術(shù)。在壓印光刻技術(shù)中，圖案形成裝置中的拓?fù)湎薅ㄔ谝r底上形成的圖案。圖案形成裝置的拓?fù)淇梢詨喝胩峁┲烈r底的抗蝕劑的層中，由此通過應(yīng)用電磁輻射、熱、壓力或其組合而被固化。圖案形成裝置移離抗蝕劑，在抗蝕劑固化之后在抗蝕劑中留下圖案。在已知的直接自組裝光刻技術(shù)的一個示例中，在之前已經(jīng)使用具有特定節(jié)距的光柵圖案化的襯底上涂覆塊狀共聚物，隨后塊狀共聚物自組裝形成更小節(jié)距的光柵，同時與之前圖案化的較大節(jié)距的光柵一致。
[0144]這里使用的術(shù)語“輻射”和“束”包含全部類型的電磁輻射，包括:紫外(UV)輻射(例如具有約365、355、248、193、157或12611111的波長)和極紫外(EUV)輻射(例如具有5-20nm范圍內(nèi)的波長)，以及粒子束，例如離子束或電子束。
[0145]在上下文允許的情況下，所述術(shù)語“透鏡”可以表示各種類型的光學(xué)部件中的任何一種或它們的組合，包括折射式、反射式、磁性式、電磁式和靜電式的光學(xué)部件。
[0146]盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的特定示例，但是應(yīng)該理解的是，本發(fā)明可以以與上述不同的形式實現(xiàn)。例如本發(fā)明可以采用包含用于描述一種如上面公開的方法的一個或更多個機器可讀指令序列的計算機程序的形式，或具有存儲其中的所述計算機程序的數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)(例如半導(dǎo)體存儲器、磁盤或光盤)的形式。
[0147]以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不背離所附的權(quán)利要求的保護范圍的條件下，可以對本發(fā)明進行修改。
[0148]應(yīng)該認(rèn)識到，具體實施例部分而不是
【發(fā)明內(nèi)容】
和摘要部分用于解釋本發(fā)明的各個方面。
【發(fā)明內(nèi)容】
和摘要部分可以給出發(fā)明人考慮的本發(fā)明的一個或多個但不是全部示例性實施例，
【發(fā)明內(nèi)容】
和摘要部分完全不是為了限制本發(fā)明和權(quán)利要求。
[0149]以上借助示出具體功能的應(yīng)用及其關(guān)系的功能描述框描述了本發(fā)明。這些功能描述框的邊界在此已經(jīng)任意限定，以便方便描述。只要適當(dāng)?shù)貓?zhí)行具體功能及其關(guān)系就可以限定替換的邊界。
[0150]具體實施例的前述描述將完整地示出本發(fā)明的一般特性，由此在不需要實驗、在不脫離本發(fā)明的總體思路的情況下，通過應(yīng)用本領(lǐng)域的知識可以容易地修改其他的實施例和/或適于這些具體實施例的不同應(yīng)用。因此，基于此處公開的教導(dǎo)和啟示，這些適應(yīng)和修改是在所公開的實施例的等同物的意義和范圍之內(nèi)。應(yīng)該理解，此處的術(shù)語或名詞是為了描述而不是為了限定，使得本公開的術(shù)語或名詞由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)所述教導(dǎo)和啟示進行解釋/理解。本發(fā)明的寬度和范圍不應(yīng)該受到以上示例性實施例的限制，而應(yīng)該僅根據(jù)權(quán)利要求限定。
【主權(quán)項】
1.一種確定通過使用襯底上的周期圖像的構(gòu)形的光刻過程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的方法，所述方法包括步驟: (a)用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)； (b)測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度； (C)使用所測量的強度執(zhí)行對比；和 (d)使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括:重復(fù)權(quán)利要求1的步驟以確定通過使用光刻過程的多個過程條件形成的多個結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，和使用這些值確定光刻過程的過程窗口邊緣。3.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括:重復(fù)權(quán)利要求1的步驟以確定通過使用光刻過程的多個過程條件形成的多個結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，和使用這些值確定光刻過程的優(yōu)化的過程條件。4.如前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，其中: 用入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)的步驟(a)包括用具有第一特性和第二特性的入射輻射分別地照射第一結(jié)構(gòu)； 測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度的步驟(b)包括針對第一特性和第二特性中的每一個測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度； 使用所測量的強度執(zhí)行對比的步驟(C)包括確定與第一特性和第二特性對應(yīng)的所測量的強度之間的差；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差。5.如權(quán)利要求4所述的方法，其中入射輻射被偏振化。6.如權(quán)利要求4或5所述的方法，其中第一特性和第二特性包括入射輻射相對于第一結(jié)構(gòu)的不同的入射角。7.