的材料，例如能夠使用氧化鋯。另外，作為光纖支架36的材料，例如能夠使用不銹鋼。
[0039]第二支架32具有圓筒形狀。作為第二支架32的材料，例如能夠使用不銹鋼。在第二支架32的內(nèi)側配置有光纖3的光纖支架36。光纖支架36例如通過YAG焊接而固定于第二支架32。第一支架31與第二支架32例如通過YAG焊接而接合。
[0040]此處，對將合成部20和準直器部30組裝于框體部12的步驟的詳細內(nèi)容進行說明。首先，將合成部20和聚光透鏡33安裝到第一支架31內(nèi)。接著，將第一支架31抵接到框體部12中的光波的射出側的端部，并相對于框體部12進行定位，使得從基板11射出的兩個光波通過合成部20而從聚光透鏡33的中心射出。并且，例如通過YAG焊接將第一支架31固定在框體部12。
[0041]接著，將連通到第二支架32內(nèi)的光纖3的前端部抵接到第一支架31，并進行光纖3的位置調(diào)整，使得光纖3的前端部位于從聚光透鏡33射出的光波最大地結合的焦點位置上。在該狀態(tài)下，例如通過YAG焊接來將光纖支架36與第二支架32彼此接合。最后，例如通過YAG焊接來將第二支架32與第一支架31接合。
[0042]本實施方式以上述方式構成，在框體部12的容納空間X內(nèi)設置有基板11，在容納空間X外配置有合成部20。因此，能夠在將構成框體部12的箱部12a與蓋部12b接合之后組裝合成部20。因此，即使在通過利用縫焊等的熱量的方法進行箱部12a與蓋部12b之間的接合的情況下，通過在將箱部12a與蓋部12b接合之后再組裝合成部20，從而不會由于箱部12a與蓋部12b接合時的熱量的影響而在合成部20產(chǎn)生錯位。另外，由于是在框體部12的容納空間X外設置合成部20的結構，因此能夠與合成部20的空間量以及合成部20的安裝所需的空間量相應地使框體部12小型化。因此，能夠防止框體部12的長形化，即使在對框體部12施加熱量時也能夠抑制翹曲的發(fā)生。這樣一來，即使溫度變化，光調(diào)制器I的特性也不會劣化。
[0043]另外，在光調(diào)制器I中，能夠在框體部12的容納空間X外將合成部20和準直器部30在同軸上相鄰配置。由此，與合成部20配置在框體部12的容納空間X內(nèi)并且準直器部30配置在框體部12的容納空間X外的情況相比，在本實施方式所涉及的光調(diào)制器I中，即使在溫度變化的情況下也能夠抑制合成部20與準直器部30的錯位，能夠防止特性的劣化。
[0044]合成部20具有偏振旋轉元件21和偏振合成元件22。偏振旋轉元件21和偏振合成元件22配置在框體部12的容納空間X外。由此，通過在框體部12的容納空間X外配置偏振旋轉元件21和偏振合成元件22，從而能夠?qū)崿F(xiàn)框體部12的進一步的小型化。另外，由于能夠?qū)崿F(xiàn)框體部12的進一步的小型化，因此即使在溫度變化的情況下也能夠進一步抑制框體部12的翹曲，能夠抑制特性的劣化。進而，在將偏振旋轉元件21和偏振合成元件22設置在框體部內(nèi)的以往的結構的情況下，為了確保偏振旋轉元件21和偏振合成元件22的配置空間，框體部12的除了用于固定基板11的面以外的底面厚度變薄。因此，在現(xiàn)有技術的結構中在底面的厚度薄的部分(薄壁部)中溫度變化的影響變得顯著，但是在本實施方式中該影響也被抑制。
[0045]準直器部30包括固定有合成部20和聚光透鏡33的第一支架31以及固定有光纖3的第二支架32。由此，通過對第一支架31和第二支架32的位置關系進行調(diào)節(jié)，能夠?qū)⑼ㄟ^聚光透鏡33聚光的光波更切實地導入到光纖3。
