彩膜基板及其制作方法以及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種彩膜基板、一種彩膜基板制作方法和一種顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在液晶顯示器件設(shè)計中，為了確保液晶邊緣的工藝要求，以及良好的面板抗壓性能，通常需要在上下基板之間分別設(shè)計主隔墊物和副隔墊物，且主副隔墊物間具有一定的高度差。
[0003]傳統(tǒng)的彩膜基板中像素排列結(jié)構(gòu)有兩種，一種是條狀結(jié)構(gòu)，如圖1所示，另一種是島狀結(jié)構(gòu)，如圖2所示。在上述兩種結(jié)構(gòu)中分別形成隔墊物時，為了在主隔墊物和副隔墊物之間形成高度差，需要分別采用不同規(guī)格的裝置來分別形成主隔墊物和副隔墊物，或者通過半掩膜板曝光工藝調(diào)節(jié)來實現(xiàn)，工藝復(fù)雜且不易控制。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，降低形成主隔墊物和副隔墊物的工藝難度。
[0005]為此目的，本發(fā)明提出了一種彩膜基板，包括:
[0006]m列條狀結(jié)構(gòu)子像素，η列島狀結(jié)構(gòu)子像素，m多1，η多I ;
[0007]在所述條狀結(jié)構(gòu)子像素的相鄰行之間設(shè)置有第一黑矩陣，所述條狀結(jié)構(gòu)子像素覆蓋所述第一黑矩陣；
[0008]在所述島狀結(jié)構(gòu)子像素的相鄰行之間設(shè)置有第二黑矩陣；
[0009]所述第一黑矩陣上的條狀結(jié)構(gòu)子像素之上設(shè)置有主隔墊物；
[0010]在所述第二黑矩陣之上設(shè)置副隔墊物。
[0011]優(yōu)選地，所述第一黑矩陣和所述第二黑矩陣為一體結(jié)構(gòu)。
[0012]優(yōu)選地，同一列的子像素顏色相同。
[0013]優(yōu)選地，所述子像素包括紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素。
[0014]優(yōu)選地，所述紅色子像素、綠色子像素和藍(lán)色子像素中的一種子像素為條狀結(jié)構(gòu)，其他子像素為島狀結(jié)構(gòu)。
[0015]優(yōu)選地，所述子像素包括紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素和白色子像素。
[0016]優(yōu)選地，所述紅色子像素、綠色子像素、藍(lán)色子像素和白色子像素中的兩種子像素為條狀結(jié)構(gòu)，其他子像素為島狀結(jié)構(gòu)。
[0017]優(yōu)選地，所述紅色子像素和藍(lán)色子像素為條狀結(jié)構(gòu)，
[0018]或所述綠色子像素和白色子像素為條狀結(jié)構(gòu)。
[0019]本發(fā)明還提出了一種顯示裝置，包括上述任一項所述的彩膜基板。
[0020]本發(fā)明還提出了一種彩膜基板制作方法，包括:
[0021]形成m列第一黑矩陣和η列第二黑矩陣，m彡1，η彡I ;
[0022]在所述m列第一黑矩陣之上形成m列條狀結(jié)構(gòu)子像素；
[0023]在所述η列第二黑矩陣之上形成η列島狀結(jié)構(gòu)子像素；
[0024]在所述第一黑矩陣上的條狀結(jié)構(gòu)子像素之上形成主隔墊物，在所述第二黑矩陣之上形成副隔墊物。
[0025]通過上述技術(shù)方案，可以通過同一設(shè)備或工藝來形成相同高度的主隔墊物和副隔墊物，由于主隔墊物的基礎(chǔ)高于副隔墊物的基礎(chǔ)，最終使得主隔墊物的上表面高于副隔墊物的上表面，在保證主隔墊物與副隔墊物上表面的高度差同時，簡化了制作主隔墊物和副隔墊物的工藝。
【附圖說明】
[0026]通過參考附圖會更加清楚的理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點，附圖是示意性的而不應(yīng)理解為對本發(fā)明進(jìn)行任何限制，在附圖中:
[0027]圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中條狀結(jié)構(gòu)像素的示意圖；
[0028]圖2示出了現(xiàn)有技術(shù)中島狀結(jié)構(gòu)像素的示意圖；
