一種彩膜基板及制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示技術領域，具體的說，涉及一種彩膜基板及制作方法。
【背景技術】
[0002]薄膜晶體管液晶顯示器TFT-1XD是一種通過上下基板產(chǎn)生的電場來改變液晶材料的偏轉(zhuǎn)方向，通過液晶材料的偏轉(zhuǎn)達到對光線的控制，從而實現(xiàn)高速度、高亮度、高對比度的顯示效果的顯示裝置。通常來說，TFT-LCD的TFT陣列電路和彩色濾光膜分別位于兩片玻璃載體上，分別稱為TFT陣列基板和彩膜基板。在模組的制作中，將兩片基板進行對組，形成液晶盒。為了保證盒厚的均一性，會在基板的一側(cè)采用間隙控制材料制作隔墊物(Photo Spacer，簡稱spacer或PS)。在對組過程中，通過隔墊物控制液晶盒的厚度，實現(xiàn)基板間厚度的均一性，如圖1所示。
[0003]然而，這種制作方法中對隔墊物材料和制成的要求較高。具體來說，要求隔墊物材料要有一定的機械強度，對液晶分子不會產(chǎn)生污染，有良好的附著力、良好的耐熱及耐老化性能等。另外，采用隔墊物結(jié)構(gòu)的時候，還需要將隔墊物所在位置進行遮光。為了保持像素的開口率，隔墊物結(jié)構(gòu)一般設計在金屬導線走線位置，也就是說，在設計金屬走線的時候，需要預留隔墊物存在的位置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決以上問題，本發(fā)明提供了一種彩膜基板及制作方法，用以避免制作隔墊物，節(jié)約了制作成本，提高了液晶盒的可靠性。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種彩膜基板，包括:
[0006]基底，其中，所述基底的顯示區(qū)域具有周期性的突起和凹陷，所述突起用于在所述彩膜基板與對應的陣列基板貼合時起支撐作用。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述突起的圖案與所述彩膜基板上的或所述彩膜基板對應的陣列基板上的黑色矩陣圖案相同。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述突起的表面設有黑色矩陣。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述凹陷的表面設置有色阻層。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述凹陷的表面未設置有色阻層。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，在所述基底的顯示區(qū)域的外側(cè)、與對應的陣列基板貼合處設置預留凹陷，所述預留凹陷用作膠框涂覆區(qū)域。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，還提供了一種用于制作彩膜基板的方法，包括:
[0013]在基板上涂覆光阻材料；
[0014]對涂覆的光阻材料進行處理，以裸露出部分基板；
[0015]對裸露的基板進行蝕刻處理，以在基板上的顯示區(qū)域形成周期性的突起及凹陷，在顯示區(qū)域的外側(cè)形成框膠涂覆凹陷；
[0016]在所述突起的表面涂覆遮光材料并進行處理，以形成黑色矩陣；
[0017]在所述凹陷的表面涂覆色阻材料并進行處理，以形成色阻層；
[0018]在所述黑色矩陣和所述色阻層上涂覆透明導電材料，以形成透明導電電極。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，還提供了一種用于制作彩膜基板的方法，包括:
[0020]在基板上涂覆光阻材料；
[0021]對涂覆的光阻材料進行處理，以裸露出部分基板；
[0022]對裸露的基板進行蝕刻處理，以在基板上的顯示區(qū)域形成周期性的突起及凹陷，在顯示區(qū)域的外側(cè)形成框膠涂覆凹陷；
[0023]在所述凹陷的表面涂覆色阻材料并進行處理，以形成色阻層；
[0024]在所述突起和所述色阻層上涂覆透明導電材料，以形成透明導電電極。
[0025]根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，還提供了一種用于制作彩膜基板的方法，包括:
[0026]在基板上涂覆光阻材料；
[0027]對涂覆的光阻材料進行處理，以裸露出部分基板；
[0028]對裸露的基板進行蝕刻處理，以在基板上的顯示區(qū)域形成周期性的突起及凹陷，在顯示區(qū)域的外側(cè)形成框膠涂覆凹陷；
[0029]在所述突起的表面涂覆遮光材料并進行處理，以形成黑色矩陣；
[0030]在所述凹陷和所述黑色矩陣上涂覆透明導電材料，以形成透明導電電極。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，還提供了一種用于制作彩膜基板的方法，包括:
[0031]在基板上涂覆光阻材料；
[0032]對涂覆的光阻材料進行處理，以裸露出部分基板；
[0033]對裸露的基板進行蝕刻處理，以在基板上的顯示區(qū)域形成周期性的突起及凹陷，在顯示區(qū)域的外側(cè)形成框膠涂覆凹陷；
[0034]在所述突起和所述凹陷的表面涂覆透明導電材料，以形成透明導電電極。
[0035]本發(fā)明的有益效果:
[0036]本發(fā)明通過在彩膜基板側(cè)的基板上蝕刻出突起及凹陷，并采用突起支撐彩膜基板和對應的陣列基板，從而避免了制作隔墊物，節(jié)約了制作成本，提高了液晶盒的可靠性。
