一方向上以高分辨率寫入特征，物理地旋轉(zhuǎn)工件，使其對準(zhǔn)第一圖案(可能使用關(guān)于對準(zhǔn)的來自同時未決申請的方法)，在第二方向(通常垂直于第一方向)上以高分辨率寫入第二組特征。
[0110]第四操作模式是利用本申請闡述的方法寫入一組窄線，然后通過化學(xué)方法(尤其通過定向自組裝)加乘(multiply)節(jié)距。
[0111]實(shí)施本公開的技術(shù)的第五模式是光柵化輸入圖案為區(qū)域采樣位圖，然后提取單行像素值，尋找照明意在較低的相位轉(zhuǎn)換點(diǎn)，并在相位轉(zhuǎn)換點(diǎn)在O和180度之間切換相位。
[0112]工業(yè)實(shí)用件
[0113]本公開的技術(shù)是使一系列圖案(比如圖18C所示的那些圖案)成為可能。通過使用雙通過寫入，在各通過之間旋轉(zhuǎn)工件的情況下，可以寫入比圖18C所示更多的一般圖案。分辨率可由已知工藝進(jìn)一步改善。已知用圖案生成器寫入線或點(diǎn)圖案，并通過多種方法加乘(multiply)節(jié)距:第一方法是寫入多個交錯組薄線，從而產(chǎn)生節(jié)距，該節(jié)距本身太小以至于不能由圖案生成器分辨。第二個是在處理期間通過繞每個寫入特征化學(xué)建造壁在每條線之外產(chǎn)生兩條線，并使用該壁作為兩個新的特征。第三個已知方法是使用所謂的定向自組裝，見通過引用并入本申請的US7790350B2。該專利(還包含參考其它關(guān)于自組裝的出版物)描述了一類材料，二嵌段共聚物(diblock copolymers)，其中，長方形分子具有有不同表面能量的端部。分子的一端可基于PPMA，另一端基于聚苯乙烯。當(dāng)這些分子的混合物作為膜擴(kuò)散在表面上時，它們自然地形成平行薄片(或者柱狀膠束(columnar micelle),取決于化學(xué)方程式)。薄片在短范圍中形成平行線，在長范圍中形成混沌圖案。結(jié)果可以類似于具有不規(guī)則圖案中的平行線的指紋(fingerprint)?？赏ㄟ^光刻特征(例如，平行線)控制長范圍順序，并使二嵌段共聚物形成薄的平行線，其還呈現(xiàn)幾乎完美的長范圍順序。如果共聚物想要形成具有10nm節(jié)距的線，則其擴(kuò)散在300nm的溝槽中，它們將300nm溝槽分為三個窄溝槽。線或溝槽可由此除以整數(shù)，比如2、3、4、5等?？茖W(xué)文獻(xiàn)中描述的所有三種方法可將寫入溝槽分為兩個、三個或許多溝槽。本申請的方法可用于產(chǎn)生例如具有0.4微米節(jié)距的線圖案，其除以2得到0.2微米，或者除以四得到0.1微米。使用本申請中闡述的方法，在具有約0.5有效NA的大區(qū)域圖案生成器中寫入可產(chǎn)生具有0.5微米節(jié)距的規(guī)則線。通過化學(xué)方法(例如，通過自組裝)使這些線的節(jié)距除以四會提供具有0.125微米節(jié)距或63納米線和間隙的規(guī)則線圖案。更高NA和/或除以更大整數(shù)可提供甚至更小的線。這可以是工業(yè)可行方法，以在窗口區(qū)域或TV屏幕上均勻地產(chǎn)生63nm或更小平行線的線圖案。約50nm的線(是亞光學(xué)，它們不能由可見光分辨，但是經(jīng)由有效指數(shù)張量(indextensor)作用在光上)可用作偏振修改結(jié)構(gòu)，例如線柵格偏振器或延遲器(retarder)，或者它們可具有期望的納米物理特性，例如自清潔或與坯體(bulk)不同的材料特性。自組裝線寬取決于使用的分子，并可在從5至100納米的范圍內(nèi)。通常，線的寬度落入10至50nm的范圍中。為了引導(dǎo)它們的組裝，需要主要線，它們至多為幾倍大。如果整數(shù)除數(shù)(dividinginteger)太大，例如20，則其可在19、20和21之間變化，這取決于引導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的局部誤差。由于本申請教導(dǎo)了使光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生更小特征的方法，所以有許多這樣的情況，提出的技術(shù)針對自組裝成為可能，尤其在大表面上。有其它方法產(chǎn)生具有約50nm或更小的結(jié)構(gòu)的大裝置，例如納米壓印，其中，復(fù)制模板，但是仍有制作模板的問題。這種模板可由本申請所述方法制作，即通過使用在一維場中的相位控制的光刻，以提供隨后的自組裝步驟的引導(dǎo)結(jié)構(gòu)，自組裝步驟產(chǎn)生從63納米下降至約10納米的結(jié)構(gòu)。
【主權(quán)項】