[0029]圖3示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖4示出了圖3中彩膜基板沿ΑΑ’的截面示意圖；
[0031]圖5示出了圖3中彩膜基板沿ΒΒ’的截面示意圖；
[0032]圖6示出了圖3中彩膜基板沿CC’的截面示意圖；
[0033]圖7示出了根據(jù)本發(fā)明又一個實施例的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖8示出了根據(jù)本發(fā)明又一個實施例的彩膜基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖9示出了根據(jù)本發(fā)明一個實施例的彩膜基板制作方法的示意流程圖。
【具體實施方式】
[0036]為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0037]在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是，本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來實施，因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍并不受下面公開的具體實施例的限制。
[0038]如圖3、4和5所示，根據(jù)本發(fā)明一個實施例的彩膜基板，包括:
[0039]m列條狀結(jié)構(gòu)子像素，η列島狀結(jié)構(gòu)子像素，m多1，η多I ;
[0040]在條狀結(jié)構(gòu)子像素的相鄰行之間設(shè)置有第一黑矩陣，條狀結(jié)構(gòu)子像素覆蓋第一黑矩陣I ;
[0041]在島狀結(jié)構(gòu)子像素的相鄰行之間設(shè)置有第二黑矩陣2 ;
[0042]第一黑矩陣I上的條狀結(jié)構(gòu)子像素之上設(shè)置有主隔墊物3 ;
[0043]在第二黑矩陣2之上設(shè)置副隔墊物4。
[0044]由于第一黑矩陣I之上覆蓋有條狀結(jié)構(gòu)子像素，如圖4所示，例如覆蓋紅色子像素11，而第二黑矩陣2之上則未覆蓋子像素，如圖5所示，此時第二黑矩陣2兩側(cè)為可以綠色子像素12，此時m = Ln = 2，當(dāng)然，也可以根據(jù)需要改變條狀結(jié)構(gòu)子像素和島狀結(jié)構(gòu)子像素的比例，也可以將綠色子像素12和/或藍(lán)色子像素設(shè)置為條狀結(jié)構(gòu)，將紅色子像素11設(shè)置為島狀結(jié)構(gòu)。
[0045]如圖6可知，主隔墊物3的基礎(chǔ)，也即紅色子像素11的上表面，高于設(shè)置副隔墊物4的基礎(chǔ)，也即第二黑矩陣2的上表面，從而可以通過同一設(shè)備或工藝來形成相同高度的主隔墊物3和副隔墊物4，由于主隔墊物3的基礎(chǔ)高于副隔墊物4的基礎(chǔ)，最終使得主隔墊物3的上表面高于副隔墊物4的上表面，在保證主隔墊物3與副隔墊物4上表面的高度差同時，簡化了制作主隔墊物3和副隔墊物4的制作工藝。
[0046]如圖6所示，優(yōu)選地，第一黑矩陣和第二黑矩陣為一體結(jié)構(gòu)。
[0047]通過將第一黑矩陣I和第二黑矩陣2制作為一體結(jié)構(gòu)，一方面可以通過一次工藝來形成第一黑矩陣I和第二黑矩陣2，從而簡化制作工藝。另一方面，在通過同一設(shè)備來形成主隔墊物3和副隔墊物4時，主隔墊物3上表面的高度等于主隔墊物3的高度加上第一黑矩陣I和條狀結(jié)構(gòu)子像素的厚度，副隔墊物4上表面的高度等于副隔墊物4的高度加上第二黑矩陣2的厚度。也即主隔墊物3上表面和副隔墊物4上表面的高度差等于第一黑矩陣I和條狀子像素的厚度之和與第二黑矩陣2的厚度之差，而將第一黑矩陣I和第二黑矩陣2的厚度設(shè)置相等，則可以使得主隔墊物3上表面和副隔墊物4上表面的高度差等于條狀子像素的厚度，進(jìn)而可以通過調(diào)節(jié)條狀子像素的厚度這一項因素來方便且準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)主隔墊物3上表面和副隔墊物4上表面的高度差。
[0048]優(yōu)選地，同一列的子像素顏色相同。
[0049]由于同一列子像素屬于同一結(jié)構(gòu)，通過同一種工藝制成，而通過同一工藝制作相同顏色子像素?zé)o需在工藝過程中頻繁更換像素材料，使得工藝流程得到簡化。