[0037]本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點可通過在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)和獲得。
【附圖說明】
[0038]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要的附圖做簡單的介紹:
[0039]圖1是傳統(tǒng)液晶盒的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖2是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的液晶盒結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖3是對本發(fā)明的彩膜基板涂覆框膠后一種液晶盒結(jié)構(gòu)示意圖；
[0042]圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的彩膜基板框膠涂覆處設置凹陷的一種液晶盒結(jié)構(gòu)示意圖；
[0043]圖5a_5f是根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的彩膜基板各工藝制程對應的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖；以及
[0044]圖6是對應圖5c的俯視示意圖。
【具體實施方式】
[0045]以下將結(jié)合附圖及實施例來詳細說明本發(fā)明的實施方式，借此對本發(fā)明如何應用技術手段來解決技術問題，并達成技術效果的實現(xiàn)過程能充分理解并據(jù)以實施。需要說明的是，只要不構(gòu)成沖突，本發(fā)明中的各個實施例以及各實施例中的各個特征可以相互結(jié)合，所形成的技術方案均在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
[0046]圖1是傳統(tǒng)液晶盒的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，由TFT陣列基板11和CF基板12構(gòu)成的液晶盒，通過隔墊物13控制液晶盒的厚度，以實現(xiàn)兩基板間厚度的均一性。隔墊物13設置在CF基板12的色阻層上，色阻層是由紅色阻塊121、綠色阻塊122和藍色阻塊123三種顏色的色阻塊按一定規(guī)則排列組成。這種方法對隔墊物13的材料和制成要求較高，還要將隔墊物13所在位置進行遮光。為保持像素的開口率，一般將隔墊物13設置在金屬走線位置，即在設計金屬走線的時候，需要為隔墊物13預留位置，降低了液晶面板的設計空間。
[0047]因此，本發(fā)明提供了一種彩膜基板，不需設置隔墊物即可實現(xiàn)對液晶盒的支撐。如圖2所示為根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的液晶盒結(jié)構(gòu)示意圖，以下參考圖2來對本發(fā)明的彩膜基板進行詳細說明。
[0048]該彩膜基板包括一基底，其中，該基底的顯示區(qū)域部分包括周期性的突起221和凹陷222，突起221用于在彩膜基板22與對應的陣列基板21貼合時起支撐作用，如圖2所不O
[0049]如圖2所示，彩膜基板22和陣列基板21構(gòu)成的液晶盒，通過彩膜基板22上的突起221支撐，進而通過突起221實現(xiàn)液晶盒厚度的均一性。這樣，就不需要在彩膜基板22上設置隔墊物進行支撐，省去了隔墊物制作流程，降低了制作成本。同時，也避免了隔墊物材料對液晶盒的不良作用，與該彩膜基板22與對應的陣列基板21也不需給隔墊物預留位置，增加了陣列基板21上金屬走線的設計空間。
[0050]另外，由于一般將隔墊物設置在金屬走線位置，隔墊物與陣列基板21和彩膜基板22的貼合面積較小。而在本發(fā)明中，可以將突起221與陣列基板21的接觸面積設置的較大，從而使得陣列基板21和彩膜基板22貼合地更為均勻。
[0051]在本發(fā)明的一個實施例中，突起221的圖案與黑色矩陣的圖案相同。在現(xiàn)有技術中，黑色矩陣可以采用傳統(tǒng)工藝設置在彩膜基板22上，也可以采用BOA(BM on Array，黑色矩陣貼附于陣列基板)技術，將黑色矩陣制備在陣列基板21上。突起221的圖案均可以與設置于彩膜基板22或陣列基板21上的黑色矩陣圖案相同。
[0052]在將黑色矩陣設置在彩膜基板22上時，突起221的表面設有黑色矩陣23。如圖3所示，該黑色矩陣23設置在突起221上，突起221結(jié)合黑色矩陣23及黑色矩陣上的導電電極24共同起到支撐作用。該結(jié)構(gòu)的彩膜基板22，應的陣列基板21上就可以采用傳統(tǒng)設置，即不需要在陣列基板21上設置黑色矩陣。
[0053]將黑色矩陣制備在陣列基板21上時，突起221的表面不需設置黑色矩陣，陣列基板21和彩膜基板22之間由突起221及突起221上的導電電極24進行支撐。由于彩膜基板22的基底一般由透明材料制成，比如采用玻璃基板作為基底，導電電極24也為透明材料，在不影響彩膜基板22上其他結(jié)構(gòu)布局(如色阻層)和陣列基板21上的布線布局的情況下，突起221與彩膜基板22的接觸面積可以設置的盡可能大，從而使彩膜基板22和陣列基板21貼合更為均勻。當然，由于基底一般為透明材料，突起221也可以和陣列基板21上的黑色矩陣圖案不對應，在不影響彩膜基板22和陣列基板21的布局情況下，只要起到支撐作用即可。
[0054]在本發(fā)明的一個實施例中，凹陷222的表面設置有色阻層。如圖2所示，在彩膜基板22的基底上