1.一種簡化縮寫為AOM的聲光調(diào)制器的操作的方法，所述聲光調(diào)制器用于調(diào)制激光束，并改進(jìn)對所述激光束的相位控制，所述方法包括: 數(shù)字計算具有表示圖像圖案數(shù)據(jù)的波形振幅調(diào)制和相位控制的波形的樣本點(diǎn)； 使用縮寫為DAC的數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器將數(shù)字波形樣本點(diǎn)轉(zhuǎn)換為模擬射頻信號，射頻縮寫為RF ;以及 將模擬RF信號施加到AOM換能器，以調(diào)制激光束，并產(chǎn)生圖像。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述圖像圖案數(shù)據(jù)輸出處于50MHz至10MHz范圍中的頻率。3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述數(shù)字波形頻率是圖像圖案數(shù)據(jù)頻率的整數(shù)倍。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述模擬RF信號的頻率是圖像圖案數(shù)據(jù)頻率的整數(shù)倍。5.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述模擬RF信號的頻率是圖像圖案數(shù)據(jù)頻率的整數(shù)倍。6.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括在所述圖像圖案數(shù)據(jù)的連續(xù)輸出像素之間在正負(fù)振幅之間交替； 其中，所述連續(xù)輸出像素的正負(fù)振幅之間的相消干涉在連續(xù)所述輸出像素的白區(qū)域之間產(chǎn)生暗區(qū)域。7.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括使用多個FPGA產(chǎn)生所述波形的多路復(fù)用的樣本點(diǎn)。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，每個數(shù)字波形周期內(nèi)計算整數(shù)個樣本點(diǎn)。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，每個數(shù)字波形周期內(nèi)計算四個樣本點(diǎn)。10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述DAC的時鐘為所述數(shù)字波形的頻率的整數(shù)倍。11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述數(shù)字波形的波長是所述數(shù)字波形的可用相位控制偏移的整數(shù)倍。12.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述相位控制偏移使所述數(shù)字波形偏移90度倍數(shù)的相對相位。13.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括調(diào)制所述波形以通過所述AOM的晶體上的相消干涉使激光束消失。14.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括將輸出RF功率變化降低至由使用恒定相位和振幅產(chǎn)生的功率變化的一半，以產(chǎn)生灰色像素。15.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括在所述圖像圖案數(shù)據(jù)的輸出像素內(nèi)在正負(fù)振幅之間交替。16.如權(quán)利要求15所述的方法，還包括通過在所述圖像圖案數(shù)據(jù)的輸出像素內(nèi)在正負(fù)振幅之間交替而通過相消干涉使所述激光束基本消失。17.如權(quán)利要求15所述的方法，還包括通過在所述圖像圖案數(shù)據(jù)的連續(xù)輸出像素中在正負(fù)振幅之間交替而通過相消干涉使所述激光束基本消失。18.如權(quán)利要求15所述的方法，還包括通過在所述圖像圖案數(shù)據(jù)的輸出像素內(nèi)在正負(fù)振幅之間交替而通過相消干涉使所述激光束灰階化。19.如權(quán)利要求18所述的方法，還包括相對于當(dāng)產(chǎn)生所述激光束的白像素時施加的RF功率，當(dāng)在所述正負(fù)振幅之間交替時，維持基本恒定的RF功率。20.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括將所述激光束引導(dǎo)通過聲光偏轉(zhuǎn)器，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器具有啁啾，其被數(shù)字合成并同步于用于產(chǎn)生所述數(shù)字波形的時鐘。21.如權(quán)利要求1-20任一項所述的方法，還包括使用在具有一維光學(xué)場的光學(xué)寫入器中寫入精細(xì)節(jié)距圖案的所述方法，所述一維光學(xué)場具有縱向和橫向方向，所述光學(xué)寫入器在所述橫向方向上掃描，所述方法包括以下動作: 接收圖案，在該圖案中，精細(xì)節(jié)距線被限制為在平行于所述光學(xué)場的橫向方向的30度內(nèi)延伸，其中，所述一維光學(xué)場在所述縱向方向部分相干； 光柵化圖案，使得所述圖案在所述縱向方向上從亮到暗的過渡導(dǎo)致由所述光柵化產(chǎn)生的像素數(shù)據(jù)的振幅的實(shí)部的符號反向；以及 在所述一維光學(xué)場中將光調(diào)制至復(fù)振幅，其中，所述復(fù)振幅的實(shí)部遵循所述像素數(shù)據(jù)的符號，由此，能夠分辨低至約0.25*波長/NA的線間隔圖案。22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中，所述精細(xì)節(jié)距線進(jìn)一步限制為在平行于所述橫向方向的15度內(nèi)延伸。