彩膜基板的制作方法及其結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板的制作方法及其結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置(LCD，Liquid Crystal Display)具有機(jī)身薄、省電、無福射等眾多優(yōu)點(diǎn)，得到了廣泛的應(yīng)用。如:液晶電視、移動電話、個人數(shù)字助理(PDA)、數(shù)字相機(jī)、計算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。
[0003]通常液晶顯示裝置包括殼體、設(shè)于殼體內(nèi)的液晶面板及設(shè)于殼體內(nèi)的背光模組(Backlight module)。其中，液晶面板的結(jié)構(gòu)主要是由一薄膜晶體管陣列基板(Thin FilmTransistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色濾光片基板(Color Filter,CF)、以及配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構(gòu)成，其工作原理是通過在兩片玻璃基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn)，將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
[0004]彩色濾光片基板即彩膜基板是液晶顯示器的重要組成部分，傳統(tǒng)的彩膜基板的制作方法為制作完黑色矩陣(Black Matrix,BM)后，再制作紅/綠/藍(lán)色阻層。黑色矩陣的制作方法是:先在基板上均勻涂布一層黑色矩陣材料，然后曝光，顯影，最終制備出黑色矩陣膜層，該方式預(yù)計將有50%左右的黑色矩陣材料被顯影掉，造成黑色矩陣材料的浪費(fèi)；且黑色矩陣膜層上形成紅/綠/藍(lán)色阻層時，為了避免漏光，黑色矩陣與紅/綠/藍(lán)色阻之間會因為相互疊加而產(chǎn)生牛角現(xiàn)象，如果后制程要涂布外覆層(Over Coat，OC)，則需要更厚的外覆層才能達(dá)到平坦度要求，如果后制程為ITO (氧化銦錫)，則過高的牛角會刺穿ΙΤ0，在成盒制程時可能產(chǎn)生點(diǎn)或者線不良，降低產(chǎn)品良率。
[0005]因此，有必要提供一種彩膜基板的制作方法及其結(jié)構(gòu)，以解決上述問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種彩膜基板的制作方法，可省去黑色矩陣制程，減小外覆層的厚度，節(jié)省成本，同時可避免因色阻和黑色矩陣之間相互覆蓋而產(chǎn)生的牛角現(xiàn)象，避免色差，改善廣品品質(zhì)，提升廣品良率。
[0007]本發(fā)明的目的還在于提供一種彩膜基板結(jié)構(gòu)，采用紅、綠、藍(lán)色阻薄膜疊加構(gòu)成的復(fù)合色阻薄膜代替黑色矩陣，成本較低，且無色差。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種彩膜基板的制作方法，包括如下步驟:
[0009]步驟1、提供基板，在所述基板上沉積第一色阻層；
[0010]通過第一道半色調(diào)光罩對所述第一色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板上得到數(shù)個間隔分布的第一色阻塊、及數(shù)個第一色阻薄膜；
[0011]其中，每兩個相鄰的第一色阻塊之間間隔分布有三個第一色阻薄膜，所述三個第一色阻薄膜中位于兩側(cè)的第一色阻薄膜分別與其鄰近的第一色阻塊相連接，所述三個第一色阻薄膜之間形成兩個第一間隙；
[0012]步驟2、在所述基板上沉積第二色阻層，所述第二色阻層填充于所述數(shù)個第一色阻塊之間的區(qū)域，并覆蓋所述數(shù)個第一色阻薄膜；
[0013]通過第二道半色調(diào)光罩對所述第二色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板上得到分別位于所述數(shù)個第一色阻塊同一側(cè)的第一間隙處的數(shù)個第二色阻塊、及位于所述數(shù)個第一色阻薄膜上的數(shù)個第二色阻薄膜；
[0014]步驟3、在所述基板上沉積第三色阻層，所述第三色阻層填充于所述數(shù)個第一、第二色阻塊之間的區(qū)域，并覆蓋所述數(shù)個第二色阻薄膜；
[0015]通過第三道半色調(diào)光罩對所述第三色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板上得到分別位于所述數(shù)個第二色阻塊遠(yuǎn)離所述第一色阻塊一側(cè)的第一間隙處的數(shù)個第三色阻塊、及位于所述數(shù)個第二色阻薄膜上的數(shù)個第三色阻薄膜；
[0016]所述數(shù)個相對應(yīng)的第一、第二、第三色阻薄膜從下至上依次疊加，形成數(shù)個復(fù)合色阻薄膜，所述數(shù)個復(fù)合色阻薄膜位于所述數(shù)個第一、第二、第三色阻塊之間，從而代替黑色矩陣，起到遮擋漏光的作用。
[0017]還包括:步驟4、在所述數(shù)個第一、第二、第三色阻塊、及第三色阻薄膜上制作外覆層O
[0018]所述第一、第二、第三色阻為紅、綠、藍(lán)色阻按任意順序的排列組合。
[0019]步驟2中，所述第一、第二、第三色阻薄膜的大小和形狀完全相同。
[0020]步驟3中，所述第一、第二、第三色阻塊的厚度相同。
[0021]通過調(diào)整所述第一、第二、第三色阻薄膜的厚度來控制所述復(fù)合色阻薄膜的光密度值。
