量為 5000~30000的間-對甲酪樹脂、作為（C)成分的鄰甲酪樹脂和作為值）成分的通過光生 成酸的化合物。
[0027]W下，對構成正型感光性樹脂組合物的各成分進行詳細說明。
[002引 < (A)成分>
[0029] (A)成分為具有不飽和姪基的改性酪醒樹脂。通過使用具有不飽和姪基的改性酪 醒樹脂作為（A)成分，形成感光層時的可提性提高。
[0030] 酪醒樹脂優(yōu)選為酪醒清漆型酪醒樹脂，該酪醒清漆型酪醒樹脂為含有鄰甲酪、或 者間甲酪和對甲酪作為主成分的酪衍生物與醒類的縮聚產物?？s聚在例如酸等催化劑存 在下進行。具有不飽和姪基的改性酪醒樹脂可W是酪衍生物與具有不飽和姪基的化合物 (W下稱為"含有不飽和姪基的化合物"。）的反應產物（W下稱為"不飽和姪基改性酪衍 生物"。）、與醒類的縮聚產物，也可W是酪醒樹脂與含有不飽和姪基的化合物的反應產物。
[0031] 作為具有不飽和姪基的改性酪醒樹脂，可W使用由利用含有不飽和姪基的化合物 進行了改性的酪衍生物得到的酪醒樹脂。此外，作為具有不飽和姪基的改性酪醒樹脂，也可 W使用將酪醒樹脂用含有不飽和姪基的化合物改性而成的樹脂。
[0032] 上述不飽和姪基的碳原子數優(yōu)選為4~100。該碳原子數下限值更優(yōu)選大于或等 于8,進一步優(yōu)選大于或等于10,該碳原子數上限值更優(yōu)選小于或等于80,進一步優(yōu)選小于 或等