如權(quán)利要求4至6中任一項所述的方法，其中第一和第二特性包括襯底的平面內(nèi)周期圖像的周期性的方向相對于入射輻射的不同的轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動圍繞垂直于襯底平面的軸線。8.如權(quán)利要求4至7中任一項所述的方法，其中第一特性和第二特性包括入射輻射在襯底上的不同的照射劑量。9.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，其中所述方法還包括用具有第一特性的入射輻射照射第二結(jié)構(gòu)的步驟，和測量被第二結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度，其中: 使用所測量的強度執(zhí)行對比的步驟(C)包括確定與第一結(jié)構(gòu)對應(yīng)的所測量的強度和與第二結(jié)構(gòu)對應(yīng)的所測量的強度之間的差；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差確定光刻品質(zhì)的值。10.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，其中: 測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度的步驟(b)包括從空間上分離被第一結(jié)構(gòu)散射的任何非零級輻射和測量該非零級輻射的強度； 使用所測量的強度執(zhí)行對比的步驟(C)包括確定被第一結(jié)構(gòu)散射的非零級輻射的所測量的強度和對應(yīng)于沒有非零級輻射時的強度值之間的差；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值的步驟(d)包括使用所確定的差確定光刻品質(zhì)的值。11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中入射輻射被偏振化。12.—種檢查設(shè)備，配置用于確定通過使用襯底上的周期圖像的構(gòu)形的光刻過程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)，所述檢查設(shè)備包括: -照射系統(tǒng)，配置成使用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)； -檢測系統(tǒng)，配置成測量通過第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度；和 -處理器，配置用以: 使用所測量的強度執(zhí)行對比；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。13.如權(quán)利要求12所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成照射使用光刻過程的多個過程條件形成的多個結(jié)構(gòu)，所述檢測系統(tǒng)配置成檢測被多個結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度，所述處理器配置成確定所述多個結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，并且所述處理器還配置成使用這些值確定光刻過程的過程窗口邊緣。14.如權(quán)利要求12所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成照射使用光刻過程的多個過程條件形成的多個結(jié)構(gòu)，所述檢測系統(tǒng)配置成檢測被多個結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度，所述處理器配置成確定所述多個結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值，并且所述處理器還配置成使用這些值確定光刻過程的優(yōu)化的過程條件。15.如權(quán)利要求12至14中任一項所述的檢查設(shè)備，其中: 照射系統(tǒng)配置成通過用具有第一和第二特性的入射輻射分別地照射第一結(jié)構(gòu)，而用入射福射照射第一結(jié)構(gòu)； 檢測系統(tǒng)配置成通過針對第一和第二特性中的每一個測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度來檢測被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度； 所述處理器配置成通過確定與第一和第二特性對應(yīng)的所測量的強度之間的差，而使用測量的強度執(zhí)行對比；和 所述處理器配置成通過使用所確定的差而執(zhí)行的對比的結(jié)果來確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。16.如權(quán)利要求12至15中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用偏振化的入射輻射照射所述結(jié)構(gòu)。17.如權(quán)利要求12至16中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一和第二特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)，所述第一和第二特性包括偏振化輻射相對于所述結(jié)構(gòu)的不同的入射角。18.如權(quán)利要求12至17中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一和第二特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)，所述第一和第二特性包括襯底平面內(nèi)周期圖像的周期性的方向相對于入射輻射的不同的轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動圍繞垂直于襯底的平面的軸線。19.