一種曝光基臺(tái)和曝光設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種曝光基臺(tái)和曝光設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]當(dāng)今社會(huì)信息技術(shù)高速發(fā)展，液晶顯示器(TFT-1XD)己經(jīng)深入人們的日常生活，隨著人們對(duì)液晶顯示技術(shù)的更多了解，消費(fèi)者對(duì)液晶顯示面板畫(huà)面品質(zhì)的要求也在不斷提高。這些更高的畫(huà)質(zhì)要求促使液晶面板廠商進(jìn)一步提升技術(shù)并開(kāi)發(fā)高技術(shù)規(guī)格的產(chǎn)品。TFT-LCD面板在生產(chǎn)開(kāi)發(fā)過(guò)程中不斷出現(xiàn)新的不良現(xiàn)象，如有效顯示區(qū)域內(nèi)顯示亮度或顯示顏色不均勾，該不良也稱(chēng)作顯示Mura。顯示Mura是一種非常影響液晶顯示面板畫(huà)面品質(zhì)的不良現(xiàn)象。
[0003]根據(jù)試驗(yàn)獲知，上述顯示Mura頻繁產(chǎn)生于顯示基板制備過(guò)程中的曝光工藝中，顯示Mura在曝光工藝中的產(chǎn)生源于曝光設(shè)備中的曝光基臺(tái)。如圖1-圖2所示，在顯示基板6進(jìn)行曝光之前，由舉起桿32支撐并舉起顯示基板6，并將顯示基板6傳送并放置到基臺(tái)本體2上；在顯示基板6進(jìn)行曝光時(shí)，舉起桿32落至相鄰兩基臺(tái)本體2之間的間隔區(qū)域內(nèi)，然后，曝光設(shè)備開(kāi)始對(duì)顯示基板6進(jìn)行曝光。傳統(tǒng)曝光基臺(tái)的基臺(tái)本體2與舉起桿32之間大約有1.5mm的間隙，曝光時(shí)，對(duì)應(yīng)照射至間隙中的曝光光線7會(huì)直接入射至位于基臺(tái)本體2下方的底座I上，然后經(jīng)底座I反射至顯示基板6 ;而對(duì)應(yīng)照射至基臺(tái)本體2所在區(qū)域的曝光光線7會(huì)直接入射至基臺(tái)本體2上，經(jīng)基臺(tái)本體2反射至顯示基板6，這就導(dǎo)致對(duì)應(yīng)照射至間隙中的曝光光線7經(jīng)反射后入射至顯示基板6的光程差大于對(duì)應(yīng)照射至基臺(tái)本體2上的曝光光線7經(jīng)反射后入射至顯示基板6的光程差，由于隨著曝光光線7光程的加長(zhǎng)，曝光光線7的強(qiáng)度會(huì)相應(yīng)衰減，所以最終會(huì)導(dǎo)致顯示基板6上對(duì)應(yīng)間隙的區(qū)域和對(duì)應(yīng)基臺(tái)本體2的區(qū)域曝光不均勻，從而造成兩個(gè)區(qū)域內(nèi)同一膜層圖形出現(xiàn)曝光差異，進(jìn)而導(dǎo)致宏觀上顯示基板6有效顯示區(qū)域的顯示亮度或顯示顏色不均勻，即顯示Mura。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問(wèn)題，提供一種曝光基臺(tái)和曝光設(shè)備。該曝光基臺(tái)能使照射至基臺(tái)本體與舉起部之間間隔區(qū)域的曝光光線照射至第一結(jié)構(gòu)上，從而使該曝光基臺(tái)相比于傳統(tǒng)的曝光基臺(tái)，入射至基臺(tái)本體與舉起部之間間隔區(qū)域的曝光光線發(fā)生反射的光程差減小，進(jìn)而使該曝光基臺(tái)在對(duì)應(yīng)間隔區(qū)域的區(qū)域和對(duì)應(yīng)基臺(tái)本體承載面的區(qū)域?qū)Υ毓饣宓钠毓飧泳鶆颉?br>[0005]本發(fā)明提供一種曝光基臺(tái)，包括底座以及設(shè)置在所述底座上的多個(gè)基臺(tái)本體和多個(gè)舉起部，所述基臺(tái)本體與所述舉起部交錯(cuò)并間隔設(shè)置，所述基臺(tái)本體用于承載待曝光基板；所述舉起部用于將所述待曝光基板傳送至所述基臺(tái)本體上，所述基臺(tái)本體包括靠近所述舉起部設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)，所述舉起部包括位于其用于與所述待曝光基板相接觸一端的第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)相互配合能使照射至所述基臺(tái)本體與所述舉起部之間間隔區(qū)域的曝光光線照射至所述第一結(jié)構(gòu)上。