23.如權(quán)利要求21所述的方法，擴(kuò)展到雙模式寫入，還包括: 提供第二寫入模式，其中，光柵器使像素數(shù)據(jù)僅具有所述振幅的非負(fù)實(shí)部；以及 通過改變由所述光柵器使用的算法而在各模式之間切換，由此，將新的高分辨率模式添加到系統(tǒng)中，而不必犧牲常規(guī)寫入的靈活性和圖像質(zhì)量。24.如權(quán)利要求21所述的方法，還包括使用在光柵掃描激光寫入器中產(chǎn)生部分相干寫入條件的所述方法，包括: 提供具有聲速的聲光調(diào)制器； 使用具有縮小因子的投射光學(xué)系統(tǒng)使工件上的光束覆蓋至少兩個像素；以及 以大致匹配所述調(diào)制器中的聲速除以所述縮小因子的速度在工件上掃描光束，由此，在所述工件上形成所述調(diào)制器中的像素的靜態(tài)圖像，鄰近像素之間有干擾，但是在長距離上沒有干擾。25.一種借助至少一個聲光調(diào)制激光束在工件上高度精確地光學(xué)寫入圖案的系統(tǒng)，包括: 光柵器，將輸入矢量轉(zhuǎn)換為像素位圖； 數(shù)字調(diào)制器，聯(lián)接到所述光柵器，其中，所述數(shù)字調(diào)制器計算以表示所述像素位圖的像素數(shù)據(jù)調(diào)制的波形的樣本點(diǎn)；以及 縮寫為DAC的數(shù)字模擬轉(zhuǎn)換器，聯(lián)接到所述數(shù)字調(diào)制器，其中，DAC將所述樣本點(diǎn)轉(zhuǎn)換為適于驅(qū)動聲光調(diào)制器的換能器的模擬射頻(“RF”)信號。26.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中，所述像素數(shù)據(jù)被計算為表示具有相位O和180度的RF信號。27.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其中，所述像素數(shù)據(jù)被計算為表示具有附加相位90度和270度的RF信號。28.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其中，所述RF信號的相位在像素內(nèi)改變。29.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，還包括: 第一時鐘，控制所述數(shù)據(jù)的像素的加載；以及 第二時鐘，控制所述RF信號的采樣， 其中，所述第二時鐘以所述第一時鐘的頻率的整數(shù)倍的頻率進(jìn)行操作。30.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，還包括: 第一時鐘信號，控制所述像素數(shù)據(jù)的加載； 第二時鐘信號，控制所述調(diào)制器RF信號的采樣； 第三時鐘信號，針對所述聲光偏轉(zhuǎn)器控制頻率數(shù)據(jù)的加載；以及 第四時鐘信號，控制所述RF到偏轉(zhuǎn)器的采樣， 其中，所有四個時鐘信號同步。31.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其中， 通過在O和180度之間快速翻轉(zhuǎn)所述相位來調(diào)制暗像素的像素數(shù)據(jù)。32.如權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，其中， 通過將所述像素分為兩部分并以不同振幅調(diào)制這兩部分來調(diào)制灰色像素的像素數(shù)據(jù)，所述不同振幅被計算出以減少RF功率在所述聲光調(diào)制器中的變化。33.如權(quán)利要求25-32中任一項所述的系統(tǒng)，還包括: 提供具有聲速的聲光調(diào)制器； 提供具有縮小因子的投射光學(xué)系統(tǒng)使工件上的光束覆蓋至少兩個像素；以及提供聲光偏轉(zhuǎn)器，所述聲光偏轉(zhuǎn)器具有啁啾，其被數(shù)字合成并同步于用于產(chǎn)生所述數(shù)字波形的時鐘，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器構(gòu)造成偏轉(zhuǎn)所述光束使得所述光束以大致匹配調(diào)制器中的聲速除以縮小因子的速度在所述工件上掃描，由此，在所述工件上形成所述調(diào)制器中的像素的靜態(tài)圖像，鄰近像素之間有干擾，但是在長距離上沒有干擾。
【專利摘要】一種用于高度精確地圖案化裝置，例如大區(qū)域光掩模的激光寫入器，具有數(shù)值調(diào)制器，其計算要供給至聲光調(diào)制器的調(diào)制器RF的瞬時值。進(jìn)一步改進(jìn)允許通過減少聲光調(diào)制器中的RF功率變化來通過相位控制和減少的誤差來增加分辨率。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105209975
【申請?zhí)枴緾N201480025376
【發(fā)明人】P.斯滕斯特羅姆, C.哈特曼, T.桑德斯特羅姆
【申請人】麥克羅尼克邁達(dá)塔有限責(zé)任公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2014年3月13日
【公告號】EP2972588A2, WO2014140193A2, WO2014140193A3