[0022]本發(fā)明還提供一種彩膜基板結(jié)構(gòu)，包括基板、間隔分布于所述基板上的數(shù)個第一、第二、第三色阻塊、及設(shè)于所述基板上將所述數(shù)個第一、第二、第三色阻塊間隔開的數(shù)個復(fù)合色阻薄膜；
[0023]所述復(fù)合色阻薄膜包括疊加設(shè)置的第一、第二、第三色阻薄膜。
[0024]所述第一、第二、第三色阻為紅、綠、藍(lán)色阻按任意順序的排列組合。
[0025]所述復(fù)合色阻薄膜從下至上依次由第一、第二、第三色阻薄膜疊加而成，構(gòu)成每一復(fù)合色阻薄膜的第一、第二、第三色阻薄膜中，有兩層色阻薄膜分別與其鄰近的第一、第二、或第三色阻塊顏色相同。
[0026]所述第一、第二、第三色阻塊呈島狀。
[0027]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的彩膜基板的制作方法，通過采用三道半色調(diào)光罩依次對紅、綠、藍(lán)色阻層進(jìn)行曝光、顯影，分別在形成紅、綠、藍(lán)色阻塊的同時，形成紅、綠、藍(lán)色阻薄膜，使紅、綠、藍(lán)色阻薄膜疊加構(gòu)成復(fù)合色阻薄膜，由于光穿過復(fù)合色阻薄膜時被完全吸收而呈現(xiàn)黑色，從而代替了黑色矩陣，省去了黑色矩陣制程，并可通過調(diào)節(jié)紅、綠、藍(lán)色阻薄膜的厚度控制所述復(fù)合色阻薄膜的厚度的厚度，以調(diào)節(jié)遮光效果；同時避免了因色阻和黑色矩陣之間相互覆蓋而產(chǎn)生的牛角現(xiàn)象，避免了色差，改善了產(chǎn)品品質(zhì)，提升了產(chǎn)品良率。本發(fā)明的彩膜基板結(jié)構(gòu)，采用紅、綠、藍(lán)色阻薄膜疊加構(gòu)成的復(fù)合色阻薄膜代替了黑色矩陣，成本較低，且避免了因色阻和黑色矩陣之間相互覆蓋而產(chǎn)生的牛角現(xiàn)象，無色差。
【附圖說明】
[0028]為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。
[0029]附圖中，
[0030]圖1為本發(fā)明的彩膜基板的制作方法的流程圖；
[0031]圖2-圖3為本發(fā)明的彩膜基板的制作方法的步驟I的示意圖；
[0032]圖4-圖5為本發(fā)明的彩膜基板的制作方法的步驟2的示意圖；
[0033]圖6-圖7為本發(fā)明的彩膜基板的制作方法的步驟3的示意圖；
[0034]圖8為本發(fā)明的彩膜基板結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035]為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0036]請參閱圖1，本發(fā)明首先提供一種彩膜基板的制作方法，包括如下步驟:
[0037]步驟1、如圖2、圖3所示，提供基板1，在所述基板I上沉積第一色阻層。通過第一道半色調(diào)(Half-Tone)光罩91對所述第一色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板I上得到數(shù)個間隔分布的第一色阻塊10、及數(shù)個第一色阻薄膜101 ;
[0038]其中，每兩個相鄰的第一色阻塊10之間間隔分布有三個第一色阻薄膜101，所述三個第一色阻薄膜101中位于兩側(cè)的第一色阻薄膜分別與其鄰近的第一色阻塊10相連接，所述三個第一色阻薄膜101之間形成兩個第一間隙102。
[0039]步驟2、如圖4、圖5所示，在所述基板I上沉積第二色阻層，所述第二色阻層填充于所述數(shù)個第一色阻塊10之間的區(qū)域，并覆蓋所述第一色阻薄膜101。通過第二道半色調(diào)光罩92對所述第二色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板I上得到分別位于所述數(shù)個第一色阻塊10同一側(cè)的第一間隙102處的數(shù)個第二色阻塊20、及位于所述數(shù)個第一色阻薄膜101上的數(shù)個第二色阻薄膜201。
[0040]步驟3、如圖6、圖7所示，在所述基板I上沉積第三色阻層，所述第三色阻層填充于所述數(shù)個第一、第二色阻塊10、20之間的區(qū)域，并覆蓋所述第二色阻薄膜201。通過第三道半色調(diào)光罩93對所述第三色阻層進(jìn)行曝光、顯影，在所述基板I上得到分別位于所述數(shù)個第二色阻塊20遠(yuǎn)離所述第一色阻塊10 —側(cè)的第一間隙102處的數(shù)個第三色阻塊30、及位于所述數(shù)個第二色阻薄膜201上的數(shù)個第三色阻薄膜301 ;
[0041]所述數(shù)個相對應(yīng)的第一、第二、第三色阻薄膜101、201、301從下至上依次疊加，形成數(shù)個復(fù)合色阻薄膜，所述數(shù)個復(fù)合色阻薄膜位于所述數(shù)個第一、第二、第三色阻塊10、20、30之間，從而代替黑色矩陣，起到遮擋漏光的作用。
[0042]具體的，所述第一、第二、第三色阻可以為紅、綠、藍(lán)色阻按任意順序的排列組合。在本實(shí)施例中，所述第一、第二、第三色阻依次為紅、綠、藍(lán)色阻。
[0043]具體的，所述第一、第二、第三色阻薄膜101、201、301的大小和形狀完全相同，從而使得構(gòu)成復(fù)合色阻薄膜的對應(yīng)設(shè)置的第一、第二、第三色阻薄膜101、201、301完全對應(yīng)疊加，避免產(chǎn)生漏光。
[0044]具體的，第一、第二、第三道半色調(diào)光罩91、92、93上與第一、第二、第三色阻薄膜101,201,301正對的區(qū)域為半透光，與已成形的第一、第二、第三色阻塊10、20、30正對的區(qū)域為不透光，與待成形的第一、第二、第三色阻塊10、20、30正對的區(qū)域為全透光，從而使所述第一、第二、第三色阻薄膜101、201、