如權(quán)利要求12至18中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一和第二特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)，所述第一和第二特性包括入射輻射在襯底上的不同的照射劑量。20.如權(quán)利要求12至19中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一和第二特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)，所述第一和第二特性包括入射輻射的不同的波長。21.如權(quán)利要求12至20中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一和第二特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)，所述第一和第二特性包括在用于照射該結(jié)構(gòu)的散射儀的照射光瞳中的不同的照射輪廓。22.如權(quán)利要求12至21中任一項所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成用具有第一特性的入射輻射照射第二結(jié)構(gòu)，所述檢測系統(tǒng)配置成檢測被第二結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度，和其中: 所述處理器配置成通過確定對應(yīng)第一結(jié)構(gòu)的所測量的強度和對應(yīng)第二結(jié)構(gòu)的所測量的強度之間的差、使用所測量的強度執(zhí)行對比；和 所述處理器配置成通過使用所確定的差而執(zhí)行的對比的結(jié)果來確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。23.如權(quán)利要求12至14中任一項所述的檢查設(shè)備，其中所述檢測系統(tǒng)配置成從空間上分離被第一結(jié)構(gòu)散射的任何非零級輻射和測量非零級輻射的強度，所述處理器配置成通過確定被第一結(jié)構(gòu)散射的非零級輻射的所測量的強度和對應(yīng)于沒有非零級輻射時的強度值之間的差、使用所測量的強度執(zhí)行對比，并且處理器配置成通過使用所確定的差而執(zhí)行的對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。24.如權(quán)利要求23所述的檢查設(shè)備，其中照射系統(tǒng)配置成使用偏振化的入射輻射照射所述結(jié)構(gòu)。25.一種光刻設(shè)備，包括曝光系統(tǒng)和檢查系統(tǒng)，檢查設(shè)備配置用于確定通過使用襯底上周期圖像的構(gòu)形的光刻過程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)，所述檢查系統(tǒng)包括: 照射系統(tǒng)，配置成使用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)； 檢測系統(tǒng)，配置成測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度；和 處理器，配置成: 使用所測量的強度執(zhí)行對比；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。26.一種光刻單元，包括:包括曝光系統(tǒng)的光刻設(shè)備；和檢查設(shè)備，所述檢查設(shè)備配置用于確定通過使用襯底上周期圖像的構(gòu)形的光刻過程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)，所述檢查設(shè)備包括: 照射系統(tǒng)，配置成使用具有第一特性的入射輻射照射第一結(jié)構(gòu)； 檢測系統(tǒng)，配置成測量被第一結(jié)構(gòu)散射的輻射的強度；和 處理器，配置成: 使用所測量的強度執(zhí)行對比；和 使用對比的結(jié)果確定第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。27.—種包含一個或多個機器可讀指令序列的計算機程序產(chǎn)品，用于確定通過使用襯底上周期圖像的構(gòu)形的光刻過程處理的第一結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)，所述指令適于使得一個或多個處理器執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的方法。
【專利摘要】一種確定通過使用例如光柵等周期圖案的光刻過程產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的方法檢測光刻過程窗口邊緣并優(yōu)化過程條件。方法的步驟為：602：通過使用光柵圖案的光刻過程印刷結(jié)構(gòu)；604：選擇第一特性，例如偏振方向，用于照射；606：用具有第一特性的入射輻射照射該結(jié)構(gòu)；608：檢測散射輻射：610：選擇第二特性，例如不同的偏振方向，用于照射；612：用具有第二特性的入射輻射照射該結(jié)構(gòu)；614：檢測散射輻射；616：旋轉(zhuǎn)一個或多個角度分辨光譜以排列偏振，由此校正不同偏振取向；618：確定測量的角度分辨光譜之間的差；和620：使用確定的差確定結(jié)構(gòu)的光刻品質(zhì)的值。
【IPC分類】G01N21/47, G03F7/20, G01N21/956
【公開號】CN104919372
【申請?zhí)枴緾N201380062245
【發(fā)明人】W·J·格魯特吉恩斯, M·加西亞格蘭達, J·克里斯特, H·麥根斯, 徐路
【申請人】Asml荷蘭有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2013年10月30日
【公告號】US20150308966, WO2014082813A2, WO2014082813A3