[0006]優(yōu)選地，所述基臺(tái)本體還包括遠(yuǎn)離所述舉起部設(shè)置的第一支撐臺(tái)，所述第一結(jié)構(gòu)包括位于所述第一支撐臺(tái)靠近所述舉起部一側(cè)的第二支撐臺(tái)，所述第一支撐臺(tái)與所述第二支撐臺(tái)連接為一體，且所述第二支撐臺(tái)的高度低于所述第一支撐臺(tái)；
[0007]所述舉起部包括舉起桿和設(shè)置在所述舉起桿一端的吸盤(pán)，所述吸盤(pán)用于吸附所述待曝光基板；所述第二結(jié)構(gòu)為所述吸盤(pán)，所述吸盤(pán)在所述底座上的正投影能覆蓋所述第二支撐臺(tái)與所述舉起桿之間的第一間隔區(qū)域，且所述吸盤(pán)能在曝光時(shí)內(nèi)嵌于與所述舉起部相鄰的一對(duì)所述第二支撐臺(tái)和一對(duì)所述第一支撐臺(tái)圍成的空間中。
[0008]優(yōu)選地，所述吸盤(pán)的用于吸附所述待曝光基板的吸附面能在曝光時(shí)與所述第一支撐臺(tái)的所述承載面相平齊。
[0009]優(yōu)選地，所述第一支撐臺(tái)與所述第二支撐臺(tái)的高度差大于等于所述吸盤(pán)的厚度，所述吸盤(pán)與所述第一支撐臺(tái)相對(duì)，且所述吸盤(pán)與所述第一支撐臺(tái)之間的間距等于所述第二支撐臺(tái)與所述舉起桿之間的間距。
[0010]優(yōu)選地，所述第二支撐臺(tái)的用于與所述待曝光基板相對(duì)的頂面平行于所述底座和所述第一支撐臺(tái)的所述承載面，且所述第二支撐臺(tái)的頂面與所述第一支撐臺(tái)的所述承載面之間的間距小于所述第二支撐臺(tái)的頂面與所述底座之間的間距。
[0011]優(yōu)選地，所述第一結(jié)構(gòu)還包括設(shè)置在所述第二支撐臺(tái)的頂面上的減反射膜層，所述減反射膜層能減少照射到其上的曝光光線的反射量。
[0012]優(yōu)選地，所述減反射膜層采用綠色UPE樹(shù)脂材料。
[0013]優(yōu)選地，所述吸盤(pán)的用于吸附所述待曝光基板的吸附面采用綠色UPE樹(shù)脂材料，所述第一支撐臺(tái)的所述承載面采用陶瓷材料。
[0014]優(yōu)選地，所述舉起桿能伸縮，所述舉起桿用于在傳送所述待曝光基板時(shí)伸長(zhǎng)，并帶動(dòng)所述吸盤(pán)沿傳送方向移動(dòng)，以將所述待曝光基板傳送到所述第一支撐臺(tái)上；所述舉起桿用于在曝光時(shí)縮短，并帶動(dòng)所述吸盤(pán)嵌入至相對(duì)的一對(duì)所述第二支撐臺(tái)和一對(duì)所述第一支撐臺(tái)圍成的空間中。
[0015]本發(fā)明還提供一種曝光設(shè)備，包括上述曝光基臺(tái)。
[0016]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所提供的曝光基臺(tái)，通過(guò)在基臺(tái)本體中設(shè)置第一結(jié)構(gòu)和在舉起部中設(shè)置第二結(jié)構(gòu)，能使照射至基臺(tái)本體與舉起部之間間隔區(qū)域的曝光光線照射至第一結(jié)構(gòu)上，從而使照射至第一結(jié)構(gòu)上的曝光光線發(fā)生反射的光程差小于照射至底座的曝光光線發(fā)生反射的光程差，從而使該曝光基臺(tái)相比于傳統(tǒng)的曝光基臺(tái)，入射至基臺(tái)本體與舉起部之間間隔區(qū)域的曝光光線發(fā)生反射的光程差減小、并近似等于入射至基臺(tái)本體承載面上的曝光光線發(fā)生反射的光程差，進(jìn)而使該曝光基臺(tái)在對(duì)應(yīng)間隔區(qū)域的區(qū)域和對(duì)應(yīng)基臺(tái)本體承載面的區(qū)域?qū)Υ毓饣宓钠毓飧泳鶆?，提高了曝光后形成的顯示基板的顯示亮度和顏色的均勻性。