[0046]在安裝有合成部20的分隔件部25設置有與合成部20抵接的兩個抵接面25a。由此，在將合成部20通過粘接而固定到分隔件部25的抵接面25a時，能夠確保較寬的粘接面積，能夠使粘接強度增大。由此，能夠防止合成部20的錯位和脫落。
[0047]例如，利用不銹鋼等相同的金屬材料來形成框體部12、第一支架31以及第二支架32，并將它們通過YAG焊接來接合。此時，由于框體部12、第一支架31以及第二支架32為相同的材料，因此線膨脹系數(shù)相同，從而能夠成為不易受到由溫度變化引起的熱變形的影響的光調(diào)制器I。
[0048]接著，對將合成部20固定到分隔件部25時的變形例進行說明。首先，對第一變形例進行說明。如圖4所示，在第一變形例所涉及的光調(diào)制器IA中，與上述實施方式同樣地，使合成部20抵接到分隔件部25的兩個抵接面25a并通過粘接劑來將它們固定。進而，在第一支架31內(nèi)設置有將合成部20朝向抵接面25a按壓而限制合成部20相對于抵接面25a錯位的板簧(限制部件)40。此時，能夠簡單且更切實地將合成部20固定于分隔件部25。
[0049]接著，對第二變形例進行說明。如圖5所示，在第二變形例的光調(diào)制器IB中，與上述實施方式同樣地，使合成部20抵接到分隔件部25的兩個抵接面25a并通過粘接劑來將它們固定。進而，在第一支架31內(nèi)，在分隔件部25與第一支架31之間的間隙中填充有光學用密封材料等填充劑(限制部件)50。通過填充填充劑50，能夠限制合成部20相對于抵接面25a的錯位。由此，能夠簡單且更切實地將合成部20固定于分隔件部25。
[0050]以上，對本發(fā)明的一個實施方式和各種變形例進行了說明，但是本發(fā)明不限定于上述實施方式和變形例。例如，對于在調(diào)制部10中使用的光波導元件的基板11，也能夠使用具有電場吸收效應的半導體材料或具有電光效應的有機材料。雖然合成部20具有偏振旋轉元件21和偏振合成元件22，但是也可以將偏振旋轉元件21組裝到基板11，或設置在框體部12內(nèi)。此時，能夠?qū)⑵裥D元件21配置在基板11等的適當?shù)奈恢?，設計的自由度提高。
[0051]通常，透鏡部13固定在框體部12內(nèi)的容納空間X的框體底面，但是也能夠?qū)⑼哥R部13固定在基板11的射出端部。此時，能夠進一步減小框體底面的薄壁部而實現(xiàn)小型化并能夠抑制溫度變化的影響。
[0052]作為合成部20的偏振合成元件22，也可以使用偏振分光鏡(PBS)。此時，如上述實施方式所述，與作為偏振合成元件22而使用釩酸釔晶體等的情況相比較，能夠減小偏振合成元件22在光波的光軸方向上的大小(縮短元件長度)。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)光調(diào)制器的進一步的小型化。
[0053]對于合成部20，作為具有基于偏振旋轉元件21和偏振合成元件22的偏振復用功能的DP-QPSK調(diào)制器進行了說明，但是，如果是不需要偏振復用功能的調(diào)制方式的調(diào)制器，則也可以代替偏振合成元件22而使用其他光合成元件。此時，不需要偏振旋轉元件21。
[0054]雖然使用板簧40或填充劑50進行合成部20的錯位的防止，但是也可以使用除此以外的限制部件進行合成部20的錯位的限制。
[0055]雖然聚光透鏡33固定于第一支架31，但是也可以固定于第二支架32。
[0056]上述的各部分的材料和YAG焊接等接合方法為一個例子，并不限定于所例示的情況。另外，雖然從基板11射出兩個光波，但是也可以射出3個以上的光波。
[0057]工業(yè)上的可利用性
