一種新型高雙折射光子準(zhǔn)晶光纖的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種半徑小的高雙折射光子準(zhǔn)晶光纖,具體涉及一種基于Si02的高雙 折射光子準(zhǔn)晶光纖。
【背景技術(shù)】
[0002] 在光纖傳感、光通訊、光學(xué)精密儀器等應(yīng)用中,高雙折射光纖具有極大的應(yīng)用需 求,如光纖通信、光子晶體光纖激光器、光子晶體光纖傳感器等。高雙折射可提高保偏能力, 即可使光在超連續(xù)譜范圍保持偏振。
[0003] 為了達到高雙折射,大多數(shù)光子晶體光纖結(jié)構(gòu)基本上都引入了過小直徑的圓孔、 橢圓孔、螺旋結(jié)構(gòu)或在空氣孔充入其它液體使其制作難度加大。
[0004] 在實際傳感應(yīng)用中,不僅要求光纖具有高雙折射率,并且在其他方面也提出了較 高要求,比如:為實現(xiàn)高精度光纖陀螺的微型化,一般要求保偏光纖具有更小的直徑;為減 少熔接損耗和傳輸時的模場失配,光纖場能量分布要盡可能集中。然而,現(xiàn)在提出的大多數(shù) 高雙折射光子晶體光纖半徑一般大于l〇nm且場分布較為分散。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 為了保持光纖高雙折射的同時模場能量分布集中且半徑小、制作難度低,本發(fā)明 提供了一種新型高雙折射光子準(zhǔn)晶光纖,具有模場能量分布集中以及降低現(xiàn)有工藝水平對 光纖制備的限制的優(yōu)勢,在通訊傳感等方面具有較高應(yīng)用前景。
[0006] 本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0007] -種新型高雙折射光子準(zhǔn)晶光纖,其背景材料為Si02,整個結(jié)構(gòu)的散射子以十重 Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)排布,晶格常數(shù)為A,包層圓形空氣孔直徑分別為(13和d4,其中: 4取自十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第三至五層的散射子,d4取自十重Penrose型光子準(zhǔn) 晶結(jié)構(gòu)第六至九層的散射子;在芯區(qū)引入六個圓形空氣孔,其中:上下四個圓形空氣孔直 徑為山,取自十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第二層靠近土Y軸四個散射子;左右兩個圓形空 氣孔直徑為d2,取自十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第三層±X軸上兩個散射子;為增強不對 稱性以提高雙折射率,在土Y軸上1. 3XA處引入兩個直徑為(15的圓形空氣孔。
[0008] 本發(fā)明提出光纖具有以下優(yōu)點:
[0009] (1)雙折射率高,與采用橢圓空氣孔或小孔徑空氣孔的光纖具有相同數(shù)量級; [0010] (2)全部采用圓形空氣孔,制造工藝簡單;
[0011] (3)模場能量分布集中,熔接損耗??;
[0012] (4)光纖半徑?。?. 5ym),更加適合微型傳感通訊設(shè)備。
【附圖說明】
[0013] 圖1為高雙折射光子準(zhǔn)晶光纖橫截面結(jié)構(gòu)圖;
[0014] 圖2為波長A= 1. 55ym時的Ex偏振?;D龇植?;
[0015] 圖3為波長A= 1. 55ym時的Ey偏振?;D龇植迹?br>[0016] 圖4為有效折射率隨波長的變化關(guān)系;
[0017]圖5為芯層空氣孔大小對光纖的影響(雙折射);
[0018]圖6為芯層空氣孔大小對光纖的影響(拍長);
[0019] 圖7為外包層圓形空氣孔大小對光纖的影響(雙折射);
[0020] 圖8為外包層圓形空氣孔大小對光纖的影響(拍長);
[0021]圖9為晶格常數(shù)大小對光纖的影響(雙折射);
[0022] 圖10為晶格常數(shù)大小對光纖的影響(拍長)。
【具體實施方式】
[0023] 下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的技術(shù)方案作進一步的說明,但并不局限于此,凡是對本 發(fā)明技術(shù)方案進行修改或者等同替換,而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍,均應(yīng)涵蓋 在本發(fā)明的保護范圍中。
[0024] 經(jīng)典Penrose型光子準(zhǔn)晶,即二維八重、十重、十二重Penrose型。本發(fā)明高雙折 射光子準(zhǔn)晶橫截面如圖1所示,其背景材料為Si02,整個結(jié)構(gòu)的散射子(即圖中以不同灰 度標(biāo)注的空氣孔)以十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)排布,晶格常數(shù)為A,包層圓形空氣孔 (取十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第三至九層的散射子)直徑分別為d#Pd4,其中:d3取自 十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第三至五層的散射子,(14取自十重Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu) 第六至九層的散射子;在芯區(qū)引入六個圓形空氣孔,上下四個圓形空氣孔(取十重Penrose 型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第二層靠近土Y軸四個散射子)直徑為山,左右兩個圓形空氣孔(取十重 Penrose型光子準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)第三層±X軸上兩個散射子)直徑為d2;為增強不對稱性以提高 雙折射率,在土Y軸上1. 3XA處引入兩個直徑為(15的圓形空氣孔。
[0025] 具體實施算例:
[0026] 束傳播法(BPM)是目前模擬集成光波導(dǎo)器件最廣泛采用的方法之一。有限差分束 傳播法(FD-BPM)利用電磁場理論,在橫向采用時域有限差分法(FDTD)代替波動方程,將計 算區(qū)域設(shè)置為電場和磁場交叉的網(wǎng)格空間,用具有二階精度的中心差分格式把各場分量滿 足的微分方程轉(zhuǎn)化為差分方程從而得到離散場的數(shù)值解,在縱向仍逐步計算各個橫截面上 的場分布。該方法具有原理簡單,精度高及應(yīng)用廣等優(yōu)點?;诒痉椒▽饫w結(jié)構(gòu)進行理 論計算,得到了各項性能參數(shù)與波長、結(jié)構(gòu)的變化關(guān)系。
[0027] 模式雙折射B:兩個正交偏振模之間的有效折射率差。雙折射率越高,保偏能力越 強。
[0028]
[0029] 其中:neif表不y偏振方向基t旲的有效折射率,/|eff表不x偏振方向基|旲的有效折 射率。
[0030] 拍長LB:高雙折射光纖中兩個正交偏振模之間的相位差達到2JI時所傳輸?shù)拈L 度,定義為波長A與雙折射B的比值,量綱為mm。一般來說,拍長越短,保偏能力越強。
[0031]
(2)
[0032] 二氧化娃的材料折射率n隨波長的變化可由Sellmeier方程計算得到:
[0033]
(3)
[0034] 其中:
[0035] Bi= 0. 696166300B2= 0. 4079422600B3= 0. 897479400
[0036] (^= 0.004679148C2= 0. 013512060 C3= 97. 933980000
[0037] 光纖基模模場分布:
[0038] 經(jīng)模擬和計算所得的最優(yōu)結(jié)構(gòu)(山=1. 55ym,d2= 1. 6ym,d3= 1.