[0017]本發(fā)明所提供的曝光設(shè)備，通過(guò)采用上述曝光基臺(tái)，提高了該曝光設(shè)備對(duì)待曝光基板進(jìn)行曝光的均勻度，從而提高了曝光后形成的顯示基板的顯示亮度和顏色的均勻性，進(jìn)而提高了該曝光設(shè)備的曝光質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中曝光基臺(tái)中的舉起桿將顯示基板傳送到基臺(tái)本體上的示意圖；
[0019]圖2為圖1中曝光基臺(tái)的結(jié)構(gòu)剖視圖；
[0020]圖3為本發(fā)明實(shí)施例1中曝光基臺(tái)的結(jié)構(gòu)剖視圖。
[0021]其中的附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0022]1.底座；2.基臺(tái)本體；21.第一結(jié)構(gòu)；211.第二支撐臺(tái)；22.第一支撐臺(tái)；2111.頂面；212.減反射膜層；3.舉起部；31.第二結(jié)構(gòu)；32.舉起桿；4.待曝光基板；5.間隔區(qū)域；51.第一間隔區(qū)域；52.第二間隔區(qū)域；6.顯示基板；7.曝光光線。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明所提供的一種曝光基臺(tái)和曝光設(shè)備作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0024]實(shí)施例1:
[0025]本實(shí)施例提供一種曝光基臺(tái)，如圖3所示，包括底座I以及設(shè)置在底座I上的多個(gè)基臺(tái)本體2和多個(gè)舉起部3，基臺(tái)本體2與舉起部3交錯(cuò)并間隔設(shè)置，基臺(tái)本體2用于承載待曝光基板4 ;舉起部3用于將待曝光基板4傳送至基臺(tái)本體2上，基臺(tái)本體2包括靠近舉起部3設(shè)置的第一結(jié)構(gòu)21，舉起部3包括位于其用于與待曝光基板4相接觸一端的第二結(jié)構(gòu)31，第一結(jié)構(gòu)21和第二結(jié)構(gòu)31相互配合能使照射至基臺(tái)本體2與舉起部3之間間隔區(qū)域5的曝光光線照射至第一結(jié)構(gòu)21上。
[0026]通過(guò)在基臺(tái)本體2中設(shè)置第一結(jié)構(gòu)21和在舉起部3中設(shè)置第二結(jié)構(gòu)31，能使照射至基臺(tái)本體2與舉起部3之間間隔區(qū)域5的曝光光線照射至第一結(jié)構(gòu)21上，從而使照射至第一結(jié)構(gòu)21上的曝光光線發(fā)生反射的光程差小于照射至底座I的曝光光線發(fā)生反射的光程差，從而使該曝光基臺(tái)相比于傳統(tǒng)的曝光基臺(tái)，入射至基臺(tái)本體2與舉起部3之間間隔區(qū)域5的曝光光線發(fā)生反射的光程差減小、并近似等于入射至基臺(tái)本體2承載面上的曝光光線發(fā)生反射的光程差，進(jìn)而使該曝光基臺(tái)在對(duì)應(yīng)間隔區(qū)域5的區(qū)域和對(duì)應(yīng)基臺(tái)本體2承載面的區(qū)域?qū)Υ毓饣?的曝光更加均勻，提高了曝光后形成的顯示基板的顯示亮度和顏色的均勻性。
[0027]本實(shí)施例中，基臺(tái)本體2還包括遠(yuǎn)離舉起部3設(shè)置的第一支撐臺(tái)22，第一結(jié)構(gòu)21包括位于第一支撐臺(tái)22靠近舉起部3 —側(cè)的第二支撐臺(tái)211，第一支撐臺(tái)22與第二支撐臺(tái)211連接為一體，且第二支撐臺(tái)211的高度低于第一支撐臺(tái)22 ;舉起部3包括舉起桿32和設(shè)置在舉起桿32 —端的吸盤(pán)，吸盤(pán)用于吸附待曝光基板4 ;第二結(jié)構(gòu)31為吸盤(pán)，吸盤(pán)在底座I上的正投影能覆蓋第二支撐臺(tái)211與舉起桿32之間的第一間隔區(qū)域51，且吸盤(pán)能在曝光時(shí)內(nèi)嵌于與舉起部3相鄰的一對(duì)第二支撐臺(tái)211和一對(duì)第一支撐臺(tái)22圍成的空間中。
[0028]由于吸盤(pán)在底座I上的正投影能覆蓋第二支撐臺(tái)211與舉起桿32之