第3排依次變大，所述光斑31在測量方向上的寬度可以是 0? 2mm~1mm，優(yōu)選的，第0排光斑31在測量方向上的寬度為0? 45mm，第1排光斑31在測 量方向上的寬度為〇? 6mm，第2排光斑31在測量方向上的寬度為0? 75mm，第3排光斑31在 測量方向上的寬度為〇. 9mm。第-1排至第-3排的光斑31在測量方向上的寬度分別與第1 排至第3排對應(yīng)相等。此外，所述多個光斑31的朝向一致，即皆是朝向垂直測量方向SC的 X方向。
[0036] 下面結(jié)合圖1，對本實(shí)施例中的投影狹縫3應(yīng)用于調(diào)焦調(diào)平傳感器進(jìn)行測量時的 工作情況加以闡述。在圖1中，若非有特別說明，其各部件的具體結(jié)構(gòu)請參考【背景技術(shù)】的引 用文獻(xiàn)，在此不對其進(jìn)行詳述。
[0037]所述調(diào)焦調(diào)平傳感器的光電探測器陣列11配備有對應(yīng)于每一個光斑31的信號處 理通道，在實(shí)際測量中可以通過部分地啟用光斑的測量通道以達(dá)到所需要的測量精度和量 程，并可以避免不同信號通道間的信號干擾。
[0038] 可選地，在調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)工作時，亦可以將實(shí)時測得的硅片面12形貌信息反饋給 控制系統(tǒng)，控制系統(tǒng)通過控制掃描反射鏡6的振幅使其掃描振幅實(shí)時變化以適應(yīng)不同的測 量光斑。
[0039] 具體實(shí)現(xiàn)過程描述如下：調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)工作時，首先將掃描反射鏡6的掃描振幅 設(shè)置為低精度測量光斑寬度，如第3排和第-3排的光斑寬度，進(jìn)行低精度測量，此時只開啟 第3排和第-3排對應(yīng)的光電探測器陣列11的通道，其它通道關(guān)閉，避免不同信號通道間的 信號干擾。接著，掃描反射鏡6的掃描振幅設(shè)置為相對高精度測量光斑寬度，如第1和第-1 排的光斑寬度，進(jìn)行高精度測量，此時只開啟第1排和第-1排對應(yīng)的光電探測器陣列11的 通道，其它通道關(guān)閉，避免不同信號通道間的信號干擾。當(dāng)然，對掃描反射鏡6的掃描振幅 設(shè)置并不限于本實(shí)施例所述，業(yè)內(nèi)人士在面臨不同的需要時，能夠在本實(shí)施例的基礎(chǔ)上采 用合適的掃描振幅設(shè)置序列，從而實(shí)現(xiàn)測量精度由低到高，測量量程由大到小的過渡，降低 了在測量過正中尋找光斑的難度，使測量過程更易于控制。
[0040] 請參考圖3,其為本發(fā)明第二實(shí)施例的投影狹縫形成的光斑的示意圖。為了使得描 述簡潔，本實(shí)施例僅描述與第一實(shí)施例的區(qū)別之處。本實(shí)施例包括7排光斑31，各排光斑31 的大小形狀一致，每排中光斑31的朝向一致且異于相鄰排的光斑31的朝向。具體表現(xiàn)在， 中間的第〇排朝向?yàn)榇怪睖y量方向SC，即沿X方向，其余排按距離中間的第0排自近而遠(yuǎn)起 由X方向沿順時針方向逐漸傾斜，所述傾斜范圍為0~90°。優(yōu)選的，在第1排和第-1排 中，傾斜角度ct為15°，在第2排和第-2排中，傾斜角度P為30°，在第3排和第-3排 中，傾斜角度Y為45°。對于具有其他排數(shù)的情況下，每排的傾斜角度可在0~90°之間 采取漸進(jìn)式變動。本實(shí)施例采用了每排光斑31的大小形狀相同的設(shè)計，通過使得每排光斑 31有著特定的角度，同樣實(shí)現(xiàn)了能夠獲得漸進(jìn)變化的測量精度和測量量程。
[0041] 利用本實(shí)施例的投影狹縫3應(yīng)用于調(diào)焦調(diào)平傳感器進(jìn)行測量時的工作情況與第 一實(shí)施例類同，在此不做贅述。
[0042] 請參考圖4,其為本發(fā)明第三實(shí)施例的投影狹縫形成的光斑的示意圖。為了使得 描述簡潔，本實(shí)施例僅描述與第一實(shí)施例的區(qū)別之處。本實(shí)施例包括7排光斑31，相鄰排 的光斑31在測量方向SC上寬度按照設(shè)定規(guī)格變化，每排中光斑31的朝向一致且異于相鄰 排的光斑31的朝向。這表現(xiàn)在，位于中間的第0排光斑31及位于其一側(cè)的多排光斑31在 測量方向SC上的寬度呈等差分布，即具有第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)特征，此外，還具有第二實(shí)施 例的結(jié)構(gòu)特征，中間的第〇排朝向?yàn)榇怪睖y量方向SC，即沿X方向，但是與第二實(shí)施例不同 的是，其余排按距離中間的第〇排自遠(yuǎn)而近起由X方向沿順時針方向逐漸傾斜，所述傾斜范 圍為0~90°。具體的，在第1排和第-1排中，傾斜角度a為45°，在第2排和第-2排 中，傾斜角度0為30°，在第3排和第-3排中，傾斜角度Y為15°。對于具有其他排數(shù) 的情況下，每排的傾斜角度可在〇~90°之間采取漸進(jìn)式變動。本實(shí)施例采用了每排光斑 31的大小形狀不同，并且使得每排光斑31有著特定的角度，同樣實(shí)現(xiàn)了能夠獲得漸進(jìn)變化 的測量精度和測量量程。