[0058]根據(jù)本發(fā)明的一方面，即使在溫度變化的情況下，特性也不會劣化。
[0059]標號說明
[0060]I…光調(diào)制器(光學兀件)，2、3…光纖，11...基板(光波導兀件)，12…框體部，12a…箱部(部件)，12b…蓋部(部件)，20…合成部，21…偏振旋轉元件，22…偏振合成元件，25...分隔件部，30...準直器部，31...第一支架(第一準直器部)，32…第二支架(第二準直器部)，33…聚光透鏡(聚光構件)，40…板簧(限制部件)，50…填充劑(限制部件)，X...容納空間。
【主權項】
1.一種光學元件，通過空間光學系統(tǒng)對光波進行合成， 所述光學元件包括: 框體部，在內(nèi)部具有容納空間，通過接合兩個以上的部件而形成； 光波導元件，設置在所述容納空間內(nèi)，并射出至少兩個光波； 合成部，設置在所述容納空間外，通過空間光學系統(tǒng)對從所述光波導元件射出到所述框體部外的光波進行合成；以及 準直器部，與所述框體部連接并且保持所述合成部，并具有對通過所述合成部合成的光波進行聚光的聚光構件和供通過所述聚光構件聚光的光波導入的光纖。2.根據(jù)權利要求1所述的光學元件，其中， 所述合成部包括: 偏振旋轉元件，使從所述光波導元件射出的光波中的至少一個光波的偏振面旋轉；以及 偏振合成元件，對從所述光波導元件射出的光波中的未通過所述偏振旋轉元件旋轉偏振面的光波和通過所述偏振旋轉元件旋轉了偏振面的光波進行偏振合成，或者，對通過所述偏振旋轉元件旋轉了偏振面的光波彼此進行偏振合成。3.根據(jù)權利要求1所述的光學元件，其中， 還包括偏振旋轉元件，該偏振旋轉元件使從所述光波導元件射出的光波中的至少一個光波的偏振面旋轉， 所述合成部對從所述光波導元件射出的光波中的未通過所述偏振旋轉元件旋轉偏振面的光波和通過所述偏振旋轉元件旋轉了偏振面的光波進行偏振合成，或者，對通過所述偏振旋轉元件旋轉了偏振面的光波彼此進行偏振合成。4.根據(jù)權利要求1?3中的任一項所述的光學元件，其中， 所述準直器部還包括分隔件部，該分隔件部具有與所述合成部抵接的至少兩個以上的抵接面， 所述合成部固定于所述分隔件部的所述抵接面。5.根據(jù)權利要求4所述的光學元件，其中， 所述準直器部還包括限制部件，該限制部件對所述合成部相對于所述分隔件部的所述抵接面的錯位進行限制。6.根據(jù)權利要求5所述的光學元件，其中， 所述限制部件為板簧或填充劑。7.根據(jù)權利要求1?6中的任一項所述的光學元件，其中， 所述準直器部包括: 第一準直器部，固定有所述合成部和所述聚光構件；以及 第二準直器部，固定有所述光纖。
【專利摘要】本發(fā)明的一方面為通過空間光學系統(tǒng)對光波進行合成的光學元件，構成為包括框體部、光波導元件、合成部以及準直器部?？蝮w部在內(nèi)部具有容納空間，通過接合兩個以上的部件而形成。光波導元件設置在容納空間內(nèi)，射出至少兩個光波。合成部設置在容納空間外，通過空間光學系統(tǒng)對從光波導元件射出到框體部外的光波進行合成。準直器部與框體部連接并且保持合成部，具有對通過合成部合成的光波進行聚光的聚光構件和供通過聚光構件聚光的光波導入的光纖。
【IPC分類】G02B6/30, G02F1/035, G02F1/01
【公開號】CN104969119
【申請?zhí)枴緾N201480006526
【發(fā)明人】岡村美紀, 原德隆
【申請人】住友大阪水泥股份有限公司
【公開日】2015年10月7日
【申請日】2014年1月21日
【公告號】US20150362687, WO2014119427A1