[0043] 利用本實(shí)施例的投影狹縫3應(yīng)用于調(diào)焦調(diào)平傳感器進(jìn)行測量時的工作情況與第 一實(shí)施例類同，在此不做贅述。
[0044] 通過上述實(shí)施例，將本發(fā)明的投影狹縫及調(diào)焦調(diào)平傳感器的特征展現(xiàn)出來。在本 發(fā)明中，所述投影狹縫能夠在待測表面形成沿測量方向排布的M排光斑，所述光斑具有多 種形狀或朝向，以實(shí)現(xiàn)漸進(jìn)式多精度、多量程的測量。相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明中的光斑分布 具有漸進(jìn)測量精度和漸進(jìn)量程，可以適應(yīng)不同的測量精度需求。對同一被測對象，可以實(shí)現(xiàn) 測量精度由低到高，測量量程由大到小的過渡，降低了在測量過正中尋找光斑的難度，使測 量過程更易于控制。
[0045] 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精 神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍 之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種投影狹縫，用于在待測表面形成沿測量方向排布的M排光斑，其特征在于，所述 光斑具有多種形狀或朝向。2. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，所述M排光斑沿測量方向上呈多排分 布，每排中包含多個大小、形狀一致的光斑。3. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，以位于中間的一排光斑為基準(zhǔn)，其余排 光斑在所述基準(zhǔn)兩側(cè)排布。4. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特在于，以位于中間的一排光斑為基準(zhǔn)，所述基準(zhǔn) 兩側(cè)距離所述基準(zhǔn)等距處的兩排光斑的形狀及朝向相同。5. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，相鄰排的光斑在測量方向上寬度按照 設(shè)定規(guī)格變化。6. 如權(quán)利要求5所述的投影狹縫，其特征在于，位于中間的一排光斑及位于其一側(cè)的 多排光斑在測量方向上的寬度呈等差分布，中間排的光斑的寬度最小。 7?如權(quán)利要求6所述的投影狹縫，其特征在于，所述光斑的寬度為0? 2mm~1mm。8. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，各排光斑的大小形狀一致，每排中光斑 的朝向一致且異于相鄰排的光斑的朝向。9. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，中間的一排朝向?yàn)榇怪睖y量方向，其余 排按距離中間的一排自近而遠(yuǎn)起由垂直測量方向沿順時針方向逐漸傾斜。10. 如權(quán)利要求9所述的投影狹縫，其特征在于，所述傾斜范圍為O~90°。11. 如權(quán)利要求1所述的投影狹縫，其特征在于，相鄰排的光斑在測量方向上寬度按照 設(shè)定規(guī)格變化，每排中光斑的朝向一致且異于相鄰排的光斑的朝向。12. 如權(quán)利要求11所述的投影狹縫，其特征在于，位于中間的一排光斑及位于其一側(cè) 的多排光斑在測量方向上的寬度呈等差分布，中間排的光斑的寬度最小。13. 如權(quán)利要求12所述的投影狹縫，其特征在于，所述光斑的寬度為0. 2mm~1mm。14. 如權(quán)利要求11所述的投影狹縫，其特征在于，中間的一排朝向?yàn)榇怪睖y量方向，其 余排按距離中間的一排自遠(yuǎn)而近起由垂直測量方向沿順時針方向逐漸傾斜。15. 如權(quán)利要求14所述的投影狹縫，其特征在于，所述傾斜范圍為0~90°。16. -種調(diào)焦調(diào)平傳感器，包括投影狹縫及光電探測器陣列，其特征在于，所述投影狹 縫為如權(quán)利要求1~15中任意一項(xiàng)所述的投影狹縫；所述光電探測器陣列配備有對應(yīng)于每 一個光斑的信號處理通道。
【專利摘要】本發(fā)明揭示了一種投影狹縫及調(diào)焦調(diào)平傳感器，所述投影狹縫用于在待測表面形成沿測量方向排布的M排光斑，所述光斑具有多種形狀或朝向，以實(shí)現(xiàn)漸進(jìn)式多精度、多量程的測量。所述調(diào)焦調(diào)平傳感器包括所述投影狹縫及光電探測器陣列，所述光電探測器陣列配備有對應(yīng)于每一個光斑的信號處理通道。本發(fā)明中的光斑分布具有漸進(jìn)測量精度和漸進(jìn)量程，可以適應(yīng)不同的測量精度需求。對同一被測對象，可以實(shí)現(xiàn)測量精度由低到高，測量量程由大到小的過渡，降低了在測量過正中尋找光斑的難度，使測量過程更易于控制。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105223780
【申請?zhí)枴緾N201410243346
【發(fā)明人】孫昊
【申請人】上海微電子裝備有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2014年6月3日